ＭＥＭＳデバイスを製造する方法は、導電性の犠牲層を除去する前に、一定期間の間、導電性の犠牲層を介して、絶縁層を横断する電圧を印加することによって、絶縁層を調整する段階を含む。この調整プロセスは、絶縁層の中に蓄積される電荷を飽和させるか、もしくは安定させるために使用され得る。絶縁層を横断する抵抗が、更に、絶縁層において起こり得る欠陥を検出するために測定され得る。
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【課題】ＭＥＭＳディスプレイ素子にデータを書き込むための方法およびシステムを提供する。
【解決手段】別の実施形態は、ＭＥＭＳ素子のアレイを有するディスプレイデバイスを駆動する方法が開示されている。ＭＥＭＳ素子は、好適な正および好適な負の動作電位差と、好適な正および好適な負の保持電位差と、好適な解放電位差とを有する駆動電位差の好適なセットによって特徴づけられ、駆動電位差の好適なセットは、オフセットδＶだけ０Ｖとは異なる電圧に対して対称である。別の実施形態は、視覚のアーティファクトのない逆極性の電位差を印加することの影響の平衡を保つチャージを維持しながら、供給電圧の低減されたセットが使用される。 （もっと読む）

ＭＥＭＳスキャナシステム及び方法。このシステムは、入射レーザビームを偏向し、入射レーザビームを受け反射レーザビームを発生するよう動作可能なＭＥＭＳミラー２６と、開口３０を有しＭＥＭＳミラー２６に対向配置される不透明プレート２８とを含む。開口３０は、入射レーザビーム及び反射レーザビームが開口３０を通じるように許容するようサイズ設定される。
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【課題】
【解決手段】第一の電極（７０２）と可動物質（７１４）の間にかけられた電圧でＭＥＭＳデバイスが電気的に動作される。第一の電極から離れているラッチ電極（７３０ａ、７３０ｂ）によってデバイスが動作状態に維持されうる。 （もっと読む）

可変膜により生じる本来の平行板コンデンサーの作動性質の回復またはエミュレートに対する連接機構の電気機械的動態作用プロファイルは、ＭＥＭＳシステムに利用されている。柔軟な膜が曲線状に変形することにより、ＭＥＭＳの性質は動重力が作用する際に幾何的平行性を維持するリジッド板間における知られた相互作用とは異なったものとなる。本発明では平行板の性質を獲得する３つの方法を説明する。可変ＭＥＭＳ膜内、膜上において、リジッド領域を追加するまたはその場で統合する。膜と結合した導体領域内における調整・整形されたボイドの導入により、膜上の力プロファイルを変化させることより平行性を確保するイソダイン領域を形成する。隆起リジッド領域の堆積後、導体領域が堆積される複合構造の手段であり、前記領域から直接発生するリジッド性の利点と共に、リジッド領域付近における内部導体の距離増加によりイソダインの性質をエミュレートする。
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ＭＥＭＳデバイスのための支持構造、およびその方法
保護材料によって取り囲まれた犠牲材料で形成された支持構造を有する微小電気機械システムデバイス。微小電気機械システムデバイスは、上に電極を形成された基板を含む。キャビティによって第一の電極から分離された別の電極は、犠牲材料で形成された支持構造によって支持される移動可能層を形成する。
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支持構造を有するＭＥＭＳデバイス、およびその製造方法
ＭＥＭＳデバイスの実施形態は、導電性の移動可能層を含み、該移動可能層は、ギャップによって導電性の固定層から隔てられ、導電性の移動可能層内のくぼみの上にある剛性の支持構造もしくはリベットによって、または導電性の移動可能層内のくぼみの下にある柱によって支持される。特定の実施形態では、リベット構造の部分は、移動可能層を通って下の層に接触する。他の実施形態では、剛性の支持構造の形成に使用される材料を、ＭＥＭＳデバイスと電気的に接続する不動態化を経ないと曝されるであろうリードを不動態化して、これらのリードを損傷またはその他の干渉から保護するためにも用いることができる。
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本発明の１つの実施形態では、インターフェロメトリック光変調デバイス内において内部双極子モーメントを形成する方法が開示される。特定の実施形態では、該方法は、インターフェロメトリック光変調デバイスの誘電体層に熱および電場を加えることを含む。該方法を実施される前は、誘電体層は、可動電荷を有する、またはランダムな双極子を含む。しかしながら、該方法を実施された後は、これらのランダムな双極子は、概ね揃えられ、その結果、誘電体層内に、一定の双極子モーメントが誘起される。電場は、誘電体層内に双極子モーメントを形成し、熱は、更なる活性化エネルギを供給することによってプロセスの速度を増大させる働きをする。誘電体層内に双極子モーメントを誘起されると、インターフェロメトリック光変調デバイスの作動に必要とされる電圧の少なくとも一部を提供する内部電圧源を得ることができる。誘起された双極子モーメントは、また、動作中にデバイス内で制御不能な電荷シフトが生じる可能性を低減させる。
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本発明は集積回路及び保護カバーのような重ねられた微細構造の集合的製作に関する。
各々が重ねられた第一と第二の要素を備えた個々の構造は集合的に製作される。第一の要素（例えば集積回路チップ）は第一の板（１０）上に用意され、第二の要素（例えば透明カバー）は第二の板（４０）の上に用意される。板はそれらの対向面の主要部分にわたって互いに接着されているが、付着のない限られた区域（ＺＤ_n）では接着されない。個々の構造は次に一方で上端部を経由し、他方で底部を経由して、付着のない区域を通る異なった平行な切断線（ＬＨ１_n、ＬＨ２_n、ＬＤ_n）に沿って切り取られ、切り取り後に第一の要素が第二の要素によって覆われない表面部分（平行な切断線の間にある部分）を保有するようにする。接続端子（ＰＬ_n）は従ってこの場所においてアクセス可能なまま残り得る。
ガラス板で覆われたイメージセンサ又はディスプレイの製作へだけでなく、一般にあらゆる種類の微細加工された構造（ＭＥＭＳ、ＭＯＥＭＳ）にも適用される。 （もっと読む）

光変調デバイス（２００、３００、３００−１、３００−２、３００−３、３００−４、３０５、１１００）は、下側電荷プレート（２１０、３１０、３１０−３、３１０−４）と、少なくとも１つの可撓性部材（２３５、３３５、３３５−１、３３５−２、３３５−３、３３５−４）によって支持される、反射性の上側表面を含むピクセルプレート（２０５、３０５、３１０、１１２０）であって、可撓性部材（２３５、３３５、３３５−１、３３５−２、３３５−３、３３５−４）は当該ピクセルプレート（２０５、３０５、３１０、１１２０）の概ね下に配置される、ピクセルプレートと、上側電荷プレート（５４０、６３５、６４０）とを備える。 （もっと読む）

インターフェロメトリックモジュレータデバイス中の支持構造（１８）はデバイス中の様々な他の構造と接触する。支持構造（１８）と他の構造との間の接合強度の増加は様々な方法、例えば、粗面及び／または支持構造と他の構造との間の界面に接着材料を使用することによって達成される。実施形態では、接着力増加は支持構造（１８）と基板層（２０）との間で達成される。別の実施形態では、接着力増加は支持構造（１８）と可動層（１４）との間で達成される。接着力増加は支持構造とインターフェロメトリックモジュレータ内に取付けられる他の構造との間の望ましくない滑りを減少させる。
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干渉変調器のヒステリシスウインドウの幅とロケーションは、干渉変調器の種々の物理的特性を調節することにより変更されてもよい。従って、干渉変調器が製造される特定のアプリケーションに応じて、ヒステリシスウインドウの幅とロケーションは変更されてもよい。例えば、いくつかのアプリケーションにおいて、干渉変調器のアレイを動作させるのに必要な電力を低減することは重要な考察かもしれない。他のアプリケーションにおいて、干渉変調器の速度は、より重要かもしれない。この場合、ここで使用されるように干渉変調器の速度は可動鏡をアクチュエートさせたり弛緩させたりする速度を指す。他のアプリケーションにおいて、コストと製造の容易さは最も重要であるかもしれない。種々の物理的特性を調節することによりヒステリシスウインドウの幅とロケーションの選択を可能にするシステムと方法が導入される。
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【課題】インターフェロメトリック変調器に関するプロセスコントロールモニター
【解決手段】
ＭＥＭＳデバイス１０８の製造に用いられるプロセスステップと同じプロセスステップの少なくとも一部を用いて製造されるプロセスコントロールモニター１００、１０２、及び１０４が開示される。プロセスコントロールモニター１００、１０２、及び１０４の分析は、ＭＥＭＳデバイス１０８の性質及び前記デバイス内の構成要素又は副構成要素に関する情報を提供することができる。この情報は、加工の際の誤りを識別するために又はＭＥＭＳデバイス１０８を最適化するために用いることができる。幾つかの実施形態においては、プロセスコントロールモニター１００、１０２、及び１０４の分析は、光学的測定値を利用することができる。 （もっと読む）

【課題】微小電気機械システムデバイス内における構造物の電気機械的動作を制御すること。
【解決手段】
一実施形態においては、本発明は、微小電気機械システムデバイスを製造する方法を提供する。前記方法は、特徴的な電気機械的反応、及び特徴的な光学的反応を有する膜を具備する第１の層を製造することであって、前記特徴的な光学的反応は望ましく、前記特徴的な電気機械的反応は望ましくないことと、前記電気機械システムデバイスの起動中に蓄積される電荷を少なくとも減少させることによって前記特徴的な電気機械的反応を修正すること、とを具備する。
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【解決手段】ＭＥＭＳディスプレイ素子をアクチュエートする装置及び方法。実施形態は、ビデオデータのフレームを表示する素子を制御する装置である。アレイ（３０）を備える素子は、素子を第１のディスプレイ状態にするため、フレームディスプレイ書込処理の第１の部分（１００）の間、素子に電位差をアサートし、素子を第２のディスプレイ状態にしてビデオデータのフレームを表示するために、フレームディスプレイ書込処理の第２の部分（１０１）の間、素子上に電位差をアサートするアレイコントローラ（２２）を含む。第１のディスプレイ状態は、第２のディスプレイ状態とは異なる。別の実施形態では、アレイコントローラ（２２）は、電荷蓄積及びオフセット電圧レベルに対して影響を与える素子に大きな電位差をアサートする。別の実施形態では、アレイコントローラ（２２）は、素子の動作に影響を与える逆境条件に打ち勝つため状態間で素子を迅速に切り替えるためパルスをアサートする。 （もっと読む）

【課題】充てん物質を使用した光干渉光変調器と方法を提供する。
【解決手段】基板と可動ミラーと変形可能層と支持構造とを備えているＭＥＭＳデバイスたとえば光干渉変調器を備えている装置と製造するための方法とシステムとが記述されている。いくつかの実施形態では、支持構造は複数の支持ポストを備えている。コネクターは、変形可能層に固定された可動ミラーを固定する。コネクターと支持ポストの少なくとも一つが、第一の構成部分と第一の構成部分と第二の構成部分とからなる複合物であり、ここで第一の構成部分においてがコネクターと支持ポストの周囲の少なくとも一つの少なくとも一部を形成する。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイの角度特性を制御するための光学フィルム。
【解決手段】本発明の種々の実施形態において、光干渉ディスプレイ・デバイスは、ディスプレイの視界を狭くする複数の構造を用いる外部フィルムを有して提供される。これらの構造は、例えば、バッフル又は複合パラボラ集束器のような非結像光学素子を備えることができる。バッフルは、例えば、グリッドに配列された複数の垂直に向きを揃えて並べられた表面を備えることができる。ある種の好ましい実施形態では、これらのバッフルは、不透明又は反射性である。したがって、これらの垂直な面は、光が実質的に垂直でない方向に光干渉ディスプレイ・デバイスを出ることを実質的に遮ることができる。しかしながら、これらの垂直な面は、実質的に垂直な方向に向けられた光がディスプレイを出ることを可能にする。非結像光学素子、例えば、複合パラボラ集束器は、大きな入射角からディスプレイに向かってさらに垂直な角度へと光の向きを変える。その結果、ユーザへディスプレイによって反射された光は、同様にさらに垂直な角度である。 （もっと読む）

光学フィルタの機能性がディスプレイ素子の基板中に組み込まれ、それによって、分離した薄膜フィルタの必要性を減じ、そして、従って、フィルタ付ディスプレイ素子の全厚を低減する。フィルタの機能性は、例えば、顔料物質、光ルミネセンス物質、及び、不透明物質のような、任意のフィルタ物質によって与えられることが出来る。該フィルタ物質は基板作製時に基板中に組み込まれることが出来る、或いは、基板をマスキングすること、基板をフィルタ物質に曝すこと、及び、該フィルタ物質を基板中に拡散するために基板を加熱すること、からなるプロセスによって、該基板中に選択的に拡散させられることが出来る。 （もっと読む）

【解決手段】２つの表示面を有する干渉光変調デバイスが提供される。いくつかの実施形態では、このデバイスは、デバイスの各側に１つ、すなわち２つの別個のイメージを同時に生成することができる。 （もっと読む）

【課題】インターフェロメトリック変調器の欠陥を視覚的に検査する方法
【解決手段】様々な駆動状態における、インターフェロメトリック変調器のアレイ６０の視覚的検査のための方法が提供される。この方法は、検査パッド７２等の単一の検査パッド又は検査リードを介して、インターフェロメトリック変調器の多数の列又は行を駆動することと、その後に、アレイ６０の予想した光出力と実際の光出力の相違についてアレイ６０を観察することとを含むことができる。この方法は、特に、例えば、列６２等の隣接しない行又は列からなるセットを、列６４等の間にある行又は列とは異なる状態に駆動することと、その後に、アレイ６０の光出力を観察することとを含むことができる。 （もっと読む）