【課題】光を発する光導波路のコアに対する光を受ける光導波路のコアの位置合わせが不要となるタッチパネル用光導波路およびそれを用いたタッチパネルを提供する。
【解決手段】帯状の光導波路Ａの長手方向の一端縁に凸状部５が形成され、この凸状部５に噛合する凹状部６が、帯状の光導波路Ａの長手方向の他端縁に形成されており、上記凸状部５と凹状部６との噛合により、光出射用コア３の先端部と光入射用コア３の先端部とを自動的に、正確に、タッチパネルのディスプレイ画面を挟んで対向させることができる。 （もっと読む）

【課題】 第１基板と第２基板との高効率な光結合を可能にする光伝送体とそれを含む光伝送基板を提供する。
【解決手段】 光を伝送させる第１基板９と、光を伝送させ、主面の少なくとも一部が前記第１基板９の主面と対向するように配置される第２基板１０と、前記第１基板９および前記第２基板１０の前記対向領域内で光学的に結合する光伝送部３と、前記光伝送部を結合方向に沿って側方より支持する支持体２と、を含む光伝送体１と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】光導波路のコアと発光手段とのアライメントおよび光導波路のコアと受光手段とのアライメントが不要であるタッチパネル用光導波路デバイスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】帯状の光導波路Ｗの長手方向中央部分に、コア３およびオーバークラッド層４の端面を壁面とする凹部５が形成され、この凹部５に、発光手段１２と受光手段１３とが１つの基板１１に固定されてなる実装体１０が装着されており、光を出射するコア３と発光手段１２とのアライメントおよび光を入射するコア３と受光手段１３とのアライメントが達成された状態となっている。 （もっと読む）

【課題】ＰＬＣの基板端面からの光信号をコリメートする従来の回路は、構造が複雑で調整に手間が掛かる。光信号処理装置の製造・組み立てがし易く、さらに光アイソレータ等の一定の大きさのバルク光学部品を配置できるように、所定の距離を保ちながら光信号をコリメート化できるような、より簡易な回路が要請されていた。光信号処理装置の機能高度化のため、ＰＬＣやバルク光学部品を光学接続するだけでなく、複数の信号系を含む多アレイ化構成により適合した光結合方法が望まれていた。
【解決手段】本発明の光信号回路は、ＰＬＣ端面にＧＲＩＮレンズを接着する構成により、簡易な構成でコリメート光を得ることができる。端面近傍の導波路コアがないクラッド領域を設けて、ビームウエストの位置を調整できる。さらに、コアの先端部に溝を形成して、意図しないレンズ効果の発生を排除する。多アレイ化にも簡単に適応できる。 （もっと読む）

【課題】光導波路とレンズとの位置合わせおよび接着剤が不要であるとともに、光の出射および入射が適正に行われるタッチパネル用光導波路およびそれを用いたタッチパネルを提供する。
【解決手段】光を出射するコア３の端面および光を入射させるコア３の端面を被覆するオーバークラッド層４の端部がレンズ部４０に形成され、そのレンズ部４０の表面が、外側に向かって反る側面視円弧状曲面４１に形成され、上記コア３の端面からその側面視円弧状曲面４１の曲率中心Ｍまでの距離（Ｌ）とその側面視円弧状曲面４１の曲率半径（Ｒ）とが下記（ａ）を満たしている。
（ａ）（Ｌ／２）−０．３＜Ｒ＜（Ｌ／２）＋０．３
〔ただし、単位は、Ｌ：ｍｍ、Ｒ：ｍｍである。〕 （もっと読む）

【課題】光導波路を用いた光基板の製造において、光学素子と光導波路の光学的接続を高精度、かつ簡便に得ることができる量産に適した光基板及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】光透過性を有する基材と、光導波路とを有する光基板であって、光導波路が、その光導波路の両側面に突出した縁部を有し、前記基材上には該縁部を下部から支持するガイドが前記光導波路に対して平行に設けられていることを特徴とする光基板、さらには前記ガイドによって支持された光導波路の一方の端部が、光学素子の下面に接して接合されていることを特徴とする光基板とする。 （もっと読む）

【課題】イオン注入時における意図しないスパッタリング現象を防止し、基板表面に意図しない段差形状が生じないようにすることができる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】まず、半導体層が積層形成された半導体基板の表面に第１のシリコン酸化膜を形成する。次に、第１のシリコン酸化膜をパターニングし、所定形状のマスク２１を形成し、その後、半導体基板の表面全体に第１のシリコン酸化膜よりも薄い第２のシリコン酸化膜２２による保護膜を形成する。この保護膜が形成された状態で半導体基板の表面側から半導体層内部に酸素イオンを注入し、その後に熱処理を施すことで半導体層内部に埋め込み酸化膜層による絶縁膜を形成する。マスク２１を形成した後に第１のシリコン酸化膜よりも薄い第２のシリコン酸化膜２２による保護膜を形成していることで、イオン注入工程時における意図しないスパッタリング現象が防止される。 （もっと読む）

【課題】耐屈曲性、耐捻性に優れるクラッド層形成用樹脂組成物、およびクラッド層形成用樹脂フィルム、これらを用いて作製した光導波路ならびに光モジュールを提供すること。
【解決手段】（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）フェノール系エポキシ樹脂硬化剤、及び（Ｃ）反応性官能基を有する（メタ）アクリルポリマーを含有する光導波路のクラッド層形成用樹脂組成物、およびクラッド層形成用樹脂フィルム、これらを用いて作製した光導波路ならびに光モジュールである。 （もっと読む）

【課題】ハイメサ構造を有する光半導体素子の信頼性を向上させる。
【解決手段】光半導体素子１００は、半導体レーザ３１の活性層１３、及び、光導波路３２のコア層１６の各側面が、メサの側壁から露出するハイメサ構造を有する。薄膜保護層２０により、活性層１３及びコア層１６の露出した側面を覆う。薄膜保護層２０は、バンドギャップが活性層１３のバンドギャップよりも大きく、厚みが１．５μｍ以下のｐ型ドープ半導体層であり、活性層１３に注入された電子及び正孔の対による非発光再結合を防止し、半導体レーザ３１の発光効率及び信頼性を向上する。 （もっと読む）

【課題】耐屈曲性、耐捻性に優れるクラッド層形成用樹脂組成物、およびクラッド層形成用樹脂フィルム、これらを用いて作製した光導波路ならびに光モジュールを提供すること。
【解決手段】（Ａ）反応性官能基を有し、かつ重量平均分子量が１０万以上である（メタ）アクリルポリマー、（Ｂ）エポキシ樹脂、（Ｃ）フェノール系エポキシ樹脂硬化剤、（Ｄ）光反応性モノマー、及び（Ｅ）光塩基発生剤を含有する光導波路のクラッド層形成用樹脂組成物、およびクラッド層形成用樹脂フィルム、これらを用いて作製した光導波路ならびに光モジュールである。 （もっと読む）

【課題】感圧接着剤を用いた平面型光導波路において、光導波路層の端面での感圧接着剤の垂れ、染み出し等を防止でき、かつ光導波路層を構成する各層の剥がれを防ぐことができる平面型光導波路用樹脂シートの提供。
【解決手段】一組以上のコア層１およびクラッド層２が積層されてなる光導波路層７を有する平面型光導波路８に用いられる樹脂シート４。コア層１とクラッド層２とを備え、これらのうち一方または両方が感圧接着剤からなり、該感圧接着剤のガラス転移温度が−２０℃以上、５℃以下である。 （もっと読む）

【課題】光損失が低いポリマ導波路を有する光電複合基板を提供する。
【解決手段】コア１とクラッド２からなるポリマ導波路３を基板４に設けて形成される光電複合基板に関する。ポリマ導波路３のコア１は、コア１の一端から光を入射させると共にコア１の他端から光を出射させた際に、出射した光の強度分布が、コア１の中央部で強度が高く、クラッド２との界面の少なくとも一部で強度が低くなるように形成されている。コア１内を伝搬される光のうち、クラッド２との界面付近を通過する光の量が少なくなり、コア１の表面に荒れがあっても、コア１とクラッド２の界面で散乱してクラッド２へと逃げる光の量が少なくなって、光損失を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】ラミネートプロセスにより生産性高く製造でき、また有機溶剤を用いることなくコアの現像ができ、光の損失が小さい光導波路を提供する。
【解決手段】クラッドは、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン付加物、ビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、及びカチオン硬化開始剤を含有するエポキシ樹脂組成物で形成される硬化性フィルムによって作製される。コアは、３，４−エポキシシクロヘキセニル骨格を有するエポキシ樹脂、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン付加物、ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、式（１）の化学構造を有するエポキシ樹脂、及び光カチオン硬化剤を含有するエポキシ樹脂組成物で形成される光硬化性フィルムによって作製される。 （もっと読む）

【課題】ダイシングソーによってコアを形成して光導波路を製造するときに、下部クラッド層の完全切断やコアの形成不良を抑制し、厚みが薄い光導波路を高得率で製造する方法及び光導波路を提供する。
【解決手段】コア層１６と、第１のクラッド層１４と、該第１のクラッド層を構成する材料よりも低い曲げ弾性率を有する高屈曲材層１２とを含む積層体１０を用意する工程と、ダイシングソー２０を用い、前記積層体の前記高屈曲材層側とは反対側の面から、前記ダイシングソーのブレード先端部が少なくとも前記第１のクラッド層の一部まで入り込むように設定して切削することにより前記積層体に切削溝１８を形成するとともにコア部１６ａを形成する工程と、前記積層体の前記切削溝を形成した側にクラッド形成用硬化性材料２２，２４を供給して硬化させることにより前記コア部をクラッドで包囲する工程と、を含むことを特徴とする光導波路の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ラミネートプロセスにより生産性高く製造することができ、また有機溶剤を用いることなく現像を行なってコアを形成することができる光導波路を提供する。
【解決手段】クラッドと、クラッド内のコアとから形成される光導波路に関する。クラッドは、ポリアルキレングリコールジグリシジルエーテル、水添ビスフェノール型エポキシ樹脂、固形ビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、及びカチオン硬化開始剤を含有するエポキシ樹脂組成物で形成される硬化性フィルムをラミネートした後に硬化することによって作製される。またコアは、３，４−エポキシシクロヘキセニル骨格を有するエポキシ樹脂、液状ビスフェノール型エポキシ樹脂、固形ビスフェノール型エポキシ樹脂、及び光カチオン硬化剤を含有するエポキシ樹脂組成物で形成される光硬化性フィルムをラミネートした後に、パターン露光及び現像することによって作製される。 （もっと読む）

【課題】難燃性及び耐屈曲性に優れたフィルム状光導波路を提供する。
【解決手段】フィルム状光導波路２４のコア部分２０及びクラッド層１２，２２の少なくとも一方が、（Ａ）特定のポリイミドシリコーン樹脂３０〜８０質量％、（Ｂ）分子中に重合性炭素−炭素二重結合を少なくとも１個有する特定の化合物１０〜５０質量％、及び（Ｃ）ラジカル性光重合開始剤０．１〜１０質量％（ただし、（Ａ）〜（Ｃ）成分の配合割合は、有機溶剤を含む場合には、有機溶剤を除く全量を１００質量％としたものである。）を含む光導波路用感光性樹脂組成物の硬化物からなる。 （もっと読む）

【課題】一部の従来のプリント回路基板工程の利用により、比較的コストパフォーマンスのよい方法および結果として生じる製品を保証することを可能にする回路基板の新規かつ独特の製造方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも１つの直立部材１５'に近接する少なくとも１つの端部部分を有する第１のクラッディング層１４の上に光学コア３３を設ける工程を少なくとも有して、この光学コア３３を通過する光信号用の光学経路を提供するように適合されること。 （もっと読む）

【課題】透明性と信頼性に優れた光導波路の製造方法及び該製造方法により製造された光導波路を提供する。
【解決手段】基材上に感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層を形成する工程、所望のパターンを露光する工程、アルカリ性現像液を用いて現像する工程及び酸性水溶液を用いて洗浄する工程を有する光導波路の製造方法及び該製造方法により製造された光導波路である。 （もっと読む）

【課題】広範囲、均一かつ３次元的に分散された金属ナノ粒子を、安定して保持可能な近接場光導波路の製造方法およびこの製造方法による近接場光導波路を提供する。
【解決手段】限外ろ過特性または逆浸透特性を有する接着膜１４を形成する工程と、有機物１６で被覆される金属ナノ粒子１８を生成する工程と、基板１２上を接着膜１４で被覆する工程と、金属ナノ粒子１８を接着膜１４上に堆積する工程とを有することを特徴とする近接場光導波路１０の製造方法およびこの製造方法による近接場光導波路１０。 （もっと読む）

【課題】透明性と信頼性に優れた光導波路の製造方法及び該製造方法により製造された光導波路を提供する。
【解決手段】基材上に感光性樹脂層を形成する工程、所望のパターンを露光する工程及び２価以上の金属イオンを含むアルカリ性現像液を用いて現像する工程を有する光導波路の製造方法、基材上に感光性樹脂層を形成する工程、所望のパターンを露光する工程、アルカリ性現像液を用いて現像する工程及び２価以上の金属イオンを含む洗浄液を用いて洗浄する工程を有する光導波路の製造方法、又は基材上に感光性樹脂層を形成する工程、所望のパターンを露光する工程、２価以上の金属イオンを含むアルカリ性現像液を用いて現像する工程及び２価以上の金属イオンを含む洗浄液を用いて洗浄する工程を有する光導波路の製造方法及び該製造方法により得られた光導波路である。 （もっと読む）