【解決手段】ＭＥＭＳディスプレイ素子をアクチュエートする装置及び方法。実施形態は、ビデオデータのフレームを表示する素子を制御する装置である。アレイ（３０）を備える素子は、素子を第１のディスプレイ状態にするため、フレームディスプレイ書込処理の第１の部分（１００）の間、素子に電位差をアサートし、素子を第２のディスプレイ状態にしてビデオデータのフレームを表示するために、フレームディスプレイ書込処理の第２の部分（１０１）の間、素子上に電位差をアサートするアレイコントローラ（２２）を含む。第１のディスプレイ状態は、第２のディスプレイ状態とは異なる。別の実施形態では、アレイコントローラ（２２）は、電荷蓄積及びオフセット電圧レベルに対して影響を与える素子に大きな電位差をアサートする。別の実施形態では、アレイコントローラ（２２）は、素子の動作に影響を与える逆境条件に打ち勝つため状態間で素子を迅速に切り替えるためパルスをアサートする。 （もっと読む）

【課題】充てん物質を使用した光干渉光変調器と方法を提供する。
【解決手段】基板と可動ミラーと変形可能層と支持構造とを備えているＭＥＭＳデバイスたとえば光干渉変調器を備えている装置と製造するための方法とシステムとが記述されている。いくつかの実施形態では、支持構造は複数の支持ポストを備えている。コネクターは、変形可能層に固定された可動ミラーを固定する。コネクターと支持ポストの少なくとも一つが、第一の構成部分と第一の構成部分と第二の構成部分とからなる複合物であり、ここで第一の構成部分においてがコネクターと支持ポストの周囲の少なくとも一つの少なくとも一部を形成する。 （もっと読む）

硬質面内に三次元成形用パターン(N)を電気機械彫刻することを含む方法。該硬質面は、該三次元成形用パターン(N)に従ってマイクロ複製するように構成されている。該成型用パターンは、光再指向フィルム(2)の光学素子(5)のマイクロ複製用となることができる。
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基板（２３０、２４０）を接合する方法と接合された基板（２３０、２４０）を有する装置とを開示する。基板を接合する方法は、基板接合材料層（２５０）を第１の基板（２４０）の接合面（２４２）に付着することを含む。基板接合材料層（２５０）又は第２の基板（２３０）の接合面（２３２）の少なくとも一方の接合部位密度が高められ、基板接合材料層（２５０）を有する第１の基板（２４０）の接合面（２４２）が、第２の基板（２３０）の接合面（２３２）に接合される。
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１つ以上の異なる色のサブピクセルについて異なる材料を利用することにより最適化されたｉＭｏＤディスプレイがここに示される。そのような最適化されたディスプレイは、サブピクセルがすべて同じ材料で構成されるディスプレイに対して全色域を改善した。さらに、そのようなディスプレイを製造する方法、およびｉＭｏＤディスプレイを最適化する方法が示される。 （もっと読む）

ミクロンおよびサブミクロンサイズの形体を有する導電性金属トレースを直接書き込む新規な低温法。この方法では、チップを有してもよいし有しなくてもよい平坦なビーム、たとえばAFMカンチレバーを使用して、金属前駆体インクのトレースを基材上に引く。金属トレースの寸法は、カンチレバーの形状によって直接制御することができ、そのため、微細加工カンチレバーによって1ミクロンから100ミクロン超の幅のトレースを制御可能に付着させることができる。先鋭なチップを有するカンチレバーを使用して最小形体サイズをサブミクロンスケールまでさらに減らすことができる。形体の高さは、類似材料または異種材料の層を構築することによって増すことができる。この付着法によって導電率が高くロバストなパターンを得るために、二つの一般的なインク調合法が設計された。両インク系の主要成分は直径100nm未満のナノ粒子である。ナノ粒子は通常、バルク材料よりも有意に低い融点を有するため、ばらばらの粒子の集合を非常に低い温度（300℃未満、さらには約120℃）で融解、焼結または凝集させて連続（多）結晶質膜にすることができる。第一の方法では、炭化水素キャップしたナノ粒子を適当な溶媒中に分散させ、それをパターンの形で表面に付着させたのち、加熱によって膜を焼鈍して連続金属パターンを形成することができる。第二の方法では、還元性マトリックスの存在で金属化合物を表面に運び、次いで、加熱によってその場でナノ粒子を形成すると、それが続いて凝集して連続金属パターンを形成する。白金および金インクを用いた研究では、いずれのナノ粒子ベースの方法も、低い抵抗率（4マイクロオーム.cm）および優れた接着性を有するミクロンサイズのトレースをガラスおよび酸化ケイ素上に形成した。

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