【課題】 複数の筐体を機構的に接続した構成を持つ携帯機器において、各筐体間の接続部分の厚みを薄くした、携帯性に優れた携帯機器を提供する。
【解決手段】 複数の筐体を機構的に接続した構成を持つ携帯機器において、各筐体間の接続部分の厚みを薄くした、携帯性に優れた携帯機器を提供する。第１の筐体と、第１の筐体に設けられた第１のボードと、第２の筐体と、第２の筐体に設けられた第２のボードと、第１の筐体と第２の筐体とを互いの相対的な位置を可変に接続する連結部と、第１のボードと第２のボードとを光配線により接続するための少なくとも１個の光導波路を持つ光導波路フィルムとを備える。 （もっと読む）

【課題】 ランタンで修飾されたチタン酸ジルコニウム鉛（ＰＬＺＴ）の層を形成する方法等を提供する。
【解決手段】 ＰＬＺＴの層を形成する方法は、（ａ）材料の層を形成するために、鉛の原子、ランタンの原子、ジルコニウムの原子、チタンの原子、及び一つ以上のジオールの化合物を含む溶液で基体を被覆するステップ、（ｂ）第一の時間周期の間に室温より上の且つ４００℃以下の温度まで該材料の層を加熱するステップ、及び（ｃ）その後、続いて第二の時間周期の間に酸素が豊富な雰囲気で５００℃以上の温度まで該材料の層を加熱するステップを含む。 （もっと読む）

本発明の目的は、光学的接続デバイスであって、光ビーム（Ｆ）を伝送し得るよう、プリント回路（３）内に埋め込まれた少なくとも１つの導波路（６）と、外部導波路（２）と、の間に配置され、回路（３）が、この回路の外表面（４）の方から順に、少なくとも１つの第１絶縁層（５）と、埋込導波路の少なくとも１つのコア（１）を有した少なくとも１つの導波路（６）と、を備え、デバイスが、回路（３）の切り抜きによっておよび埋込導波路（６）のカットによって形成されたカット部分（８）内に配置される接続部材（９）を具備し、この接続部材（９）が、埋込導波路（６）と外部導波路（２）との間において光ビームを再焦点合わせするための手段と、埋込導波路（６）の軸線方向に延在するとともにカット部分（８）の参照表面（１１）上に配置される少なくとも１つの下側位置決め表面（１３）と、を備えている。
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光学回路及び素子の形成及び動作に、光の波長未満の直径を有するナノリボン及びナノワイヤが用いられる。そのようなナノ構造は、光集積用の基本ビルディングブロックを形成するサブ波長光導波路として機能する。これらの構造における、通常とは異なる長さ、柔軟性及び強度により、それらを表面上で操作することが可能となる。この操作には、ナノリボン/ナノワイヤ導波路及び他のナノリボン/ナノワイヤ素子を正確に位置設定し、両者を光学的に結合させることで、光ネットワーク及び光学素子を形成することが含まれる。それに加えて、そのような構造は、液中での導波路を提供することで、光学プローブ及びセンサのような他の応用でさらに用いられることを可能にする。
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本発明は、合波分岐部を有する光導波路構造に関する。本発明による光導波路構造（１５０）は、一方の側（Ｓ１）に湾曲する第１の軸線（ＬＡ１）に沿って形成された合波側の第１のコア部（Ａ１）と、一方の側（Ｓ１）に湾曲する第２の軸線（ＬＢ１）に沿って形成された分岐側の第２のコア部（Ｂ１）と、他方の側（Ｓ２）に湾曲する第３の軸線（ＬＣ１）に沿って形成された分岐側の第３のコア部（Ｃ１）とを有する。軸線（ＬＡ１，ＬＢ１，ＬＣ１）は、互いに平行なそれぞれの接線と接する接点（ＰＡ１，ＰＢ１，ＰＣ１）を有する。更に、接点（ＰＢ１，ＰＣ１）は、第１の
軸線（ＬＡ１）の接点（ＰＡ１）における接線（ＴＡ１）と垂直に第１の接点（ＰＡ１）を通って延びる垂直線（ＬＰ１）から分岐側の領域内に位置する。第３の軸線（ＬＣ１）の接点（ＰＣ１）は、接線（ＴＡ１）に対して他方の側（Ｓ２）に位置している。 （もっと読む）

分子中に酸無水基及び／又は酸基がブロック化されてなる酸性基とラジカル重合性不飽和基を有するラジカル重合性化合物（ａ）と、それ以外のラジカル重合性化合物（ｂ）との共重合体（Ａ）、重合性不飽和化合物（Ｂ）、及び重合開始剤（Ｃ）を必須成分として含有することを特徴とする光導波路用硬化性樹脂組成物；この組成物からなる光導波路用硬化性ドライフィルム；及び、これらを用いて、下部クラッド層１３、コア部分１５及び上部クラッド層１７の少なくとも一つが形成されて成る光導波路が開示される。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】 本発明はデバイス及びそれを作成する方法に関するものである。前記デバイスは光信号用の経路を支持するのに適した基板を含み、光信号を伝搬するのに適する前記基板上に分離経路が配置され、前記経路は入力及び出力光経路を含み、さらに前記入力及び出力経路に作動的に接触する反射面を含む。前記デバイスを作成する方法は、単一基板に２つの分離光経路（１つは入力経路であり、別のものは出力経路）を提供する工程と、前記経路に動作的に接触する反射面を提供する工程であって、入力光信号が前記光経路を通過し、前記反射面によって前記出力経路へ反射され、前記出力経路を通り抜け、それにより前記デバイスが同一若しくは同様の従来技術デバイスによって要求されるスペースの少なくとも１／５であるスペースで、約１．０ｄＢ若しくはそれ以下の損失のチタン拡散経路を持つニオブ酸リチウム基板上に作成することができる。 （もっと読む）

要約
本発明は、導波路構造、並びにコア領域およびその横に隣接するクラッド領域からなる当該構造を形成するための方法を提供する。本発明の実施例の導波路構造は、コア領域がその横に隣接するクラッド領域およびクラッド層によって共同的に取り囲まれている。そのような構造を形成するための方法も提供する。

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本発明は予め定められた波長範囲内の光を案内する光導波路に関し、該光導波路は光を閉じ込めるためのコア領域及びクラッド領域を含み、該コア領域と一つ又は複数のクラッド領域との少なくとも一方は基質上に形成されているとともに化学量論的組成Ｓｉ_ａＯ_ｘＮ_ｙＸ_ｚＨ_ｖの材料を含む。本発明は更に光導波路を製造する方法に関し、該方法により得られた光導波路及びそのような導波路を含む光学装置に関する。本発明の目的は、水素結合に由来する吸収の低減による光学損失の低い光導波路を提供することにある。その問題は、ＸをＢ、Ａｌ、Ｐ、Ｓ、Ａｓ、Ｓｂ及びそれらの組み合わせからなる元素より選択し、かつｙ／ｚ比を１より大きくすることにより解決される。これは導波路内の低光吸収を、可能性としては広い波長範囲にて達成するという利点を有する。更に、比較的低温によるアニーリングは比較的低誘導のひずみを得るために使用され、それにより複屈折の低いものが得られる。光導波路は例えばＰＥＣＶＤ法により製造され、当該方法は低損失導波路を更に処理するのには理想的である。本発明に従う導波路は９００ｎｍ乃至１６００ｎｍにおいて０．０５ｄＢ／ｃｍ未満の損失により特徴付けられる優れた伝搬性を示す。特に、Ｓｉ：Ｎ−Ｈ振動の第二のオーバートーンによる吸収は、検出レベル以下の値に低減され得る。本発明は、例えば光通信システム、特に、構成要素を分けるため（例えば、スパッタ）、及び例えば、電気通信システム、ファイバ−−トゥ−ザ−ホーム等のような波長分割多重システム（ＷＤＭ）用の構成要素のために使用され得る。
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本発明は、反射や散乱による伝送の損失がほとんどなく、耐熱性・耐湿性にも優れた、屈折率分布を任意に制御した積層フィルムを提供することを目的とする。すなわち本発明は、樹脂層が少なくとも５以上積層されてなる積層フィルムであって、各樹脂層の厚みが１ｎｍ〜１００ｎｍであり、かつ同一組成Ａの樹脂層の厚みが、積層フィルムの表面側から反対面側に向かうにつれて、増加し又は減少する層構成を含む積層フィルムである。 （もっと読む）