【解決手段】基板上に少なくとも２つの導電層を形成することを含む微小電気機械素子を製造する方法。絶縁層が２つの導電層の間に形成される。導電層は互いに電気的に結合され、次に絶縁層が除去され、導電層間に隙間を形成する。層の電気的な結合は、除去プロセスの間に素子上に増える静電荷の影響を除く。 （もっと読む）

エレクトロウェッティングセル（１５）は外側壁（９０）及び内側壁（８０）を有し、外側壁（９０）は内側壁（８０）の反対側に伸びている拡張部（８５、８６）を備えている。セル（１５）は、体積拡大のためのメンブレン（４５）を更に備え、電気メッキ層（９５）により密封されている。
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エレクトロウェッティングセル（１５）は外側壁（９０）及び内側壁（８０）を有し、外側壁（９０）は内側壁（８０）の反対側に伸びている拡張部（８５、８６）を備えている。セル（１５）は、体積拡大のためのメンブレン（４５）を更に備え、電気メッキ層（９５）により密封されている。
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光クロスコネクトスイッチ。このスイッチにおいては、各々が通信ビームを搬送する入力光ファイバ群中のいずれかの光ファイバを、出力光ファイバ群中のいずれかの光ファイバへとクロスコネクトすることが出来る。入力光ファイバ群中の各ファイバが搬送する通信ビームには、アライメントビームが付加され、これと同軸にアライメントされることにより、各ファイバ用に通信―アライメントビームが画定されている。各通信―アライメントビームは閉じ込められた光経路中を送られて入力アレイ構造体中にある特定の出射孔へと向けられる。全ての通信―アライメントビームの出射孔は入力アレイを画定するパターンに配置されており、これにより通信―アライメントビームの各々は、入力アレイ構造体におけるその出射孔の位置によって識別することが出来る。通信―アライメントビームの各々は、第一のレンズマイクロレンズアレイ中の１つのマイクロレンズにより、クロスコネクションビームへと形成される。各クロスコネクションビームは、第一のミラーアレイ中の第一のミラー及び第二のミラーアレイ中の第二のミラーという２枚のミラーにより、第二のレンズアレイ中の１つのレンズへと向けられる。第二のレンズアレイ中のこのレンズは、通信ビームを出力アレイ構造体中の、望ましくは光ファイバである、閉じ込められた光経路の特定の入射孔へとフォーカスする。出力アレイ構造体中の閉じ込められた光経路の各々は、出力光ファイバ群中の１本の光ファイバに光学的に接続している。第二のレンズアレイの付近に配置された第一のデテクタアレイは、各アライメントビームの位置をモニタし、ミラーアレイの少なくとも一方におけるミラー制御用に位置情報をプロセッサへと供給する。
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主に可変焦点レンズとして用いられるエレクトロウェッティングセル（１５）は、第１及び第２非混和製流体（５１、５２）を有する流体チャンバ（５０）を有し、第１及び第２非混和製流体（５１、５２）はメニスカス（１４）を介して接触し、第１流体（５１）は極性であり、第２流体（５２）は電気導電性である。流体チャンバ（５０）は内側面（１８）を備え、その流体チャンバ内に流体接触層（１０）が存在し、その流体接触層は第１流体に対して固有の引力を有する。電極は、この流体接触層（１０）により得流体チャンバから分離されている。流体チャンバ（５０）は、接触点（１０２）で内側面（１８）の動作点より小さい直径を有するように構成される一方、動作点（１０１）に対する接線（Ｒ１）は第２点（１０２）に対する接線（Ｒ２）よりセル（１５）の光軸（ＯＡ）と小さい角度を囲む。これは、第２点（１０２）で内側壁（１８）に接するメニスカス（１４）は光軸の方に方向付けられ、セル（１５）は低い構成高さを有することをもたらす。

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ＭＥＭＳデバイス内の妨害を相殺するためのシステム及び方法。システム２００は、基板２０５と、複数の個々に移動可能なＭＥＭＳ素子２０３−１〜２０３−Ｎを含むことができるＭＥＭＳデバイス２０３、並びに制御アセンブリ２０７を含む。光学システム２００は、ＭＥＭＳデバイスのアレイを使用する何れかの光学装置の一部において利用することができ、及び／又は該光学装置の一部を形成することができる。制御アセンブリ２０７は、ＭＥＭＳ２０３における妨害を相殺する、より詳細にはスイッチング又は動作ミラーによって引き起こされるＭＥＭＳデバイス２０３の非スイッチング又は静止ミラーでの妨害を相殺するフィードフォワード制御信号を使用する。 （もっと読む）

本発明は、容器を含む光学装置を開示し、容器は、絶縁性液体（Ａ）と電場に反応する液体（Ｂ）とを収容し、絶縁性液体（Ａ）と電場に反応する液体（Ｂ）は、不混和性があり、互いに界面（１４）を介して接触し、前記２つの液体（Ａ；Ｂ）の一方の液体が少なくとも該容器を通る光路上に少なくとも部分的に配置される。光学装置は、更に、前記界面（１４）の形状を電圧により制御する電極構成（２；１２）、及び、前記界面（１４）が外部の電場に晒されるのを防ぐ手段（１００）を含む。これにより、光学装置の表面上の静電気の電荷の蓄積が防止され、これにより、電場に反応する液体（Ｂ）と静電気の電荷との相互作用により生ずる界面（１４）の望ましくない歪が防止される。
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例えばオイルの層の分裂又はオイルの層の移動に基づいており、且つ少なくとも２つの異なる状態を有するディスプレイデバイスであって、壁（１３）の高さが、ピクセルの幅と、充填針（１５）の先端におけるオイル界面の一般的な曲率とに比較して大きくはなく、ピクセルに針を挿入することなくピクセルに充填される、ディスプレイデバイス。充填針をピクセルに入れる必要がないため、比較的大きな注入針からのオイル（５）によってピクセルを充填することができる。 （もっと読む）

空間光変調器（２００）を使用する表示装置などの表示装置（９００）を含む様々な装置に使用する、復帰電極（４１８、５１８、６１８、７１８、８１８）を有する微小電気機械装置であって、光透過基板（２１４、３２０、４１４、５１４、６１４、７１４、８１４）、半導体基板（２１２、３１８、４１２、５１２、６１２、７１２、８１２）、および基板（２１４、３２０、４１４、５１４、６１４、７１４、８１４、２１２、３１８、４１２、５１２、６１２、７１２、８１２）のうちの１つによって支持され、静止位置と動作位置の間で撓むことができる部材（２１０、４１０、５１０、６１０、７１０、８１０）を含む。可撓部材（２１０、４１０、５１０、６１０、７１０、８１０）は、復帰電極（４１８、５１８、６１８、７１８、８１８）の動作によって非撓み位置に戻る。
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制御可能な光学レンズシステムは、第1および第2の流体を収容するチャンバであって、前記流体の界面がレンズ表面を定形する、チャンバを有する。電極配置は、レンズ表面の形状を制御し、第1および第2の電極を有する。第1および第2の電極間の、少なくとも一つのレンズ流体を介した電気抵抗に依存するシステムによって、パラメータが決定される。すなわち、レンズ流体を介した直列抵抗が、メニスカス位置の測定に使用される。
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制御可能な光学レンズは、第1および第2の流体を収容するチャンバであって、前記流体の界面がレンズ表面を定形する、チャンバを有する。電極配置は、レンズ表面の形状を制御するとともに、レンズ表面の形状を検出する。電極配置は、レンズの光学軸の周囲の異なる角度方向に、複数の電極セグメントを有する。表面特性は、複数の電極セグメントから、複数の角度方向において検出され、このようにして、レンズの周囲の異なる角度方向での、複局部的な形状特性が定められる。これにより、非対称性が検出される。
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その光活性部分を通過する放射線ビーム（ｂ）を制御し得る切替可能な光ユニットは、導電性液体（１８）を含む流体室（１０）を含み、流体室は、光活性部分の位置で室内壁（１２，１４）に取り付けられた少なくとも１つの第一電極（２０，２２）と、光活性部分の外側で室の内壁に取り付けられた第二電極手段（２４）と、伝導性液体に接続された第三電極（２８）とを含む。少なくとも１つの第一電極及び第二電極手段に電圧をそれぞれ印加することによって、ユニットが少なくとも２つの離散的状態の間で切り替えられるよう、光活性部分に出入りするよう伝導性液体を移動し得る。
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エレクトロウエッティング型可変焦点レンズを組み込む像センサでは、ゴースト像の発生を減少すなわち実質的に除去する手段が供されている。上述の型の可変焦点レンズは、第1流体(A)及び、軸上で変位する第2流体が供される筐体を有する。二流体は非混和で、メニスカス(14)上で接していて、各屈折率は異なっている。第1電極(2)及び第2電極(12)が供され、メニスカス(14)の形状は、第1電極(2)と第2電極(12)との間に印加される電圧に依存して制御可能である。ゴースト像発生を減少すなわち実質的に除去する様々な方法が準備されている。それらには、筐体の内壁及び/又は外壁の光学特性の変更、それらの反射率の減少、ゴースト像を遮断する像センサ中の手段及び、筐体を構成する適切な材料の選択及びそれらの組み合わせが含まれる。
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制御可能な光学レンズ系は、第1および第2の流体を収容するチャンバ室を有し、前記流体の界面は、レンズ表面を定形する。電極は、第1および第2の電極を有し、レンズ表面の形状を制御する。電源により電極配置に供給される電流は、モニターされ、供給電荷が求められる。また、電極配置の電極の一つの電圧がモニターされる。所望のレンズパワーを用いて、電極配置に供給される全電荷を制御する制御値が求められる。駆動方式は、レンズ特性のいくつかとは独立であり、容量性検知を用いるフィードバック制御システムよりも簡単に実施することができる。
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屈折率に関連する収差を補正する光学素子(1)は、電極配置(2,12)と共に供される流体チャンバ(5)を有し、第1の導電性流体(B)、第2の非導電性流体(A)及び両流体の界面(14)を有する。両流体はそれぞれ異なるアッベ数を有する。電圧を電極配置に印加することで、エレクトロウエッティング力が生じ、界面形状を変化させ、補正力を決定する。
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本発明は、流体チャンバ1と複屈折部分とを具える光学系に関するものである。流体チャンバは、第１および第２の流体10、12を具え、これらの流体は異なる屈折率を有し、流体間の界面はメニスカス14を形成する。複屈折部分は、第１放射ビーム3bおよび第２放射ビーム3cの特性を変化させることができ、第１および第２の放射ビームは異なる偏光を有する。メニスカス構造の変更によって、第１放射ビームおよび第２放射ビームの特性変化が生じる。メニスカス構造の変化を、エレクトロウェッティングによって制御できる。
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１つ以上の異なる色のサブピクセルについて異なる材料を利用することにより最適化されたｉＭｏＤディスプレイがここに示される。そのような最適化されたディスプレイは、サブピクセルがすべて同じ材料で構成されるディスプレイに対して全色域を改善した。さらに、そのようなディスプレイを製造する方法、およびｉＭｏＤディスプレイを最適化する方法が示される。 （もっと読む）

デバイスは、互いに噛み合わされた関係で半導体ウェハ上に形成され、深掘反応性イオンエッチングによって解放される。ＭＥＭＳスキャナは周囲を取り囲むフレームを有さずに形成される。取付パッドは、ねじりアームから外向きに延びる。隣接するＭＥＭＳスキャナは、その互いに噛み合わされた取付パッドを備えて形成されるので、デバイスの周りに正多角形が形成されれば必ず１以上の隣接するデバイスの一部分とも交差する。ＭＥＭＳスキャナは、金属層、小さな半導体ブリッジ、または組み合わせによって、その輪郭内に保持されてもよい。
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本発明は重合した液晶層を有するシャッター素子を有する機械的シャッター(601)に関する。重合した液晶は異方的に配向している。一の主要面で配向は異方的である。反対側の主要面に向かって変動するとき、配向は熱膨張係数が変化するように変化する。熱のような非機械的手段を受けるとき、シャッター素子は変動する。たとえばスプレイ配向又はツイステッド・ネマティック配向が使用されるとき、素子は非機械的手段に応じて曲がる及びまっすぐになる。電極(604,605,606)は任意で素子上及び支持基板上に形成可能であり、素子が電極間に印加された電場により生じる静電力によって制御可能となる。本発明はさらにそのような機械的シャッターをその場重合を使用して製造する方法をも提供する。
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