【課題】カラーフィルタの多面取り露光等ワークが大型化した状態においも、カラーフィルタの露光パターンにおける色むら等を防止して、高精度、高スループットの露光を達成するための露光装置を提供する。
【解決手段】仕切り壁８１１と突起８１２との間隔Ｌは、突起８１２同士の間隔Ｌに等しくなるので、保持したワークＷの下面ＷＶの撓み量は、仕切り壁８１１と突起８１２との間、及び隣接する突起８１２同士の間でほぼ等しくなる。これにより仕切り壁８１１と突起８１２と、突起８１２同士の間隔とをほぼ等しく調整することができ、ワークＷの平面度を向上させて、露光ムラを抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】薄板ワークの支持剛性を向上させて精度良く表面加工することができる薄板ワークの固定装置を提供する。
【解決手段】薄板ワークＷを所定の位置に固定する固定装置２は、複数の第１シリンダロッド５と、複数の第２シリンダロッド６とを備えており、垂直に立設されている。第１シリンダロッド５は、第１ロッド１１と、第１高さ調整部１２と、薄板ワークＷを吸着する吸着パッド１３とを有している。第２シリンダロッド６は、吸着パッドを有しておらず、先端１６ａが薄板ワークＷの下面に当接する第２ロッド１４と、第２高さ調整部１５とを有している。隣接する第１シリンダロッド５の間には、少なくとも１つの第２シリンダロッド６が配置されている。薄板ワークＷの幅方向に関する外形寸法をみれば、第２シリンダロッド６の幅は、第１シリンダロッド５の幅よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】 被吸着体を吸着・保持するための、パーティクルの発生が少ない吸着部材を提供する。
【解決手段】 本発明の一実施形態に係る吸着部材１０は、基体１の上面に多数の支持用凸部２を形成した吸着部材１０であって、支持用凸部２は、上面中央部に小凸部４を形成した円錐台状をなす基部３の上面及び側面に保護層５を形成してなる。これにより、基部３と保護層５とが強固に密着されることになり、保護層５の剥離によって発生するパーティクルを極力少なくすることができる。 （もっと読む）

【課題】ワークの保持剛性を高くすることができる平板加工用治具を提供する。
【解決手段】平面の台座１０上面を周回するように、台座１０上面から突設して形成された支持台１２と、支持台１２上面を周回するように形成した溝に配置され、載置されるワークＷ下面との間をシールするＯリング１３と、台座１０、支持台１２、ワークＷ及びＯリング１３が形成する真空部１１の内部に配置され、ワークＷ下面と接するＯリング１６とを有し、真空部１１を真空引きすることにより、ワークＷを吸着、固定すると共に、真空部１１において、Ｏリング１６でワークＷを支える平板加工用治具。 （もっと読む）

【課題】簡易な工程で、かつ低コストで加工ができる加工治具や加工装置および加工方法を提供する。
【解決手段】被加工物１０を減圧吸着する減圧吸着部材２０と、被加工物１０を減圧吸着部材２０に向かって押圧する押圧部材３０とを台座４０の上に備える。減圧吸着部材２０には、被加工物１０を減圧吸引するための吸着口２１が、被加工物１０に対応して、被加工物１０の長さ方向および配列方向にそれぞれ複数設けられている。また、長さ方向において隣接する各吸着口２１の間には、各被加工物１０を切断するための切断溝２２が所定の間隔毎に形成されている。押圧部材３０には、被加工物１０を押圧するための押圧面３１が複数設けられており、長さ方向において隣接する押圧面３１の間には、各被加工物１０を切断するための貫通部３２が所定の間隔毎に形成されている。 （もっと読む）

【課題】ワークを固定する際に十分な位置精度が得られる真空チャック装置を提供する。
【解決手段】支持部２２と、支持部２２の上に設けられ、ワーク４０が載置される吸着部２４と、支持部２２と吸着部２４との間に一体的に設けられたバキュームホール２６と、吸着部２４に形成され、バキュームホール２６に連通する吸着用吸引穴２４ａと、支持部２２に形成され、バキュームホール２６に連通して排気手段２８に接続される排気口２２ａと、バキュームホール２２の屈曲部Ｂを構成する２辺の内壁ラインＷ１，Ｗ２１に沿って吸着部２４に設けられ、バキュームホール２６に連通する位置決め用吸引穴２４ｂと、吸着部２４上の２辺の内壁ラインＷ１，Ｗ２の外側に設けられ、ワーク４０を位置決めするためのガイド部材３０，３２とを含む。 （もっと読む）

【課題】基板を容易に離脱させることができる基板保持具および基板保持方法を提供する。
【解決手段】本発明の基板保持具は、Ｗ基板を真空吸引により保持する。この基板保持具は、基板Ｗの吸着面を有する基板保持ステージ１と、真空源および流体供給源に選択的に連結される流体通路１４，２３とを備える。基板保持具の吸着面は、凸部６ａ，６ｂ，６ｃによって囲まれた複数の閉区画１２を有し、流体通路１４，２３は、これらの閉区画１２にそれぞれ独立して連通する複数の連通路１４，２３ｂを有している。 （もっと読む）

【課題】基板を真空吸着したときの載置面の変形を抑え、高精度での基板の研削を可能にするものである。
【解決手段】載置面に基板を吸着保持するための多孔質セラミックスからなる載置部と、基板の外縁部を支持する支持部と、前記載置部及び前記支持部が設置された基台と、を備える真空吸着装置であって、前記基台の少なくとも載置部との接合面が、その略中央が最も高い凸型である。また、基板の真空吸着時における載置面の沈み量の最大値と最小値との差が３μｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】優れた表面平滑性を維持しつつ、通気性が改善された吸着固定用シートを提供する。
【解決手段】吸着固定用シート５０は、吸引ユニットから吸引作用を受けるべき吸引面２１ａを有する多孔質層２１と、吸引面２１ａに開口が位置するように機械的または化学的な孔開け加工によって多孔質層２１に設けられた複数の孔ＴＨと、複数の孔ＴＨを挟んで吸引面２１ａとは反対側に位置し、吸着固定するべき部品に接触する作業面２３ｂとを備えている。 （もっと読む）

【課題】様々な回路基板を確実に吸着固定することで、切断装置により基板を基板平面に対して垂直に安定して切断できる基板吸着固定機構を提供する。
【解決手段】基板を吸着する吸着部６が、剛性の高い吸着ステージ５の吸着側に柔軟な材質の軟質部材１を配置して吸着表面を形成するとともに、軟質部材１の所定箇所に軟質部材１よりも剛性の高い硬質部材２を配置してなり、吸着部６に吸着する基板７を軟質部材１の吸着表面に吸着固定するとともに、切断時に押圧される基板７を硬質部材２で支持する。 （もっと読む）

【課題】比較的に簡単な方法で吸着エリアを変えることが可能な真空吸着テーブルを提供する。
【解決手段】テーブル本体２０の径方向ｄ１が、テーブル受け部３０の吸引路３４の延び方向に一致している場合、当該最大径ｄ１の同心円上の両端吸着孔２２，２２、及び、それら両端吸着孔２２，２２の間に位置する吸着孔２２だけが吸引路３４に連通する。従って、最大径ｄ１の同心円上の両端吸着孔２２を囲む領域Ｅ１が、ワークＷを吸着可能な吸着エリアとなる。回転駆動機構１２がテーブル本体２０をテーブル受け部３０に対して相対的に回転させると、両端吸着孔２２，２２が径ｄ４の同心円上に位置する吸着孔群が、吸引路３４に対応した位置にあり、当該径ｄ４の同心円上の両端挿通孔２２を囲む領域Ｅ２が、ワークＷを吸着可能な吸着エリアとなる。 （もっと読む）

【課題】被加工材の端面加工を容易にするとともに、設備コストを節減することができる易削性被加工材の加工テーブルを提供する。
【解決手段】易削性の被加工材２９を加工する際に載置して固定するための加工テーブル１であって、ブロア２１により負圧が与えられる負圧空間４が上面に開放するよう形成された負圧生成基台５と、上記負圧生成基台５上に上記負圧空間４を覆うように載置され、上記負圧空間４に連通する連通路１９を有する吸引凹部１８が複数形成されたアタッチメント板６を備え、上記アタッチメント板６に対し、マウント部材２０と多孔質吸引板３０とを切り換えて設備し、被加工材２９の吸引固定方法を変更するように構成した。 （もっと読む）

【課題】基板を補強することができるとともに、基板に悪影響を及ぼすことを抑えることができる基板保持装置、基板保持装置の製造方法、基板の保持方法を提供する。
【解決手段】基板保持装置１２は、基板１１の強度を補強するために用いられ、負圧によって基板１１と固定される。基板保持装置１２は、第１保持装置１６と、第２保持装置１７とを有し、互いが接合されている。第１保持装置１６は、基板１１と密着する面である基板吸着面１８と、基板１１と基板保持装置１２との間にある気体を除去するための流路１９及び吸引孔２０とを有する。第２保持装置１７は、第１保持装置１６に接合されて用いられ、気体を流通又は遮断するとともに基板保持装置１２に基板１１を保持するための弁２１と、弁２１と繋がって形成され弁２１の開閉動作を補助する突起部とを有する。 （もっと読む）

【課題】載置面を真空吸着時の変形を見越して形成することにより、半導体ウエハ等研削時の砥石軸の精密調整等の煩雑な作業を簡便化し、かつ高精度のウエハ等の研削を可能にする。
【解決手段】載置面２ａに被吸着体を吸着保持するためのセラミックス多孔質体からなる載置部２と、前記載置部の気孔に連通する吸気孔４を有する緻密質セラミックスからなる支持部３とを備える真空吸着装置であって、前記載置面が、その略中心２ｂを頂点とする凸型であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】液晶基板を吸着装置で固定して熱加工する際に生じる液晶基板のうねりなどの平坦度の低下を防止するワ−ク支持装置を提供する。
【解決手段】板状のワークを支持するワーク支持台（液晶基板ステージ２０）と、該ワーク支持台で支持されたワークを保持するとともに、該ワークを保持したままで、前記ワーク支持台に対しワークの面方向に沿って移動可能な可動ワーク保持装置（可動吸着装置１）とを有する。可動ワーク保持装置１と、ワーク支持台に対し相対的に移動不可とされた固定ワーク保持装置を備えるのが望ましい。ワークが熱加工などによって位置変動をする際に可動ワーク保持装置が追随でき、ワーク拘束に起因する熱加工時のうねりを効果的に防止する。ワークの平坦度が維持され、加工のばらつきなどが防止される。 （もっと読む）

【課題】
ユニバーサルチャックのチャックプレートに通気性部材と不通気部材が混在してたため、吸着痕が残り、半導体ウエハの超高精度の研削又研磨加工に支障をきたしていた。
【解決手段】
上面に半導体ウエハＷをバキューム吸着する円板状のチャックプレート１と、チャックプレート１を嵌着させるカップ状のチャックホルダー２とを備えた研削盤又は研磨盤のユニバーサルチャックにおいて、チャックホルダー１は不通気性部材で形成すると共に流体流通部３を形成し、前記チャックプレート１は通気部材で形成すると共に下面の略サイズ切換位置にリング状の凹溝１ａを刻設し、凹溝に不通気性リング部材４を嵌入させた。
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【課題】ウエーハ等の被加工物が貼着された粘着テープが溶融しないように保持することができる加工装置のチャックテーブルを提供する。
【解決手段】加工手段によって加工が施される被加工物を保持する加工装置のチャックテーブルであって、基台部４２１と、基台部の表面に設けられ被加工物を保持する保持面を備えた複数の保持部４２２と、複数の保持部の周囲に形成された外気流通部４２３と、外気流通部に開口し吸引手段に連通する吸引穴４２４と、外気流通部に開口し冷却液供給手段に連通する冷却液供給穴４２５とを具備している。 （もっと読む）

【課題】多孔質の吸着体を有する真空チャックにおける吸着体の変形発生を防止し、吸着面と被加工物との間に液体を供給して被加工物を真空チャックから取り外すことができるようにする
【解決手段】この真空チャック１０は、無機質材料の粉粒体からなる骨材と骨材相互を連結する結合材とを焼結して形成され、表面に被加工物を吸着保持する吸着面１３が設けられた多孔質吸着体１２を有している。多孔質吸着体１２の内部には、吸着面１３に透過して連通する流体案内路１６が形成されている。流体案内路１６に真空ポンプ２４により負圧空気を供給することにより被加工物は吸着面１３に吸着保持され、流体案内路１６に加圧ポンプ３２から正圧流体を供給すると、被加工物は真空チャックから取り外される。 （もっと読む）

【課題】真空引き保持具への被加工物の取り付けを簡便に行えるようにし、被加工物の形態や最終的な加工状態に合わせて取り付けなければならない煩雑さを解消する。
【解決手段】固定盤２の表面部分に球面状の凹部４を複数設け、これらの底面に垂直吸引孔９を設けて内部の水平吸引孔７ａ，７ｄに繋げる。水平吸引孔７ａ，７ｄの出口に空気配管プラグ８ｂを固定し真空ポンプに繋ぐ。固定盤２の上一面に薄くて曲がり易いシリコンシート３を敷き、この上に被加工物Ｗを置く。加工するときは真空ポンプを作動させて凹部４から空気を排出すると、シリコンシート３は凹部４の球面に吸着され、シリコンシート３と被加工物Ｗとの間の真空度が高まり、被加工物Ｗがシリコンシート３を介して固定盤２に固定される。 （もっと読む）

【課題】ワークを真空吸着して保持する装置であって、ワークを吸引していない吸引孔を自動的に閉塞し、ワークと吸着口との気密を確保してより高い吸引力を発生させる。
【解決手段】吸着保持装置１０の吸着ステージ１２に設けた吸引孔１２ａに吸気バルブ１５を備えた。吸気バルブ１５は、真空室１２ｃに連通する弁室３２を内部に形成するとともに、該弁室３２に連通する吸着口３８をワーク吸着側端面に開口するピストン３０と、該ピストン３０をその一部がワーク吸着側端部より突出した状態で摺動可能に内挿するシリンダ２０と、弁室３２に形成された弁座３１に離接可能であって、弁座３１に着座した状態で少なくともその一部が吸着口３８よりワーク吸着側へ突出する球体４５と、球体４５を弁座３１に着座する方向へ付勢する付勢バネ４０とで構成した。吸着口３８を設けたピストン３０の端面において、該吸着口３８の周囲にＯリング４２を備えた。 （もっと読む）