【課題】メサ部上の樹脂領域の開口が狭い場合であっても、ＡｕＺｎ膜を含む金属膜をメサ部上に容易に形成することが可能な半導体光変調素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】メサ部３２を保護膜２２によって覆う第１の絶縁膜形成工程と、メサ部３２を樹脂領域２０によって埋め込むとともに、メサ部３２上の該樹脂領域２０の部分に開口２０ｃを形成する工程と、開口２０ｃにおいて露出した保護膜２２、及び樹脂領域２０を保護膜２４によって覆う第２の絶縁膜形成工程と、メサ部３２上の保護膜２２，２４の部分に開口を形成する工程と、Ｔｉ膜を含む金属膜２６ａを、該Ｔｉ膜と保護膜２４とが互いに接触するように開口２０ｃ内を除く樹脂領域２０上に形成する工程と、Ａｕ膜を含む金属膜２６ｂを、該Ａｕ膜とメサ部３２とが互いに接触するようにメサ部３２上から金属膜２６ａ上に亘って形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】安価で容易に作製可能な光カプラを実現すること。
【解決手段】光カプラ１は、石英基板１０と、石英基板１０の両面にそれぞれ形成されたＡｇからなる金属膜１１、１２と、を有している。金属膜１１は、石英基板１０の一方の表面１０ａに形成され、金属膜１２は、石英基板１０の他方の表面１０ｂの全面に形成されている。金属膜１１には、その金属膜１１を貫通する孔１３が複数形成されている。孔１３の石英基板１０の主面に平行な面での断面は円形である。孔１３の直径は、１５０ｎｍである。孔１３は正方格子状に配列されており、その孔１３の間隔は５００ｎｍである。この光カプラ１では、石英基板１０内の入射光１４の一部を、入射光１４の伝搬方向に対して１１１°の方向に分岐光１５として放射させることができる。 （もっと読む）

【課題】高速駆動が可能であり、駆動電圧のより一層の低減が可能な光制御素子を提供する。
【解決手段】電気光学効果を有し、厚みが１０μｍ以下の薄板１と、薄板１に形成された光導波路５２、５３と、光導波路５２、５３を伝播する光を制御するための光制御部を複数有する光制御素子において、光制御部の少なくとも一部には、光導波路５２、５３に電界を印加するための制御電極が、第１電極と第２電極とから構成される。第１電極は信号電極３３、３４と接地電極６１、６２とを有すると共に、第２電極は少なくとも接地電極６３を有し、第１電極の信号電極３３、３４と協働して光導波路５２、５３に電界を印加するように構成される。複数の光制御部の間は、コプレーナ型線路、コプレーナ型線路と裏面に配置された接地電極、又はマイクロストリップラインのいずれかで構成される制御信号配線で接続し、光と電気信号の到達時間がほぼ同じになるように設定する。 （もっと読む）

【課題】
駆動電圧のより一層の低減が可能な光導波路素子を提供すること。また、駆動電圧の低減により、光導波路素子の小型化や利用する駆動装置の低コスト化を図ること。
【解決手段】
厚みが１０μｍ以下の電気光学効果を有する薄板１と、該薄板に少なくとも一つのリッジ型光導波路が形成された光導波路素子において、該薄板の該リッジ型光導波路が形成された面の反対面上であって、該リッジ型光導波路の下部に該当する部分に、該薄板より屈折率の高い高屈折率膜１０を配置し、該高屈折率膜の幅が、該リッジ型光導波路の幅と同じか、又は当該幅より狭く構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】斜め導波路を有する光素子を集積する場合に、素子端面の位置がずれてしまっても、精度良く位置合わせを行なえるようにする。
【解決手段】光集積素子の製造方法を、第１斜め導波路５を有する第１光素子１に、その端面位置を検知しうる複数の端面位置検知マーカ１１Ａ、及び、複数の端面位置検知マーカのそれぞれに対応する複数の第１位置合わせマーカ１２Ａを形成し、第２斜め導波路８を有する第２光素子２に、第１斜め導波路の端面位置と第２斜め導波路の端面位置とが合った場合に複数の第１位置合わせマーカのいずれかにいずれかの位置が合う複数の第２位置合わせマーカ１３Ａを形成し、端面位置を検知した端面位置検知マーカに対応する第１位置合わせマーカとこれに対応する第２位置合わせマーカとを合わせて第１斜め導波路の端面と第２斜め導波路の端面とを位置合わせして、第２光素子上に第１光素子を実装するものとする。 （もっと読む）

【課題】コネクタ付きフレキシブル光導波路を、低損失かつ低コストで実現できるようにする。
【解決手段】コネクタ付きフレキシブル光導波路の製造方法を、フレキシブル光導波路１及びフレキシブル光導波路１に取り付けられるコネクタ２を構成する第１コネクタ部材２Ａのいずれか一方の表面上に、１つの断線箇所Ｘを含む第１導電体パターン４を形成するとともに、他方の表面上に第１導電体パターン４の断線箇所Ｘを補う第２導電体パターン８を形成し、フレキシブル光導波路１の表面と第１コネクタ部材２Ａの表面との間に硬化性樹脂材料９を介在させるとともに、第１導電体パターン４に電源１０を接続した状態で、荷重をかけながらアライメントを行ない、通電したらアライメントを終了し、アライメントの終了後に硬化性樹脂材料９を硬化させて、フレキシブル光導波路１の表面と第１コネクタ部材２Ａの表面とを接着する工程を含むものとする。 （もっと読む）

【課題】低コストで製造工程が平易であり、しかもコア部とクラッド部の屈折率差が大きく、小型の集積回路に好適な光導波路及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】
下記の（Ａ）工程乃至（Ｅ）工程を含む光導波路の製造方法：（Ａ）工程：ベースの表面上に、互いに或る間隔の空間を形成するパターンを為すクラッド型材を配置する工程、（Ｂ）工程：配置されたクラッド型材の上側及びクラッド型材が配置されていないベース表面上に、チタン原子とケイ素原子を含む酸化物前駆物質を含有する液を用いて塗膜を形成する工程、（Ｃ）工程：前記塗膜に、所定のパターンを有するフォトマスクを通して放射線を照射し、続いて加熱処理し、これにより放射線照射された屈折率のより高いコア部を形成する工程、（Ｄ）工程：放射線未照射又は低放射線照射の領域を現像により溶解・除去する工程、及び（Ｅ）工程：クラッド型材をベース表面より除去し、オールエアクラッド光導波路の構造に作り上げる工程。 （もっと読む）

【課題】
モニタ光としてエバネセント波を利用する光導波路デバイス及びその製造方法において、製造工程を複雑化することなく、光導波路と受光素子との間隔を高精度に制御することが可能となる光導波路デバイス及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】
光導波路２を形成した基板１と、該光導波路を跨ぐように配置される受光素子３とを有する光導波路デバイスにおいて、該基板上にスペーサ膜４が設けられ、該受光素子が該スペーサ膜に直接接合されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
モニタ光としてエバネセント波を利用する光導波路デバイス及びその製造方法において、汚染物質の除去が容易であり、あるいは、再汚染を抑制することが可能な光導波路デバイス及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】
焦電性又は圧電性を有する材料で構成された基板１と、該基板の一部形成された光導波路２とを有する光導波路デバイスにおいて、該光導波路を跨ぐように配置される受光素子３と、該受光素子と該光導波路との距離を調整するために、該基板上に形成された台座４とを備え、該台座は、膜体で構成され、少なくとも該受光素子に面した表面材料が、光触媒物質、導電性物質又は半導体物質のいずれかで形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】発光領域が小さい光機能素子を低コストで提供する。
【解決手段】基板２上の透明薄膜４中に所定の間隔で所定の大きさの孔を配列したフォトニック結晶３１が形成され、フォトニック結晶導波路３０はこのフォトニック結晶の一部分に孔を形成しない領域を設けることによって形成されている。この導波路の下部に開口部が形成され、当該開口部が埋まるように窒化物半導体を基板上から透明薄膜の上側まで結晶成長させることによって発光素子１０が形成されている。 （もっと読む）

【課題】 導波路型光ゲートスイッチ及び多段導波路型光ゲートスイッチに関し、作製上の誤差の影響を受けない、超小型の導波路型光ゲートスイッチを実現する。
【解決手段】 光導波路の一部分の複素屈折率を変化させることによって光の透過量を変化させる導波路型光ゲートスイッチであって、光導波路は、光軸方向において互いに対向する一対のコア層と、一対のコア層の間に配置された相変化材料部と、一対のコア層及び相変化材料部を覆うクラッド層とを有するとともに、相変化材料部に、相変化材料部の相を変化させる相変化手段を設ける。 （もっと読む）

【課題】応力が加わった場合においても破損等のおそれがなく、溝の側面の形状が高精度で制御された光素子用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の光素子用基板の製造方法は、ＬＮ基板１１の表面１１ａにマスク１４を形成し、次いで、サンドブラスト法により、マスク１４を用いてＬＮ基板１１の表面１１ａに、底面１２ａと側面１２ｂとの角部が０．５μｍ以上の曲率半径の凹面１３となった溝を形成し、次いで、フッ硝酸等を用いてマスク１４を除去する。 （もっと読む）

【課題】時間ジッタが小さいパルスレーザ光を出力できるモード同期半導体レーザを提供すること。
【解決手段】化合物半導体からなる基板上に、ささやき回廊モード共振器が外周部を有し、該外周部の内側を光が周回するように構成した化合物半導体製のささやき回廊モード共振器と、前記ささやき回廊モード共振器に直接、もしくは間接的に接続し、光増幅利得を有する化合物半導体製の光増幅部と、前記ささやき回廊モード共振器に直接、もしくは間接的に接続し、該ささやき回廊モード共振器に光を入出力する化合物半導体製の光導波路とを有し、前記ささやき回廊モード共振器と前記光増幅部と光導波路がモノリシックに集積され、モード同期によりパルスレーザ光を発振するモード同期の手段を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、導波路の狭メサ化及び側壁円滑化が図れる導波路の作製方法を提供することを課題とする。
【解決手段】スラブ導波路層を有する第１の基板を用意する工程と、該第１の基板の上にシリコン酸化膜を堆積する工程と、その上に所定のパターン開口を有するマスク層を形成する工程と、該マスク層をマスクとして開口部のシリコン酸化膜及びこれに隣接するマスク層下のシリコン酸化膜の一部を除去する工程と、マスク層及びスラブ導波路層上に第１の金属及びスラブ導波路層よりエッチング選択性の小さい第２の金属との積層構造を形成する工程と、該マスク層及びシリコン酸化膜を除去する工程と、第２の金属をマスクにスラブ導波路層をパターニングしてメサ導波路とする工程と、第１の金属とともに第２の金属をリフトオフする工程とを含む導波路の作製方法である。 （もっと読む）

【課題】 発光（又は受光）素子及び光導波路の実装時の位置合せを容易かつ高精度に行える光導波路装置等の光結合装置、及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 端面に形成された光反射面３４による反射で外部光を内部に導入又は内部光を外部へ導出するように構成されたエアリッジ型の光導波部３６と、光反射面３４とは反対側の位置にて光導波部３６に対向して配置されて外部光の出射又は内部光の受光を行う発光又は受光素子と、光導波部３６及び発光又は受光素子をそれぞれ固定した支持体３１とを有し、この支持体に形成された凹部４４内の所定位置に発光又は受光素子が固定され、その所定位置とは別の位置にて光導波部３６のコア３９が支持体３１とは非接触の状態で凹部４４内に配置されていると共に、コア３９以外の領域で光導波部３６が支持体３１に固定されている、光導波路装置としての光結合装置。 （もっと読む）

【課題】導波効率の高い近接場光導波路を提供する。
【解決手段】誘電体層と、誘電体層内に分散された金属ナノ粒子群を有し、金属ナノ粒子の粒径が４ｎｍから１００ｎｍの範囲にありかつ金属ナノ粒子の中心間の距離と金属ナノ粒子の直径との比が１．１から３．８の範囲にある。金属ナノ粒子は、内部に金属コアと外周部に有機物からなるシェルを有するコアシェル構造のナノ粒子であって、前記金属コアとして金（Ａｕ）または銀（Ａｇ）から形成される。 （もっと読む）

２つの対向した側部を有するシリコンウェーハを、光導波路が含む。該シリコンウェーハが、ヘッド部分と第１の柄部分とを含むこととなるように、第１のノッチが、前記２つの対向した側部の各々の中に画定される。
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電子ビームリソグラフィを用いて基板上にカスタマイズしたナノパターンマスクを形成する工程、バイオポリマーマトリックス溶液を供給する工程、基板上にバイオポリマーマトリックス溶液を堆積させる工程、およびバイオポリマーマトリックス溶液を乾燥させて、固化したバイオポリマー膜を形成する工程を含む、ナノパターン化バイオフォトニック構造の製造法。膜の表面がナノパターンマスクで形成されるか、または、バイオポリマー膜が電子ビームリソグラフィナノパターンに対応するスペクトルシグネチャを呈するような電子ビームリソグラフィを用いて、ナノパターンが膜の表面上に直接機械加工される。得られる生体適合性のナノパターン化バイオフォトニック構造は、絹で作製されてもよく、生分解性であってもよく、かつバイオセンシングデバイスであってもよい。バイオフォトニック構造は、非周期フォトニック格子に基づくナノパターン化マスクを採用してもよく、かつバイオフォトニック構造は、タンパク光の形で光学活性を示すことを含む、生体物質をプローブする際に使用するための特定のスペクトルシグネチャでデザインされてもよい。

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【課題】複数の光路をミラーを用いて変換する多チャンネル光路変換素子において、低損失で信頼性の高い光路変換素子及び簡便な製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】垂直導波路と水平導波路の交差部に両導波路と略４５度の角度をなすＶ溝斜面を形成し、Ｖ溝の斜面間の角度と略一致する稜の角度を有する棒状体に反射膜を形成し、Ｖ溝斜面の導波路コア端部に反射膜が接するように貼り付け、ミラーとする光路変換素子の作製において、Ｖ溝を８μｍ以上２０μｍ以下の平均粒径を有するダイヤモンドブレードにより形成し、表面粗さＲａが１０ｎｍ以下の棒状体の面に反射膜を形成し、Ｖ溝先端部に対応する棒状体の稜をＶ溝先端の曲面部の量以上に面取し、Ｖ溝に接着剤で接着固定した光路変換素子の作製方法および、同作製方法で作製された多チャンネル光路変換素子。 （もっと読む）

【課題】放電や静電破壊を抑制しつつより高い電圧でポーリング処理を行うことが可能であり、より高い有機非線形光学材料の電気光学効果が引き出された光導波路素子、光導波路素子のポーリング処理方法を提供すること。および簡易な構成でＤＣドリフトの発生を抑制可能な光導波路素子を提供すること。
【解決手段】例えば、基板１０上に、下部電極１２（第１の電極）、下部クラッド層１４（第１のクラッド層）、光導波路層１６（光導波路１７）、上部クラッド層１８（第２のクラッド層）、上部電極２０（第２の電極）、及び保護層２２が順に積層されて構成させ、保護層２２に上部電極２０の少なくとも一部を露出する開口２２Ａを設ける。そして、当該開口２２Ａから露出する上部電極２０に対し電圧印加手段の端子を電気的に接続し、当該上部電極２０に電圧を印加してポーリング処理を施す。 （もっと読む）