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Fターム[2K009AA08]の内容

光学要素の表面処理 (25,952) | 表面構造 (6,152) | 反射防止構造 (4,272) | 反射防止膜 (3,080) | 層数 (1,102) | 5層 (46)

Fターム[2K009AA08]に分類される特許

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【課題】ゴーストやフレアをより低減させ、像ぶれ補正時の収差変動を良好に抑えた光学系、光学装置、光学系の製造方法を提供する。
【解決手段】物体側から順に、正の屈折力を有する第1レンズ群G1と、負の屈折力を有する第2レンズ群G2と、正の屈折力を有する第3レンズ群G3とを有し、無限遠物体から近距離物体への合焦時に第2レンズ群G2が移動し、第3レンズ群G3の少なくとも一部が光軸と直交する方向の成分を含むように移動し、所定の条件式を満足し、第1レンズ群G1から第3レンズ群G3における光学面のうちの少なくとも1面に反射防止膜が設けられており、前記反射防止膜はウェットプロセスを用いて形成された層を少なくとも1層含むように構成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】収差変動を抑え、ゴーストやフレアをより低減させた変倍光学系、光学装置、変倍光学系の製造方法を提供すること。
【解決手段】光軸に沿って物体側から順に、正の屈折力を有する第1レンズ群と、負の屈折力を有する第2レンズ群と、正の屈折力を有する第3レンズ群と、負の屈折力を有する第4レンズ群と、正の屈折力を有する第5レンズ群とを有し、広角端状態から望遠端状態への変倍の際、第1レンズ群は像面に対して移動し、第1レンズ群と第2レンズ群との間隔は増大し、第2レンズ群と第3レンズ群との間隔は減少し、第3レンズ群と第4レンズ群との間隔は変化し、第4レンズ群と第5レンズ群との間隔は変化し、所定の条件式を満足し、第1レンズ群および第2レンズ群における光学面のうち少なくとも1面に反射防止膜が設けられ、反射防止膜はウェットプロセスを用いて形成された層を少なくとも1層含むように構成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】コマ収差を含む諸収差が良好に補正され、ゴーストやフレアをより低減させ、高い光学性能を持つレンズ系、光学機器及びレンズ系の製造方法を提供する。
【解決手段】物体側から正の屈折力を持つ第1レンズ群G1と、正の屈折力を持つ第2レンズ群G2とを有するレンズ系において、第1レンズ群G1と第2レンズ群G2との間に絞りSを配置し、非球面レンズを少なくとも1枚有し、第2レンズ群G2は、最も物体側に配置された第1のレンズ成分L21と、その像側に空気間隔を隔てて配置された第2のレンズ成分L22とを有し、以下の条件式を満足するとともに、第2レンズ群G2を構成するレンズ成分における光学面のうち少なくとも1面に反射防止膜が設けられ、反射防止膜はウェットプロセスを用いて形成された層を少なくとも1層含むように構成される。1.0≦(r21R+r22F)/(r21R−r22F)<12.0、0.8<f22/f<2.0 (もっと読む)


【課題】クラック発生が抑制された反射防止膜付き光学素子を提供する。
【解決手段】樹脂レンズ上に、無機中間層と、反射防止膜とを形成する反射防止膜付き光学素子の製造方法であって、前記光学素子はリフロー処理が可能な光学素子であり、前記無機中間層は前記樹脂レンズと前記反射防止膜との間に形成され、前記無機中間層の被覆面積Xと、前記反射防止膜の被覆面積Yとの比が0.7≦X/Y<1であり、不連続な膜により構成されている反射防止膜付き光学素子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】防眩効果を有し、疲労感の低減、眼病予防にも効果的で、かつ、視認性が良好な光学部品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の光学部品は、プラスチック基材と、前記プラスチック基材の凸面及び凹面からなる両面の少なくとも凸面上に配設された多層膜とを備えた光学部品であって、前記多層膜は、400〜500nmの波長範囲における平均反射率が2〜10%であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】リフロー処理などの高温環境にさらされても反射防止膜のクラックの発生を防止する。
【解決手段】レンズブロック8では、ガラス基板16の面上に硬化性樹脂製の凸レンズ部20aが形成され、凸レンズ部20a上に反射防止膜100が形成されている。反射防止膜100は、高屈折率層102と低屈折率層104とが交互に積層された複数の層から構成され、反射防止膜100の最外層は、低屈折率層104であり、前記最外層と、前記最外層よりも凸レンズ部20a側に設けられた層の少なくとも1層とは、2種類の異なる無機材料が混合された混合膜である。 (もっと読む)


【課題】基板上に形成された光学薄膜の臨界荷重値、すなわち擦傷性を向上させること。
【解決手段】本発明は、基板上に多層の光学薄膜を成膜してなる光学部品であって、
真空蒸着法で形成された少なくとも1層の前記光学薄膜は、臨界荷重値30mN以上であることを特徴とする光学部品である。
ここで、臨界荷重値は、JIS R3255「ガラスを基板とした薄膜の付着性試験」と呼ばれる規格に準拠した測定方法を用いて評価した値である。 (もっと読む)


【課題】わずかな表面状態の劣化を回復し、光学機能膜をほぼ設計通りに機能させることができる光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】光学素子を製造するときに、光学素子の基材となる硝材を、300度を越え400度未満の温度で、空気中で1時間以上加熱する。その後、硝材を自然にゆっくりと冷却し、硝材の表面に設ける光学機能膜や接着剤等の材料と硝材との屈折率差に基づく反射を低減するマッチング膜を硝材表面に成膜する。 (もっと読む)


【課題】優れた防眩性を有し、かつ低へイズ値であっても優れた反射特性を有し、低反射化を行った場合に特有の「色付き」を防止して黒表示における黒の濃さの向上をすることができる防眩性ハードコートフィルム、偏光板等を提供する。
【解決手段】防眩性ハードコート層と反射防止層とを有している反射強度比が3以下の防眩性ハードコートフィルムであって、防眩性ハードコート層は微粒子を含有しており、前記反射防止層表面の凹凸形状において、所定の範囲の平均傾斜角度θa、算術平均表面粗さRaを有し、さらに、反射防止層表面の表面形状が、表面粗さプロファイルの粗さ平均線を越える凸状部の数、前記平均線に平行で0.1μmの高さに位置する基準線を越える凸状部の数および大きさが所定の範囲にあることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】薄膜全体の光学特性を確実に向上させる。
【解決手段】2層以上の層を積層した光学的な薄膜を形成するための薄膜形成方法が開示されている。当該方法では、形成しようとする薄膜の設計条件を設定する工程S1と、前記設計条件に基づき、仮薄膜を形成する工程S2と、前記設計条件中の設計値と前記仮薄膜の実測値との間で光学特性のズレを算出する工程S3と、前記光学特性のズレ量に基づき、前記仮薄膜の各層のうち、前記光学特性のズレに大きな影響を及ぼす層又はその組合せを特定し、特定した層の前記設計条件を変更する工程S5,S6と、変更後の前記設計条件に基づき、本薄膜を形成する工程S9と、を備える。 (もっと読む)


【課題】固体撮像素子の受光部以外の箇所に被膜される遮光用金属膜上に設けられる反射防止膜において、近赤外領域の光に対する反射防止効果を向上させる。
【解決手段】反射防止膜1は、遮光用金属膜3の上層にある位相反転用絶縁層4と、この位相反転用絶縁層4の上層にある表層金属層5と、表層金属層5の上層にある保護膜層6と、を備える。また、位相反転用絶縁層4は、その屈折率をn、対象波長の波長をλとしたときに、略λ/4nとなる膜厚に成膜され、表層金属層5は、シート抵抗が略100〜450Ω/□となる膜厚に成膜される。この構成によれば、遮光用金属膜3の表面に入射した光の一部を、位相反転用絶縁層4の表面と遮光用金属膜3の表面との間で、位相反転させながら繰り返し再反射させて消衰させることにより、高い反射防止効果を実現できる。 (もっと読む)


【課題】帯電防止性の良好な層を形成できる光学物品の製造方法を提供する。
【解決手段】光学基材の上に、直にまたは他の層を介して透光性の第1の層を形成する工程と、チタン、ニオブ、チタンの酸化物およびニオブの酸化物からなる群から選ばれる少なくとも1つの組成をイオンアシスト蒸着することにより、第1の層の表層の少なくとも一部を低抵抗化する工程とを有する光学物品の製造方法を提供する。チタン−ニオブ系でありながら高温プロセスを用いずに表面の電気抵抗を下げることができ、また、高価なインジウムを用いずに表面の電気抵抗を下げることができる。 (もっと読む)


【課題】高い耐擦傷性を有し、かつ光学ガラス基板上に成膜可能な反射防止膜を提供する。
【解決手段】光学ガラスからなる基板100上に複数の薄膜が積層されて形成された反射防止膜10は、薄膜のうち、基板100側から数えた第1層1及び第3層3は、SiO2/Al2O3混合物からなり、基板100側から数えた第2層2及び第4層4は、Ti/La複合酸化物からなり、最も外側の第5層5はMgF2からなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】超過酷な高温高圧の水蒸気に対して防汚性を示すと共に耐久性を有するために高温高圧水蒸気滅菌処理可能である光学素子を提供する。
【解決手段】本発明の光学素子1は、基板2に、五酸化二タンタル又は二酸化ハフニウムからなる高屈折層3と、酸化ケイ素からなる低屈折率層4と、五酸化二タンタル又は二酸化ハフニウムからなる高屈折率層5とを積層し、その上に光学特性に影響を与えない程度の厚さの防汚コート(フッ素化合物)6を積層してなる。 (もっと読む)


【課題】低コストで製造可能であり、屈折率1.9以上の基板に適用しても良好な反射防止特性を発揮する反射防止膜を提供する。
【解決手段】光学ガラスからなる屈折率1.9以上の光学ガラス基板100上に、薄膜が5層以上の奇数層積層されて形成された反射防止膜10は、薄膜のうち、光学ガラス基板100側から数えた第1層1及び第3層3は、屈折率1.5以下の物質からなり、光学ガラス基板100側から数えた第2層2は、屈折率1.8以上の物質からなり、反射防止膜10の設計波長をλとするとき、第1層1の光学膜厚は、(0.1〜0.20)×λ/4、第2層2の光学膜厚は、(0.7〜1.0)×λ/4、第3層3の光学膜厚は、(0.1〜0.32)×λ/4にそれぞれ設定されている。 (もっと読む)


【課題】諸収差を良好に補正しつつ、ゴースト、フレアをより低減させることができる、高い光学性能を備えた大口径の広角レンズ、光学装置および広角レンズのフォーカシング方法を提供する。
【解決手段】物体側から順に負屈折力の第1レンズ群G1、正屈折力の第2レンズ群G2、正屈折力の第3レンズ群G3を有し、第1レンズ群G1は正レンズを有し、フォーカシングは、第1レンズ群G1を固定し、第2、3レンズ群G2、G3を物体方向に繰り出すことにより行う。第1、2レンズ群G1、G2の焦点距離をf1、f2、第1レンズ群G1の正レンズの屈折率をn1p、第1レンズ群G1の正レンズのアッベ数をν1pとしたとき、1.10<(−f1)/f2<1.50、n1p>1.80およびν1p>30.00を満足し、第1〜3レンズ群を構成するレンズ面のうち少なくとも1面は、ウェットプロセスを用いて形成された層を含む反射防止膜である。 (もっと読む)


【課題】可視光線波長領域における反射率が低いとともに反射光の色味も低減されて表示品位が高い反射防止フィルム及びそれを用いたディスプレイ用前面フィルターを提供する。
【解決手段】ポリエチレンテレフタレート基材10と、前記基材10の一方の主面側にウェットコーティング法で形成された反射防止層11とを含む反射防止フィルムであって、前記反射防止層11は基材10側から順次積層形成され、屈折率がそれぞれ1.56〜1.59、1.50〜1.54、1.58〜1.62、1.80〜1.85、1.36〜1.39であり、膜厚がそれぞれ75〜95nm、1200〜5000nm、80〜95nm、140〜155nm、95〜100nmである第一の層1、第二の層2、第三の層3、第四の層4、第五の層5を含み、かつ5度入射における表面反射率が、450〜700nmの波長領域において1.0%以下である反射防止フィルム。 (もっと読む)


【課題】プラスチック基材上にプライマー層を形成後、そのプライマー層上にハードコート層を形成し、更にそのハードコート層上に所定の層の膜厚を厚くした反射防止膜を凸面と凹面に形成したプラスチックレンズは耐衝撃性が低いという問題を有する。
【解決手段】プラスチック基材上にプライマー層を形成後、そのプライマー層上にハードコート層を形成し、更にそのハードコート層上に形成した反射防止膜であって凸面側の特定の低屈折率層の光学的膜厚と凹面側の特定の低屈折率層率層の光学的膜厚を所定の範囲で形成することで、傷がつきやすいプラスチックレンズ凸面の硬度、膜の密着性、干渉色、さらには耐衝撃性においても優れた特性を得ることができた。 (もっと読む)


【課題】プラスチック基材上にプライマー層を形成後、そのプライマー層上にハードコート層を形成し、更にそのハードコート層上に所定の層の膜厚を厚くした反射防止膜を凸面と凹面に形成したプラスチックレンズは耐衝撃性が低いという問題を有する。
【解決手段】プラスチック基材上にプライマー層を形成後、そのプライマー層上にハードコート層を形成し、更にそのハードコート層上に形成した反射防止膜であって凸面側の特定の低屈折率層の光学的膜厚と凹面側の特定の低屈折率層率層の光学的膜厚を所定の範囲で形成することで、傷がつきやすいプラスチックレンズ凸面の硬度、膜の密着性、干渉色、さらには耐衝撃性においても優れた特性を得ることができた。 (もっと読む)


【課題】青色光レーザを使うブルーレイに対応して外周部に大きな入射角で光が入射して
も十分な反射防止特性を得ることができる対物レンズを提供する。
【解決手段】記録媒体に記録と再生との少なくとも一方を行う記録再生用装置に用いられ
、かつ、レンズ基材100の表面に反射防止層110が設けられた対物レンズである。反
射防止層110は大気中からレンズ基材に向かって順に第1層111、第2層112及び
第3層113の3層から構成され、第1層111の光学膜厚t1、第2層112の光学膜
厚t2及び第3層の光学膜厚t3が、t1<t2<t3、の関係にあり、使用波長が35
0nm〜450nmである。 (もっと読む)


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