【課題】ダークスポットの発生を抑制し、歩留まり率を向上させることができるエレクトロルミネッセンスパネルを提供する。
【解決手段】上面に画素電極２０ａが配列されたトランジスタアレイパネル５０と、画素電極２０ａの間に形成された絶縁膜５と、絶縁膜５の上部に設けられた隔壁６と、画素電極２０ａ及び隔壁６の上部に形成された正孔注入層２０ｂと、正孔注入層２０ｂの上部に形成された発光層２０ｃと、発光層２０ｃの上部に形成された対向電極２０ｄと、を備え、絶縁膜５の上端は下端よりも画素電極２０ａ側へ突出しているエレクトロルミネッセンス素子２０である。 （もっと読む）

【課題】基板上のＩＴＯ表面を洗浄及び保護する方法を提供する。
【解決手段】プロセスチャンバＰＣ１００の内部に載置された基板上のＩＴＯ表面にその表面の汚染物の分子の結合エネルギーより強いエネルギーを持つ光を光源から照射し、その照射中又は照射後、直ちに同一チャンバ内にてシランカップリングのガスを供給する。これにより、基板上のＩＴＯ表面を洗浄及び保護することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、電極層を成膜する際の有機エレクトロルミネッセンス層のダメージを緩和することができ、高品質の画像表示が可能な有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、基材と、上記基材上に形成された第１電極層と、上記第１電極層上に形成され、かつ少なくとも発光層を有する有機エレクトロルミネッセンス層と、上記有機エレクトロルミネッセンス層上に形成され、バンドギャップが２．０ｅＶ以上である無機化合物および金属を含有する半導体緩衝層と、上記半導体緩衝層上に形成された第２電極層とを有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することにより、上記目的を達成するものである。 （もっと読む）

【課題】水分の存在する環境下におかれた場合であってもダークスポットの発生を抑制すると共に耐ショート性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子、及び、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】陽極６と基板１の表面に形成された陰極２との間に有機発光層５を備えてなる有機エレクトロルミネッセンス素子において、陰極２と有機発光層５との間に、電子受容物質及び当該電子受容物質に対して電子を供与することが可能な有機物を含む第１混合物層３と、電子供与物質及び当該電子供与物質から電子を受容することが可能な有機物を含む第２混合物層４ａ、又は、仕事関数３．７ｅＶ以下の金属からなる電子注入層４ｂとを陰極２側からこの順で備える。第１混合物層３は好ましくは塗布により形成される。 （もっと読む）

【課題】滅点化の可能性を低減することの可能な表示装置およびその駆動方法ならびに電子機器を提供する。
【解決手段】Ｖｔｈ補正準備期間（Ｔ１〜Ｔ４）において、信号線ＤＴＬの電圧がＶ_ｏｆｓ１となっているときにトランジスタＴ_ＷＳをオン・オフし、ゲート電圧Ｖ_ｇおよびソース電圧Ｖ_ｓを上昇させる。その後、Ｖｔｈ補正を開始する前に、信号線ＤＴＬの電圧がＶ_ｏｆｓ２となっているときにトランジスタＴ_ＷＳをオンし、ゲート電圧Ｖ_ｇをおよびソース電圧Ｖ_ｓを元の電圧にまで下げる。これにより、Ｖｔｈ補正準備期間のうち所定の間（ゲート電圧Ｖ_ｇがＶ_ｏｆｓ１となっている間）、ソース電圧Ｖ_ｓをＶ_ｉｎｉよりも高い電圧にすることができる。 （もっと読む）

【課題】Ｖｔｈ補正に起因して滅点が生じる可能性が増大するのを抑制することの可能な表示装置およびその駆動方法ならびに電子機器を提供する。
【解決手段】Ｖｔｈ補正準備期間、Ｖｔｈ補正期間および発光期間において、信号線ＤＴＬの電圧がＶ_ｏｆｓからＶ_ｓｉｇに上げられるタイミングに応じてカソード線ＣＴＬの電圧がＶ_ｓｓ１からＶ_ｓｓ２に上げられ、信号線ＤＴＬの電圧がＶ_ｓｉｇからＶ_ｏｆｓに下げられるタイミングに応じてカソード線ＣＴＬの電圧がＶ_ｓｓ２からＶ_ｓｓ１に下げられる。 （もっと読む）

【課題】有機層のパターニング方法において、有機層を全面塗布した後、有機層への影響を低減してパターニングを行う方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）パターン状に形成された透明導電膜を第１電極（陽極層＋リード部）とした基板上に１層以上の有機層を全面に製膜し、
（Ｂ）該有機層上に第２電極（陰極層）をパターニング製膜し、
（Ｃ）予め決められた第１電極上の一部の有機層を除去し、
（Ｄ）第２電極と、有機層を除去した第１電極部分に渡って導電層を製膜する、
ことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の作製方法。 （もっと読む）

【課題】従来の有機ＥＬ装置では、製造にかかる効率を向上させることが困難である。
【解決手段】第１基板４１と、発光層６９を含み、第１基板４１に対向する有機層３１と、第１基板４１及び有機層３１の間に介在し、有機層３１に対向する画素電極２９と、有機層３１の画素電極２９側とは反対側に位置し、有機層３１を挟んで画素電極２９に対向する対向電極３３と、対向電極３３及び有機層３１の間で対向電極３３に接した状態で設けられ、有機層３１を挟んで画素電極２９に対向する電子注入層７１と、珪素を含む材料で構成されており、対向電極３３の電子注入層７１側とは反対側に配置され、少なくとも一部が対向電極３３に接する珪素含有膜３５と、を有することを特徴とする有機ＥＬ装置。 （もっと読む）

【課題】発光特性に優れたＥＬパネル及びＥＬパネルの製造方法を実現する。
【解決手段】酸化モリブデン層を成膜して正孔注入層８ｂを形成することに先立って、ポリイミド系樹脂材料からなるバンク１３に対して酸素プラズマ処理を施して、その表層を９０ｎｍ以上除去することによって、ＥＬパネル１の発光領域を構成する各画素Ｐを良好に発光させ、その発光領域におけるダークエリアの発生を防止することを可能にした。 （もっと読む）

【課題】発光特性に優れたＥＬパネル及びＥＬパネルの製造方法を実現する。
【解決手段】酸化モリブデン層を成膜して正孔注入層８ｂを形成することに先立って、ポリイミド系樹脂材料からなるバンク１３に対して酸素プラズマ処理を施して、その表層を５０ｎｍ以上除去することによって、ＥＬパネル１の発光領域を構成する各画素Ｐを良好に発光させ、その発光領域におけるダークスポットの発生を防止することを可能にした。 （もっと読む）

【課題】加熱室に投入された支持基板の枚数、支持基板上における樹脂の有無、支持基板の履歴などが相違している場合でも、支持基板から水分を十分に除去した後、有機機能層の形成を行なうことのできる有機ＥＬ装置、およびその製造装置を提供すること。
【解決手段】有機ＥＬ装置１００を形成する際、第１電極層１４０を形成した後、正孔注入層１８１、正孔輸送層１８２、発光層１８３などの有機機能層を形成する前に真空加熱乾燥による水分除去工程をおこなう。この水分除去工程において、加熱室内の基板１枚当たりの水分量、あるいは加熱室内の単位時間当たりの水分減少量を示す監視値が所定レベルに到達した後、有機機能層工程を行なう。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐熱性、耐熱透明性、耐溶剤性等の各特性に優れ、更に、密着性に優れ、低脱ガスの有機ＥＬ素子用隔壁、これを形成するための、加熱焼成時の収縮が小さい樹脂組成物を提供することにある。本発明の他の目的は、この樹脂組成物を用いて、上記特性を有する隔壁を有する、高輝度で信頼性に優れた有機ＥＬ素子を提供することにある。
【解決手段】プロトン性極性基を有する環状オレフィン重合体（Ａ）及び架橋剤（Ｂ）及び感放射線化合物（Ｃ）を含んでなり、前記感放射線化合物の含有量が、前記環状オレフィン重合体１００重量部に対して１０〜４５重量部である有機エレクトロルミネッセンス素子の隔壁形成用の樹脂組成物、この樹脂組成物を用いて形成された隔壁、この隔壁を有する有機エレクトロルミネッセンス素子、及びこの有機エレクトロルミネッセンス素子を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置である。 （もっと読む）

【課題】十分に高い発光効率及び寿命を達成できる有機ＥＬ素子を提供すること。
【解決手段】基板１０と、基板１０の一側に互いに対向するように配置された第１の電極層１２及び第２の電極層１８と、これらの電極層間に配置された発光層２０と、を備える有機ＥＬ素子において、第１の電極層１２及び第２の電極層１８の一方がホール注入電極層、他方が電子注入電極層であり、発光層２０と電子注入電極層との間に有機薄膜層３０が形成され、発光層２０中に、電子注入電極層側に偏倚して改質部１６が形成され、有機薄膜層３０及び改質部１６は、発光層２０を構成する有機化合物とは異なる、エネルギーギャップ３．５ｅＶ以上の有機高分子化合物を含み、有機薄膜層３０と改質部１６との合計膜厚は０．１ｎｍ〜５ｎｍであることを特徴とする有機ＥＬ素子。 （もっと読む）

【課題】滅点の発生を抑制し、表示品質の良好な有機ＥＬ表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基板上に配置された陽極６０と、
陽極６０に対向して配置された陰極６４と、
陽極６０と陰極６４との間に配置され、発光層６２Ａを含む有機物層６２と、
有機物層６２と陰極６４との間に配置され、有孔状もしくは表面に凹凸形状を有する第１酸化物層８１と、
第１酸化物層８２と陰極６４との間に配置され、第１酸化物層８１とは膜構造が異なる第２酸化物層８２と、
を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

有機発光デバイスを製造する方法であって、アノード（２）上に有機発光層（３）を堆積させ、有機発光層上にカソードを堆積させることを含む方法において、カソードが、電子注入材料を含む第１の層（４ａ）を堆積させ、３．５ｅＶより大きな仕事関数を有する金属材料を含む第２の層（４ｂ）を第１の層上に堆積させ、３．５ｅＶより大きな仕事関数を有する金属材料を含む第３の層（４ｃ）を第２の層上に堆積させることによって形成される３層構造を含む方法である。 （もっと読む）

【課題】異物などによる電流リークおよびショートに起因する発光欠陥の発生を抑制した耐久性の高い有機発光素子を提供する。
【解決手段】 有機発光素子において、アノード１２における、有機発光層１３に混入している導電性異物１７に対応する位置に導電性異物１７と略同径寸法の貫通孔１２ａが形成され、導電性異物１７は、貫通孔１２ａの外側に後退するように加工されている。空洞領域１８は、貫通孔１２ａ内の空隙と、貫通孔１２ａの外側で導電性異物１７の端面までの僅かな空隙とで構成されている。 （もっと読む）

【課題】封止信頼性の高い有機ＥＬ装置を提供する。
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス装置は、互いに対向する一対の基板４６，５６と、一対の基板４６，５６同士の間に閉空間５８が形成されるように、一対の基板４６，５６同士を封止する第１封止部５４と、一対の基板４６，５６のうち、一方の基板４６の閉空間５８側の面に形成された、主として有機発光材料で構成される有機発光層を備える有機発光素子６２と、有機発光素子６２上部に形成された、有機発光素子６２を封止する第２封止部５０と、第１及び第２封止部５４，５０に囲まれた領域に形成された、主として乾燥剤で構成される乾燥剤膜５２と、を含む。 （もっと読む）

【課題】画素シュリンク及びダークスポットの発生を低減する。
【解決手段】エッジカバー４７は、平坦化層４１の表面に接しており、凹部６２に有機ＥＬ層５０が形成される前に、平坦化層４１と共にベーク処理される。エッジカバー４７は、平坦化層４１と共にベーク処理された際に平坦化層４１から発生するガスと同種のガスを発生し、かつこの平坦化層４１よりも水分透過性の高い材料で形成されている。エッジカバー４７が平坦化層４１と接しているため、平坦化層４１で発生した水分及びその他の生成物を含むガスが、水分透過性の高いエッジカバー４７を介して平坦化層４１及びエッジカバー４７の外部に逃がされる。したがって、平坦化層４１及びエッジカバー４７を熱処理した後に凹部６２に形成される有機ＥＬ層５０において、画素シュリンクの低減でき、且つダークスポットの発生を低減できる。 （もっと読む）

【課題】水分の影響を効果的に除去し、かつ、製造コストを抑えることが出来る有機ＥＬ表示装置の封止方法を得る。
【解決手段】有機ＥＬ層２２がマトリクス状に形成された素子基板１０と対向して封止基板４０がシール材５２を介して設置されている。素子基板１０、封止基板４０、シール材５２で囲まれた内部には、ゲル状乾燥剤３０が充填されている。ゲル状乾燥剤３０はゲル状態であるから、有機ＥＬ表示装置の内部を柔軟に充填し、隙間を完全に無くすことが出来る。内部にはゲル状乾燥剤３０が充填されているので、外部から水分が浸入しにくく、また、有機ＥＬ表示装置としての機械的強度も向上する。封止基板４０に乾燥剤設置のための凹部を形成する必要はなく、平板を用いることが出来るので、製造コストを低減することが出来る。 （もっと読む）

【課題】製造工程中の大気曝露の回数を削減することが可能な発光装置の製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】発光装置の製造装置１００は、発光層形成装置１０７と、カソード形成装置１０８と、封止装置１１０と、を備える。発光層形成装置１０７とカソード形成装置１０８と封止装置１１０とはそれぞれ接続されており、各工程間で画素基板が大気に暴露されることがない。これにより、製造装置１００で行われる製造工程中に画素基板が大気に曝されることが抑制され、水分の付着等によるダークスポットの発生を抑制することができる。 （もっと読む）