【課題】紫外光照射による特性の調整を高精度にできる光導波路回路の製造方法および製造装置を提供すること。
【解決手段】紫外光を吸収して媒質の屈折率を変化させるドーパントを含有するコアと該コアの周囲に形成されたクラッドとを備える光導波路回路の該コアに紫外光を照射する紫外光照射工程と、前記ドーパントからの発光量を測定する発光量測定工程と、を含み、前記測定した発光量の積算値に基づいて前記光導波路回路の特性を調整する。 （もっと読む）

【課題】光損失が少ない光導波路の製造方法を提供する。
【解決手段】下記（Ｉ）〜(III)の工程を含む光導波路の製造方法。（Ｉ）基板２上に形成された下部クラッド１上に、下から順に、光ラジカル開始剤及び重合性化合物を含有する光硬化性樹脂組成物層４、並びに水溶性非光硬化性樹脂組成物層３が形成される工程。（II）コア部８を形成するために、フォトマスク６を使用して上記光硬化性樹脂組成物層４を露光する露光工程。（III）上記光硬化性樹脂組成物層４の未露光部分及び上記水溶性非光硬化性樹脂組成物層３をアルカリ現像液で除去するアルカリ現像工程。 （もっと読む）

【課題】下地のポリマーに対する変質・劣化を抑制しつつ、単に塗布するのみで光伝送効率の高い光導波路を効率よく安価に製造可能な光導波路用塗布液、かかる光導波路用塗布液を用いて製造された光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明の光導波路用塗布液３０は、成分（Ａ）としてカルボキシル基を含む水溶性または水分散性の水性樹脂と、成分（Ｂ）として前記水性樹脂を架橋する架橋剤と、成分（Ｃ）として水と、を含み、ポリマーで構成されたコア部１４の少なくとも一部を覆うように、または、コア部１４の周囲に設けられポリマーで構成されたクラッド部（各クラッド層１１、１２および各側面クラッド部１５）の少なくとも一部を覆うように塗布することにより、光導波路１を形成するのに用いられることを特徴とするものである。また、光導波路用塗布液３０は、成分（Ｄ）および成分（Ｅ）を含んでいてもよい。 （もっと読む）

【課題】低コストで製造工程が平易であり、しかもコア部とクラッド部の屈折率差が大きく、小型の集積回路に好適な光導波路及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】
下記の（Ａ）工程乃至（Ｅ）工程を含む光導波路の製造方法：（Ａ）工程：ベースの表面上に、互いに或る間隔の空間を形成するパターンを為すクラッド型材を配置する工程、（Ｂ）工程：配置されたクラッド型材の上側及びクラッド型材が配置されていないベース表面上に、チタン原子とケイ素原子を含む酸化物前駆物質を含有する液を用いて塗膜を形成する工程、（Ｃ）工程：前記塗膜に、所定のパターンを有するフォトマスクを通して放射線を照射し、続いて加熱処理し、これにより放射線照射された屈折率のより高いコア部を形成する工程、（Ｄ）工程：放射線未照射又は低放射線照射の領域を現像により溶解・除去する工程、及び（Ｅ）工程：クラッド型材をベース表面より除去し、オールエアクラッド光導波路の構造に作り上げる工程。 （もっと読む）

【課題】コアとクラッドとの界面に荒れを生じさせることなく、かつ容易に作製しうるステップインデックス型光導波路およびその作製方法を提供することを主な目的とする。
【解決手段】コア部とクラッド部を有する光導波路において、コア部が、クラッド部を構成する母体ポリマー材料に下記の特性を有する化合物の気体分子を浸透させた複合体により構成されていることを特徴とする光導波路：
(i)気化性を有している、
(ii)母体ポリマーよりも屈折率が高い、
(iii)光の伝搬波長において透明である。 （もっと読む）

【課題】複数の段差を有する導波路構造において、簡易かつ精度よく、コア層と上部クラッド層におけるメサ中心のずれを小さくする。
【解決手段】下部クラッド層１０３とコア層１０２と上部クラッド層１０１とを積層し、上部クラッド層１０１上に、互いに並行に配置される第一及び第二のストライプ状マスク１０５ａ、１０５ｂと、第一のストライプ状マスク１０５ａと第二のストライプ状マスク１０５ｂとの間に配置される第三のストライプ状マスク１０６とからなる３本のストライプ状マスク１０７を形成し、第一、第二のストライプ状マスク１０５ａ、１０５ｂ及び第三のストライプ状マスク１０６をマスクとして第一メサを形成し、第一及び第二のストライプ状マスク１０５ａ、１０５ｂをそれぞれ除去し、第一及び第二のストライプ状マスク１０５ａ、１０５ｂを除去した後に、第三のストライプ状マスク１０６をマスクとして、第一メサの上部に位置し、第一メサよりも幅の狭い第二メサを形成する。 （もっと読む）

【課題】出力側でのクロストークを低減し、分光された光がそれぞれ単一波長の光として、固有の出力側端面から出力することができる平面導波路素子を提供する。
【解決手段】それぞれの光導波路アレイにおける光導波路５，６においては、光導波路５，６の並ぶ方向において一方向に向かって、等価屈折率分布に勾配が形成されている。第１光導波路アレイおよび第２光導波路アレイの連結部は、光が第１光導波路アレイから第２光導波路アレイに伝搬する際に、ｍを整数として、この光が起こす光学的ブロッホ振動の位相が(２ｍ−１)×π変化するように形成されている。それぞれの光導波路アレイの光導波路の長さの平均値は、それぞれの光導波路アレイを伝搬する光が、光学的ブロッホ振動において１／２周期の振動する間に、光導波路５，６を伝搬する長さに略一致している。 （もっと読む）

【課題】屈曲耐久性に優れ、光損失の少ないフレキシブル光導波路を提供する。
【解決手段】下部クラッド層２、コア層６、上部クラッド層７が順に積層されてなるフレキシブル光導波路であって、中間部に屈曲部を有し、コア層６の厚さは端部より屈曲部が薄く、上部クラッド層７の厚さは端部より屈曲部が厚く、かつ、コア層６と上部クラッド層７の合計厚さが、端部より屈曲部が薄いことを特徴とするフレキシブル光導波路、並びに前記フレキシブル光導波路を、フレキシブル電気配線板に複合化した光電気複合配線板である。 （もっと読む）

【課題】官能性置換基を有するポリノルボルネンをバルク重合で合成できる感光性組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の感光性組成物は、光酸発生剤と、該光酸発生剤が放出するプロトンの作用により分子構造の少なくとも一部が離脱し得る離脱性基を有するノルボルネン系モノマーと、該ノルボルネン系モノマーの付加重合のための触媒とを含んでなり、該離脱性基をexo位に有するexo体ノルボルネン系モノマーが、該離脱性基をendo位に有するendo体ノルボルネン系モノマーよりも過剰に存在する。 （もっと読む）

【課題】 溶剤可溶性であって、複屈折と面配向性が共に低値のポリイミドを提供する。
【解決手段】 溶剤可溶性ポリイミドであって、633nm波長における複屈折の値（X）とIR測定から算出される面配向の値（Y）が、式(1) Y≦−1.49X+0.55かつ0≦X≦0.30を満足するものであるポリイミド。 （もっと読む）

【課題】高屈折率樹脂組成物を光学部品、特に光導波路に適用したとき、光学部品中に無機粒子が均一に分散され、かつ、分散剤の残存率が低減された光学部品を得ることができる高屈折率樹脂組成物、および、優れた光学特性を発揮する光学部品を提供すること。
【解決手段】
本発明の高屈折率樹脂組成物は、加熱により脱水または脱アルコール反応する樹脂と、無機粒子と、５０％重量減少温度が４００℃以下である分散剤と、分散媒とを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】単純な構成及び製造方法によって、光のパワー密度の低下及び重なり積分の低下をともに防止する。
【解決手段】基板面１１ａから凸状に突出したリッジ部１３を一体的に有する基板１１を具え、リッジ部は、屈折率が等しい第１クラッド２３及び第２クラッド２５と、これら第１クラッド及び第２クラッドと比して高屈折率であるコア２７とを有する光導波路構造２１を含み、コアは、第１クラッド及び第２クラッド間に、リッジ部の厚み方向に沿って挟み込まれている。 （もっと読む）

【課題】散乱損失が低く、製造工程が簡単な垂直方向テーパ構造を持つ光結合器を提供する。
【解決手段】基板上に誘電体層と半導体結晶層を有し、この半導体結晶層の少なくとも一部に光の伝搬方向に沿って基板平面に垂直方向の厚さが徐々に変化する垂直方向テーパ構造を有し、この垂直方向テーパ構造部の上面のラフネスが前記半導体結晶層を構成する原子１層分程度である、光結合器。 （もっと読む）

【課題】ポリイミド系樹脂からなるコア層を反応性イオンエッチング法によりエッチングする際に、光導波路コアの下端部にクラックが入らず、光導波路コアの側面部が粗面化しないので、また、低温で焼成されたポリイミド系樹脂からなるコア層であっても、コア層上に形成されたマスク層をパターニングする工程で、コア層にクラックが生じないので、導波損失が非常に小さい光導波路を製造する方法を提供すること。
【解決手段】基板上に各々ポリイミド系樹脂からなる下部クラッド層、光導波路コアおよび上部クラッド層が形成された光導波路を製造するにあたり、パターニングしたマスク層として無機材料からなるドライマスクを用い、かつ、エッチングガスとしてハロゲン系ガスを用いて、ポリイミド系樹脂からなるコア層を反応性イオンエッチング法によりエッチングして光導波路コアを形成する。 （もっと読む）

【課題】接着層を用いることなく、基材と被着体との間に光の伝搬経路を形成するとともに、基材と被着体とを強固に接合し、光導波路として機能する接合体を容易に得ることができる光導波路の製造方法、および、薄型化が可能でかつ信頼性の高い光導波路を提供すること。
【解決手段】第１の基板２上のうち、一部に線状に設定したコア部領域（第１の領域）３１０に、プラズマ重合法により第１の接合膜３１’を成膜するとともに、コア部領域３１０を囲むように設定したクラッド部領域（第２の領域）３２０に、屈折率が第１の接合膜３１’よりも小さくなるように設定された成膜条件で第２の接合膜３２’を、第１の接合膜３１’を覆うように成膜する工程と、第２の接合膜３２’にエネルギーを付与する工程と、第２の接合膜３２’を介して第１の基板２と第２の基板４とを接合し、光導波路を得る工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】接着層を用いることなく、基材と被着体との間に光の伝搬経路を形成するとともに、基材と被着体とを強固に接合し、光導波路として機能する接合体を容易に得ることができる光導波路の製造方法、および、薄型化が可能でかつ信頼性の高い光導波路を提供すること。
【解決手段】第１の基板２上にプラズマ重合法により接合膜３を成膜する工程と、接合膜３のうち、一部に線状に設定したコア部領域（第１の領域）３１０にプラズマ処理を施す工程と、接合膜３を介して第１の基板２と第２の基板４とを接合し、光導波路１を得る工程とを有する光導波路の製造方法であって、プラズマ処理によりコア部領域３１０の屈折率が上昇するため、コア部領域３１０とその周囲の領域（クラッド部領域３２０）との間で屈折率差が生じ、コア部領域３１０がコア部３１になる一方、クラッド部領域３２０が側方クラッド部３２となる。 （もっと読む）

【課題】シリコンコアの酸化が抑制できる低温条件で形成したクラッドに、この後の工程において損傷が発生しないようにする。
【解決手段】シリコンコア１３１の熱酸化が抑制できる範囲の温度条件で酸化シリコン膜１０６を形成した後、酸化シリコンの粘性流動が起こり始める９５０℃以上の高温条件で、酸化シリコン膜１０６（シリコン基板１０１）を加熱し、シリコンコア１３１を覆う上部クラッド層１６１を形成する。この加熱処理により、シリコンコア１３１の段差により生じていた酸化シリコン膜１０６の脆弱な部分の膜質が改善され、この後の工程において損傷が発生しないようになる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、導波路の狭メサ化及び側壁円滑化が図れる導波路の作製方法を提供することを課題とする。
【解決手段】スラブ導波路層を有する第１の基板を用意する工程と、該第１の基板の上にシリコン酸化膜を堆積する工程と、その上に所定のパターン開口を有するマスク層を形成する工程と、該マスク層をマスクとして開口部のシリコン酸化膜及びこれに隣接するマスク層下のシリコン酸化膜の一部を除去する工程と、マスク層及びスラブ導波路層上に第１の金属及びスラブ導波路層よりエッチング選択性の小さい第２の金属との積層構造を形成する工程と、該マスク層及びシリコン酸化膜を除去する工程と、第２の金属をマスクにスラブ導波路層をパターニングしてメサ導波路とする工程と、第１の金属とともに第２の金属をリフトオフする工程とを含む導波路の作製方法である。 （もっと読む）

ＤＣバイアス変動を低減するためのニオブ酸リチウム変調器構造体（３０）が提供されており、前記ニオブ酸リチウム変調器構造体（３０）は、一又は複数のＤＣセクション（３８、４０）とＲＦセクション（４２）を有する光導波管（３４）の上にパターン化された高ドープ半導体層（４４、５４）を含み、金属層又は金属接合（５０）は、半導体層（４４、５４）の一部と接触し、緩衝層（４６）はＲＦセクション（４２）に形成される。また、上述した構造体を有するニオブ酸リチウム電気光学変調器を作製する方法も提供されている。
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【課題】伝送する光について損失が発生することを防止し、また、製造プロセスの効率化を実現する。
【解決手段】ハードマスクＨＭを用いて単結晶シリコン膜について異方性エッチング処理を実施し、単結晶シリコンパターンを形成する。そして、単結晶シリコンパターンについて熱酸化処理を実施し、その単結晶シリコンパターンにて露出する側壁部分を酸化シリコンに変質することによって第２クラッド層２０１を形成すると共に、その単結晶シリコンパターンの内部にコア層１１１を形成する。ここでは、等方性の熱酸化処理を実施する。 （もっと読む）