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Fターム[3C058CA07]の内容

仕上研磨、刃砥ぎ、特定研削機構による研削 (42,632) | 課題(ワーク種別) (3,461) | 材質 (2,114) | プラスチック (63)

Fターム[3C058CA07]に分類される特許

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【課題】一次銅張配線基板から小面積の二次銅張配線基板を効率よく得るようにする。
【解決手段】芯板(2)の両面に銅箔(3a,3b)が固着されてなる一次銅張配線基板(1−1)を多数積み重ねて一次重ね基板(A)を形成し、該一次重ね基板(A)を回転カッタ(7)により複数に切断することにより、小面積の二次銅張配線基板(1−2)が多数積み重った二次重ね基板(B)を形成し、外周に可撓性のブラシ材を有する回転ブラシを設け、該回転ブラシにより前記二次重ね基板(B)の切断端面を研削して各二次銅張配線基板(1−2)を上下に分離する。 (もっと読む)


【課題】板状被加工物に変形が生成されている場合には、変形を自動的に強制して吸引保持させることができる加工装置を提供する。
【解決手段】搬送機構12は搬送プレート32と、搬送プレート32の下面に配設され、板状被加工物2を吸引保持する吸引保持板34、及び吸引保持板34を囲繞し且つ吸引保持板34の下面を越えて突出する弾性囲繞部材36と含む。吸引保持された板状被加工物2が支持機構10の吸引支持板26上に位置されると、搬送機構12の弾性囲繞部材36の下端が支持テーブル24の上面に接触されて、密閉空間Rが形成され、板状被加工物2の裏面と吸引保持板34の表面との間に間隙が生成されている場合には、吸引されることによって密閉空間Rに負圧が生成され、これによって大気圧により搬送プレート32が下降し弾性囲繞部材36が収縮され、板状被加工物2が吸引支持板26上に押圧され、板状被加工物2の変形が矯正される。 (もっと読む)


【課題】被研磨物の平坦性を向上させることができる研磨パッドを提供する。
【解決手段】研磨パッド20は、湿式成膜法により連続的に形成され内部にセル3が形成されたウレタンシート12を備えている。ウレタンシート12は、湿式成膜後に成膜基材の成膜樹脂が形成された面の反対側の面を圧接ローラに圧接させ、スキン層側にバフ処理が施されている。スキン層はバフ処理により除去され研磨面Pに開孔5が形成されている。バフ処理時に使用されるサンドペーパは、PET等の可撓性のフィルム基材を有しており、フィルム基材の表面にはウレタン樹脂で砥粒が固定されている。バフ処理による砥粒の脱落が低減する。 (もっと読む)


【課題】研磨剤を効率よく供給して安定した研磨性能を発揮することができ、研磨剤の使用量を抑制することができ、さらに研磨時間が短縮できる簡易な構成のプラスチックレンズ研磨装置を提供すること
【解決手段】プラスチックレンズBに当接する研磨部材2と、この研磨部材2をプラスチックレンズBに対して前進かつ回転させる駆動部10と、を有するプラスチックレンズ研磨装置1であって、前記研磨部材2は、連続気泡が内部に形成された弾性部材40と、この弾性部材40に研磨剤31を収納する研磨剤収納部30と、を備え、前記弾性部材40が前記研磨剤収納部30に収納された前記研磨剤31に浸されていることを特徴とするプラスチックレンズ研磨装置1。 (もっと読む)


【課題】光ディスクなどの年輪状痕等を低減可能とする。
【解決手段】チャンバ15により区画されたラッピングプレート32上に被研磨部材であるスタンパ1の被研磨面である裏面1bを接触させ、ラッピングプレート32の回転駆動により前記裏面1bを研磨する研磨方法であって、チャンバ15内に、ゲージ圧力を0.01MPaから0.5MPaの間に設定した圧縮空気を導入して前記スタンパ1を前記ラッピングプレート32へ押圧する。ラッピングプレート32を回転駆動することと、チャンバ15内に供給する加圧流体のゲージ圧力を0.01MPaから0.5MPaの間に設定することとの協働によりスタンパ1の裏面1bのRaの値を0.02以下とすることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】被加工物よりも大きい支持基板の平坦な上面に、被加工物に外周縁が支持基板の外周縁を越えて延出することがないように被加工物を位置づけて支持基板Niに貼着された場合、余分な切削ストロークを切削することなく、切削ブレードや被加工物にダメージを与えない切削方法を提供する。
【解決手段】被加工物4に切削溝を形成する切削溝形成工程では被加工物4の片側縁に近接する位置から被加工物4の他側縁から離隔する位置まで、回転切削ブレード12と被加工物4及び支持基板6とを移動させて、切削ブレード12を被加工物4の片側縁から他側縁に向けて順次に作用させ、完全切断工程においては、支持基板6の片側縁側に近接する位置から被加工物4の他側縁から離間する位置まで、回転切削ブレード12と被加工物4及び支持基板6とを切削溝に沿って相対的に移動させて、切削ブレード12を支持基板6の片側縁から他側縁に向けて順次に作用させる。 (もっと読む)


【課題】研磨後の基板表面のうねりやナノ突起欠陥の低減を実現できる磁気ディスク基板用研磨液組成物の提供。
【解決手段】研磨材と、下記一般式(1)で表される構成単位及びスルホン酸基を有する構成単位を有する共重合体又はその塩とを含有する磁気ディスク基板用研磨液組成物。


[式(1)中、R1は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基であり、R2は水素原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基又はアリール基である。] (もっと読む)


自動車のプラスチックライトカバー、またはサングラスレンズもしくは矯正用光学レンズ等の他のプラスチック表面の光透過性および光学的透明性状を効果的に回復させるプラスチック修復キットおよび方法。これらのキットおよび方法は、引っかき傷および/または紫外線誘発性酸化によって損傷されているプラスチック表面を修復する。これらのキットおよび方法は、プラスチック表面を艶出しし、光沢付与するように選択された粒子を有する研磨用組成物および光沢付与組成物、ならびに硬質の紫外線防御コーティングを形成する紫外線防御組成物を利用する。これらの艶出し組成物および/または光沢付与組成物は、艶出しまたは光沢付与するステップの間に酸素および機械的圧力に曝される場合、次第に砕解し小さい粒度になる、液状またはゲル状担体内に分散された、凝集された研磨材粒子を含むことができる。 (もっと読む)


【課題】機能性材料全般の研磨を高能率で行うことが可能であり、表面粗さ、平坦度、形状安定性などの点で良好な研磨特性を確保できる研磨用組成物を提供することを解決すべき課題とする。
【解決手段】式(1):NH(SiMeにて表されるシラザン化合物に接触して処理した微小粉体である疎水化砥粒を含有する研磨用砥粒を有することを特徴とする。式(1)で表されるシラザン化合物にて処理した疎水化砥粒を含有させた研磨用砥粒を有することにより、砥粒が被加工物や研磨に用いるパッドなどの研磨用部材への吸着力が向上し、研磨材の有効利用を図ることが可能になる。 (もっと読む)


【課題】薄膜脆性材料を、表面の平担性、表面の凹凸、厚さの精度等において、高い性能で研磨でき、研磨後の表面欠陥が少ない研磨方法の提供。
【解決手段】厚さ500μm以下、且つヤング率1.0×108以上の薄膜脆性材料10を一方の面を固定して他方の面を研磨する方法において、薄膜脆性材料10の固定された面と接する固定用表面に深さまたは高さ5〜100μm、ピッチ30〜2000μmの凹凸25があることを特徴とする薄膜脆性材料の表面研磨方法。 (もっと読む)


【課題】線状工具の両端を挟持して高速回転及び往復動させることにより、板ガラス、硬質プラスチック等の高脆性材が高精度に加工できる線状工具盤を得る。
【解決手段】一対のスピンドル(11a,11b)を同軸に対向配置するとともに、各スピンドル(11a,11b)の対向端部にそれぞれ線状工具(25)を挟持するチャック(12a,12b)を設け、前記一対のスピンドル(11a,11b)を同期して高速回転させる回転装置(13a,13b)と、該一対のスピンドル(11a,11b)を同期して軸方向に往復動させる往復動装置(8)とを設ける。 (もっと読む)


【課題】シリコンウエハ研磨用のキャリア本体の大型化に伴う問題点を克服し、キャリア表面に形成したDLC薄膜の局部的クラックや早期剥離を防止し、研磨効率の向上と寿命の延長を目指す。
【解決手段】強化プラスチック製キャリア本体の表面を加工ブラスト処理によって、表面粗さをRa:0.5〜1.90μm、Rz5.0〜18.0μmの範囲に調整し、その表面に、DLC薄膜を形成する。 (もっと読む)


改良された研削/研磨装置は、ボウル、回転する駆動板、及びプラテンを支持するようになっている駆動板駆動部を備える基部を有する。研削/研磨装置は試料ホルダを支持するように構成されたヘッドを備える。ヘッドは、試料ホルダを回転駆動する第1の駆動部と、駆動板に対して試料ホルダを接近・離反移動させる第2の駆動部とを有する。第1の態様によれば、ヘッドは、第1の駆動部に作動連結されたロードセルと、第2の駆動部に作動連結されたカウンタとを備える。カウンタは、駆動板に接近・離反するヘッドの移動とその移動範囲を決定するように構成される。制御システムが提供される。第2の態様によれば、試料ホルダと共に回転可能なヘッド部分の中から伸びたり、ヘッド部分の中に格納することができるフィンガが提供される。第3の態様によれば、ボウル内に適合するための交換可能なボウルライナが提供される。第4の態様によれば、ヘッド内には照明が設置される。 (もっと読む)


【課題】樹脂製品の研磨により生じる被研磨材料が、磁性体粒子に付着することを防止し、樹脂製外装材の表面状態に静電気的な差が生じる場合に比べて高い防汚性を有する樹脂製外装材を得られる樹脂製外装材の表面の再生方法、及びそれを利用して表面が再生された樹脂製外装材を備える事務機器を提供する。
【解決手段】使用済み製品の樹脂製外装材の表面を、磁場中で、砥粒と、樹脂で被覆された磁性体粒子と、シリコーンオイル及びフッ素オイルの少なくとも一方とを含む磁気研磨液により研磨する研磨工程を有する樹脂製外装材の表面の再生方法である。 (もっと読む)


【課題】ワークを研磨した際に、面内の平坦度を高く保つことのできる、特にワーク外周部の表面形状が悪化することを抑制することができるテンプレートの製造方法を提供する。
【解決手段】ワークを研磨する際に、前記ワークを保持するためのテンプレートの製造方法であって、少なくとも、ガラスエポキシ基板を準備する工程と、前記ガラスエポキシ基板をラッピングおよび/または研磨する工程と、前記ガラスエポキシ基板にワーク保持用の穴を開ける工程を有することを特徴とするテンプレートの製造方法。 (もっと読む)


【課題】被切断物を切断する際に発生する切りくずが切断された物品に付着することを、防止する。
【解決手段】被切断物である樹脂封止体1が吸着される吸着用治具6の上面には、樹脂封止体1に設けられた格子状の複数の領域5の境界線4に各々重なる複数の溝13,14が設けられる。回転刃17が被切断線20において樹脂封止体1を切断する際には、回転刃17の周端部が被切断線20に重なる切断部溝21に収容される。吸着用治具6の前方に設けられた洗浄水用ノズル22から、切断部溝21に向かって、切断部溝21が延びる方向であって切断くずが排出される方向(−Y方向)に洗浄液23を噴射する。吸着用治具6の前方に設けられた別の洗浄水用ノズル24から、被切断線20の直前に切断された境界線25に重なる溝26に向かって、−Y方向に洗浄液23を噴射する。 (もっと読む)


【課題】研磨状態のバラツキの発生を抑制し、研磨対象の表面を均一に研磨することができる研磨装置を提供する。
【解決手段】研磨プレート22における研磨パッド23の装着部22dに、装着部22dの中心22fを中心とする複数個の同一形状の扇形の溝部22eを、周方向に等間隔に形成すると共に、溝部22e内に真空ポンプに接続された空気流路の吸込口22cを形成し、吸込口22cから空気を吸引することによって研磨パッド23を装着部22dに装着する。 (もっと読む)


【課題】研磨レートの低下を抑制する。
【解決手段】表面2aが被研磨物に圧接される研磨層2を有し、研磨層2の裏面側に設けられる両面テープ3によって定盤に固定される研磨パッドであって、研磨層2の裏面と両面テープ3との間に、研磨スラリーを遮断する止水層8を設け、研磨層2の表面2aに供給される研磨スラリーが、研磨層2の表面から裏面側の両面テープ3に浸透するのを防止し、両面テープ3の粘着材層6の成分が溶出するのを防止している。 (もっと読む)


本発明は、好ましくは水中ペレタイザの形の、ペレタイザに関する。特に、本発明は、工具キャリヤ回転軸(4)のまわりに回転的に駆動されることができる工具キャリヤ(3)、および工具キャリヤに取り付けられて、工具キャリヤ回転軸から間隔を置いて配置され、ペレタイザダイプレートから出てくるプラスチック溶融物をノックオフするためのおよび/または前記ペレタイザダイプレートを研磨するための、少なくとも一つの切断および/または研磨工具(6)を備えたこの種のペレタイザ用のカッタおよび/または研磨ヘッド(2)に関する。本発明に従って、切断および/または研磨工具が工具キャリヤ回転軸から間隔を置いて配置される回転軸のまわりに工具キャリヤに回転可能に取り付けられる。これは、切断および/または研磨工具に動きの第2の構成成分を与える。一方では、切断および/または研磨工具はその工具キャリヤ回転軸のまわりに工具キャリヤと共に回転し、および、他方、切断および/または研磨工具は工具キャリヤに対してそれ自体の回転軸のまわりに回転することができる。工具キャリヤは、切断および/または研磨工具のためのピボット軸受(8)を有し、それを用いて切断および/または研磨工具がそれ自体のまわりに回転することができる。 (もっと読む)


【課題】
高い研磨速度を持ち、被研磨基板のうねり低減可能な研磨液組成物、また、該研磨液組
成物を用いた被研磨基板のうねり低減方法、及び該研磨液組成物を用い、うねりを低減さ
せた高品質の基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
α−アルミナ、中間アルミナ、酸化剤及び水を含有する研磨液組成物、該研磨液組成物
を用いて、被研磨基板のうねりを低減する方法、並びに前記研磨液組成物を用いて、被研
磨基板を研磨する工程を有する基板の製造方法。 (もっと読む)


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