【課題】クラッド部を伝搬する光をコア部から遠ざける手段を有することにより、信号光のＳ／Ｎ比を向上させ、高品質の光通信が可能な光導波路、およびかかる光導波路を備えた高性能の光配線、光電気混載基板および電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明の光導波路は、コア部と、コア部に隣接して設けられたクラッド部とを備える光導波路であって、クラッド部中に設けられ、コア部よりも屈折率が低く、コア部に接した低屈折率領域と、低屈折率領域よりも屈折率が高く、低屈折率領域を介してコア部から離間した平面視で粒状をなす複数の高屈折率領域とを有しており、複数の高屈折率領域は、クラッド部中に点在または整列している。また、各高屈折率領域は、それぞれコア部と同種の材料で構成されているのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】明るく高い均一性を有する光を出射することができる表示装置を提供する。
【解決手段】導光体１１は、光源２０から出射された光を導光する。光拡散部１３は、導光体１１に形成され、導光体１１が導光する光を拡散する。意匠表示部１２は、導光体１１に形成され意匠を表示する。低屈折率部１４は、導光体１１と意匠表示部１２との間に形成され、導光体１１よりも光の屈折率が低い。光拡散部１３は、２層以上の印刷層からなり、導光体１１の裏面１１２上に形成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平面の基板或いは平面ではない基板に異なる導波パターンを製作できる導波管の製作方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の導波管の製作方法は、基板を提供し、樹脂を前記基板に塗布し、前記樹脂が硬化して被覆部が形成されるというステップと、管口が設けられる容器を配置し、導波材料を、前記容器に装入した後、前記管口によって前記被覆部に向かって射出するというステップと、前記導波材料が紫外光を照射されることによって硬化し、前記被覆部に付着し、導波パターンが形成されるというステップと、を備える。 （もっと読む）

【課題】電気伝送を代替する光インターコネクション用の光結合回路を部品点数が少なく且つ安価に入手し得るようにし、損失の少ない送受信用光モジュールを提供すること。
【解決手段】光インターコネクション回路の一部を成す光結合回路１１を、ボード１０上に入力される光信号を一方の端部から他方の端部に案内する導波路１２と、この導波路１２の他方の端部に異なった方向への光信号の送受信を案内する４５度多重反射ミラー１４と、この４５度多重反射ミラー１４を介して光信号を送受信し外部に対して信号の授受を中継する信号伝達手段１５，２５…とを備え、前記導波路１２には前記４５度多重反射ミラー１４内での光信号の広がりを抑制する光レンズ部１２ｃを設け、この光レンズ部１２ｃを前記導波路と一体化するように構成した。そして、信号送受信用光モジュールでは、この光結合回路を装備した。 （もっと読む）

【課題】高い耐熱性、屈折率制御性、さらに低い硬化収縮性を有する光導波路形成用樹脂組成物、ドライフィルムおよびこれらを用いてなる光導波路を提供すること。
【解決手段】
（Ａ）シアネートエステルプレポリマーおよび／または１分子中に２個以上のシアネート基を有するシアネートエステル化合物、（Ｂ）フッ素原子含有化合物を必須成分として含有する組成物からなることを特徴とする光導波路形成用樹脂組成物、ドライフィルム、およびこれらを用いてなる光導波路である。 （もっと読む）

【課題】光導波路を切断して外形加工を行なう際に、アライメントマークの視認性の向上による切断位置の精度が向上してなる光導波路の製法を提供する。
【解決手段】基板１０表面にアンダークラッド層１，コア２，アライメントマーク２ａを形成する。つぎに、上記アライメントマーク２ａが露呈するようにフォトマスクを用いて、上記コア２を被覆するようオーバークラッド層３を形成し、上記基板１０を剥離して光導波路体を作製した後、上記アンダークラッド層１の裏面側からアライメントマーク２ａを基準として切断位置を位置決めし、上記アンダークラッド層１およびオーバークラッド層３を切断することにより光導波路を作製する。 （もっと読む）

【課題】コアパターン層の平坦性に優れ、光伝搬損失を低損失化すると共に、光伝搬損失のばらつきが少ない光導波路を有する光電気複合基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】第１下部クラッド層、そこに埋め込まれた配線パターン、コアパターン及び上部クラッド層を有する光電気複合基板の製造方法であって、（Ａ）支持体上に第１下部クラッド層を形成し、パターニングする工程と、（Ｂ）第１下部クラッド層のパターン形状の開口部に配線パターンを形成する工程と、（Ｃ）第１下部クラッド層上にコアパターンを形成する工程と、（Ｄ）コアパターンを覆うように上部クラッド層を形成する工程と、（Ｅ）支持体を除去して配線パターンを露出させる工程とを有する光電気複合基板の製造方法、並びに該方法によって製造された光電気複合基板。 （もっと読む）

【課題】伝送損失およびパルス信号の鈍りが小さく、信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】光導波路１は、コア層１３を有する。コア層１３は、少なくとも２つのクラッド部１５と、２つのクラッド部１５に隣接して設けられ、クラッド部１５の平均屈折率より平均屈折率が高く、かつ屈折率が中心部からクラッド部１５に向かって低くなっており、光を伝送するコア部１４とを備え、（メタ）アクリル系ポリマーと、この（メタ）アクリル系ポリマーと屈折率が異なるモノマーとを含む層に対して活性放射線を照射して、照射領域内において、モノマーの反応を進行させることにより、未照射領域から、未反応のモノマーを照射領域に拡散させ、結果として、照射領域と未照射領域との間に屈折率差を生じさせることにより、照射領域および未照射領域のいずれか一方をコア部１４とし他方をクラッド部１５としてなる。 （もっと読む）

【課題】発光素子と光導波路との光結合損失が小さく、高品質の光通信が可能な光導波路モジュール、かかる光導波路モジュールを効率よく製造可能な光導波路モジュールの製造方法、および、前記光導波路モジュールを備え、高品質の光通信が可能な電子機器を提供すること。
【解決手段】光導波路モジュール１０は、ミラー１６が形成された光導波路１と、その上方に設けられた回路基板２と、回路基板２上に搭載された発光素子３と、を有している。光導波路１は、下方からクラッド層１１、コア層１３およびクラッド層１２がこの順で積層されたものであるが、クラッド層１２の上面には、ミラー１６と発光素子３とを繋ぐ光路上の部位に、表面を局所的に凹没させた凹部を複数個配置してなる凹凸パターン１００が形成された構造体９が載置されている。この構造体９は、光導波路１の表面に光の反射防止機能を付与する。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐熱性、環境信頼性、強靭性に優れた光導波路を生産性及び作業性良く形成し得る光導波路用樹脂組成物及び光導波路形成用樹脂フィルム、及びこれらを用いた光導波路を提供すること。
【解決手段】（Ａ）カルボキシル基を有するポリマー、（Ｂ）ウレタン（メタ）アクリレート、（Ｃ）分子内に２つ以上のエポキシ基を有する化合物、及び（Ｄ）ラジカル重合開始剤を含む光導波路形成用樹脂組成物、該光導波路形成用樹脂組成物を用いた光導波路形成用樹脂フィルム、及びこれらを用いた光導波路。 （もっと読む）

【課題】光学設計を簡素化し、光損失を抑えることができる光導波路型センサチップを得ること。
【解決手段】光導波路層と、前記光導波路層へ光を入射させ、前記光導波路層外に前記光を出射させるよう、前記光導波路層の界面のうち一方の面の両端に配置された１対の光学素子と、前記光導波路層上の所定の領域に形成された機能膜と、前記光導波路層の前記光の入射面上の、少なくとも前記光学素子が配置された平面領域を含む平面領域に形成された被覆層と、入射側の前記光学素子に入射する前記光を通過させるように、前記被覆層に形成された第１の貫通孔と、出射側の前記光学素子から出射する前記光を通過させるように、前記被覆層に形成された第２の貫通孔と、を備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光軟性印刷回路基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材層１１０、２１０、３１０と、該基材層１１０、２１０、３１０の一部領域上に配設された光導波路パターン１２０、２２０、３２０と、該光導波路パターン１２０、２２０、３２０を有する該基材層１１０、２１０、３１０上に配設され、該光導波路パターン１２０、２２０、３２０により屈曲された表面プロファイルを有する絶縁層１３０、２３０、３３０と、該基材層１１０、２１０、３１０の一面に配設された回路配線１４０、２４０、３４０とを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、寸法精度に優れた光導波路形成用フィルムおよびその製造方法、ならびに高品質な伝送性能を発揮することが可能な光導波路、光配線、光電気混載基板、電子機器を提供することにある。
【解決手段】本発明の光導波路形成用フィルムの製造方法は、フィルム基材の上に光導波路用塗布液を塗布して、膜状体とする製膜工程と、前記膜状体を加熱する加熱工程と、を有する光導波路形成用フィルムの製造方法であって、前記加熱工程における加熱温度での前記フィルム基材の長尺方向の加熱収縮率が０．５％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＤＦＲ法により感光性高分子材料の層を形成する場合でも、耐屈曲性が良好なポリマー光導波路の製造方法を提供すること。
【解決手段】下部クラッド層５表面に、支持体フィルム１上に形成された感光性高分子材料からなるドライフィルム２を、減圧条件下に熱圧着により貼り合せてコア材料層７を形成する工程、前記コア材料層７上の前記支持体フィルム１を剥離する工程、前記コア材料層７の表面を平滑にするための熱処理をする工程、及び熱処理された前記コア材料層７に対してコア部９を形成するための所定形状のパターン露光をする工程を含むことを特徴とする光導波路１１の製造方法。 （もっと読む）

【課題】パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部（光路）を簡単な方法で形成することができ、また、耐久性に優れる光導波路を備えた光導波路構造体および電子機器を提供すること。
【解決手段】光導波路構造体１は、コア層９３の両面にクラッド層９１、９２を積層してなる光導波路９と、その両面にそれぞれ接合された導体層５１、５２と、光導波路９の光路をほぼ直角に屈曲させる光路変換部９６と、発光素子１０と電気素子１２とを備えている。コア層９３は、コア部９４とクラッド部９５とを有し、コア部９４は、（Ａ）環状オレフィン樹脂と、（Ｂ）前記（Ａ）とは屈折率が異なり、かつ環状エーテル基を有するモノマーおよび環状エーテル基を有するオリゴマーのうちの少なくとも一方と、（Ｃ）光酸発生剤と、を含む組成物で構成された層に対し光を選択的に照射することにより所望の形状に形成されたものである。 （もっと読む）

【課題】光回路のパターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高い光路を簡単な方法で形成することができ、耐久性に優れる光導波路を備えた光導波路構造体を提供すること。
【解決手段】光導波路構造体１は、凸部２１および凹部２２が形成された基板２と、基板２の上面に形成された金属層５と、凹部２２内に形成され、コア層９３の両面にクラッド層９１、９２を積層してなる光導波路９と、凸部２１の外周の傾斜面に形成され、伝送光１８を反射する反射面９６１と、基板３と、発光素子１０と、受光素子１１と、電子回路素子１２とを備えている。コア層９３は、コア部９４とクラッド部９５とを有し、コア部９４は、活性放射線の照射と加熱とにより屈折率が変化する材料で構成されたコア層９３に対し活性放射線を選択的に照射して所望形状に形成したものである。 （もっと読む）

【課題】低コストで製造工程が平易であり、しかもコア部とクラッド部の屈折率差が大きく、小型の集積回路に好適な光導波路及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】
下記の（Ａ）工程乃至（Ｅ）工程を含む光導波路の製造方法：（Ａ）工程：ベースの表面上に、互いに或る間隔の空間を形成するパターンを為すクラッド型材を配置する工程、（Ｂ）工程：配置されたクラッド型材の上側及びクラッド型材が配置されていないベース表面上に、チタン原子とケイ素原子を含む酸化物前駆物質を含有する液を用いて塗膜を形成する工程、（Ｃ）工程：前記塗膜に、所定のパターンを有するフォトマスクを通して放射線を照射し、続いて加熱処理し、これにより放射線照射された屈折率のより高いコア部を形成する工程、（Ｄ）工程：放射線未照射又は低放射線照射の領域を現像により溶解・除去する工程、及び（Ｅ）工程：クラッド型材をベース表面より除去し、オールエアクラッド光導波路の構造に作り上げる工程。 （もっと読む）

【課題】ロール・トゥ・ロール方式で作製可能なタックフリーと硬化感度を両立する、光導波路形成用液状樹脂組成物およびそれを用いた光導波路、ならびにその光導波路の製法を提供する。
【解決手段】下記の（Ａ）を主成分とし、下記の（Ｂ）および（Ｃ）成分を含有する光導波路形成用液状樹脂組成物である。
（Ａ）１分子中に複数の（メタ）アクリル基を有する（メタ）アクリレートポリマー。
（Ｂ）１分子中に複数のチオール基を有する液状チオールモノマー。
（Ｃ）光重合開始剤。 （もっと読む）

【課題】透明性、リフロー耐熱性、耐熱衝撃性、環境信頼性、貼り合わせ時安定性に優れる光導波路を生産性・作業性良く形成できる光導波路用樹脂組成物及び光導波路形成用樹脂フィルムを提供すること。また、保存安定性及びアルカリ現像性に優れた光導波路形成用樹脂及び光導波路形成用フィルムを提供する。
【解決手段】（Ａ）カルボキシル基を有するポリマー、（Ｂ）エチレン性不飽和基を有する化合物、（Ｃ）分子内に２つ以上のエポキシ基を有し、かつエポキシ当量が２５０〜１０００ｇ／ｅｑである化合物、及び（Ｄ）ラジカル重合開始剤を含む光導波路形成用樹脂組成物、該樹脂組成物を用いた光導波路形成用樹脂フィルム、並びにこれらを用いた光導波路である。 （もっと読む）

【課題】構造が簡易で低コストで製造できる光導波路装置を提供する。
【解決手段】配線基板１０と、配線基板１０の上に接着され、両端に光路変換傾斜面Ｓを備えた光導波路２０と、光導波路２０の光路変換傾斜面Ｓに接して形成され、光反射性樹脂層３０ｘ又は金属ペースト層３２から形成された光路変換ミラーＭとを含む。光反射性樹脂層３０ｘを光路変換ミラーＭとして使用する場合は、光反射性樹脂層３０ｘが光路変換傾斜面Ｓの側方のみに部分的に形成されていてもよいし、あるいは、配線基板１０の全体に光導波路２０を被覆して形成されていてもよい。 （もっと読む）