【課題】有機ＥＬパネルの平坦化膜等の有機樹脂の内部に含まれている水分が経時に伴って有機ＥＬ層や電極に漏出することによる有機ＥＬ発光特性の低下を抑制する。
【解決手段】有機ＥＬパネル１０は、第１基板２０とそれに対向する第２基板３０とを備え、発光領域Ｐとその外側の非発光領域とを有する。第１基板２０は、第１基板本体２１と、その第２基板側の上の平坦化膜２３と、その上の少なくとも発光領域を含み且つ非発光領域の少なくとも一部を含まないように設けられた一の電極２４と、その上に少なくとも発光領域を含むように設けられた有機ＥＬ層２６と、その上に少なくとも発光領域を含み且つ非発光領域の少なくとも一部を含まないように設けられた他の電極２７と、を有する。第２基板３０は、第２基板本体３１と、その第１基板側に設けられ他の電極２７に電気的に接触した導電膜３２と、を有する。 （もっと読む）

【課題】従来、ホール注入層に用いることができなかった材料を使用することができる有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ素子は、基板Ｓ上に形成された陽極１、及び陽極１に対向して配置されている陰極２の間に、ホール注入層１０、発光層１１及び電子注入層１２が、陽極１側からこの順に積層されたものである。ホール注入層１０は、少なくとも１種の縮合多環芳香族炭化水素を含んでおり、また、陽極１のイオン化ポテンシャルは５．７ｅＶ以上とされている。かかる陽極１は、陽極材料を成膜したものに対して反応性イオンエッチング処理を施すことにより有効に製造できる。 （もっと読む）

【課題】従来よりも少ないマスク数により作製でき、光電流による影響が抑えられた薄膜トランジスタ及び表示装置の作製方法を提供する。
【解決手段】遮光膜、下地膜、第１の導電膜、第１の絶縁膜、半導体膜、不純物半導体膜及び第２の導電膜を順に積層して形成し、第２の導電膜上に第１のレジストマスクを形成し、第１のレジストマスクを用いて、第２の導電膜、不純物半導体膜、半導体膜、第１の絶縁膜、第１の導電膜、下地膜及び遮光膜に第１のエッチングを行い、第１の導電膜の一部にサイドエッチングを伴う第２のエッチングを行ってゲート電極層を形成し、第２の導電膜上に第２のレジストマスクを形成し、第２のレジストマスクを用いて、第２の導電膜、不純物半導体膜及び半導体膜の一部に第３のエッチングを行ってソース電極及びドレイン電極層、ソース領域及びドレイン領域並びに半導体層を形成することで薄膜トランジスタを作製する。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子を有する表示画素において、非発光領域の発生を抑制することができるパネル構造を有する表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】各表示画素ＰＩＸの画素形成領域Ｒpx間に配設する隔壁層１７を、非感光性の樹脂材料（例えば、フッ素化合物含有樹脂材料）からなる樹脂層をドライエッチング法を用いてパターニングすることにより形成し、また、該隔壁層１７により画定される画素形成領域Ｒpxに設けられる有機ＥＬ層１５を構成する正孔注入層１５ａを、遷移金属の酸化物（例えば、酸化モリブデン）を真空蒸着法やスパッタリング法を用いて成膜することにより形成する。 （もっと読む）

【課題】反射率が高い反射膜を有するトップエミッション型有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】トップエミッション型有機ＥＬ装置１において、反射層の表面に、Ｗを主成分とする正孔注入層を設け、エッチング液やエッチングガスが反射層に接触しないようにする。Ａｌを主成分とする反射層を用いても、反射層の表面がエッチング液やエッチングガスで荒らされることはないので、高反射率の反射層を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】画素領域内で膜厚が均一な有機層を構成することができる有機ＥＬ素子を備える発光装置およびその製造方法を提供することである。
【解決手段】基板と、該基板上に設けられる複数の有機エレクトロルミネッセンス素子と、各有機ＥＬ素子が設けられる各画素領域を規定する隔壁とを備える発光装置であって、前記隔壁は、前記各画素領域に相当する領域に穴が穿設されてなる絶縁膜と、該絶縁膜の基板側とは反対側に設けられる隔壁本体とを含んで構成され、前記有機ＥＬ素子は、一対の電極と、該電極に挟持され、かつ前記絶縁膜に囲まれる領域に配置される発光部とを含んで構成され、前記絶縁膜の厚みが、前記発光部の厚みよりも薄いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】露光マスク数を削減することでフォトリソグラフィ工程を簡略化し、酸化物半導体を有する半導体装置を低コストで生産性よく作製することを課題の一とする。
【解決手段】チャネルエッチ構造の逆スタガ型薄膜トランジスタを有する半導体装置の作製方法において、透過した光が複数の強度となる露光マスクである多階調マスクによって形成されたマスク層を用いて酸化物半導体膜及び導電膜のエッチング工程を行う。エッチング工程において、第１のエッチング工程は、エッチングガスによるドライエッチングを用い、第２のエッチング工程はエッチング液によるウエットエッチングを用いる。 （もっと読む）

【課題】迷光による画質劣化を抑えることが可能な反射板、これを備えた表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】発光パネル１０の光取り出し側に、複数の反射素子３１Ｃを有する反射板３０を配設する。反射素子３１Ｃの周囲に、樹脂材料よりなる第１埋め込み層３４Ａと、樹脂材料および光吸収材料を含む第２埋め込み層３４Ｂを形成する。樹脂材料としては、アクリル、エポキシ系の紫外線硬化樹脂または熱硬化樹脂など、光吸収材料としては、炭素（Ｃ），酸化クロム（ＣｒＯ），窒化チタン（ＴｉＮ）およびシリコン（Ｓｉ）などを用いる。第２埋め込み層３４Ｂにより、反射素子３１Ｃに入射しなかった漏れ光ｈ１を吸収し、迷光による画質劣化を抑える。 （もっと読む）

【課題】露光マスク数を削減することでフォトリソグラフィ工程を簡略化し、酸化物半導体を有する半導体装置を低コストで生産性よく作製することを課題の一とする。
【解決手段】チャネルエッチ構造の逆スタガ型薄膜トランジスタを有する半導体装置の作製方法において、透過した光が複数の強度となる露光マスクである多階調マスクによって形成されたマスク層を用いて酸化物半導体膜及び導電膜のエッチング工程を行う。エッチング工程は、エッチングガスによるドライエッチングを用いる。 （もっと読む）

【課題】露光マスク数を削減することでフォトリソグラフィ工程を簡略化し、酸化物半導体を有する半導体装置を低コストで生産性よく作製することを課題の一とする。
【解決手段】チャネルエッチ構造の逆スタガ型薄膜トランジスタを有する半導体装置の作製方法において、透過した光が複数の強度となる露光マスクである多階調マスクによって形成されたマスク層を用いて酸化物半導体膜及び導電膜のエッチング工程を行う。エッチング工程において、第１のエッチング工程は、エッチング液によるウエットエッチングを用い、第２のエッチング工程はエッチングガスによるドライエッチングを用いる。 （もっと読む）

【課題】水分の残留を抑制し、かつ、画素電極下の無機絶縁膜が有機平坦化膜から剥がれてしまうのを抑制することが可能な表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】このＥＬ装置（表示装置）１００の製造方法は、低温パッシベーション膜２６のうち有機平坦化膜２４に接触する第１部分２６ａとパッシベーション膜２３に接触する第２部分２６ｂとを、それぞれ、ドライエッチングすることによって水分除去用開口部２６ｄとコンタクトホール２６ｃとを形成する工程と、水分除去用開口部２６ｄをマスクした状態で、コンタクトホール２６ｃによって露出されたパッシベーション膜２３をドライエッチングすることによってコンタクトホール２６ｃと連結するコンタクトホール２３ａを形成してドレイン電極２２を露出させる工程と、ドレイン電極２２に接続するように画素電極２８を形成する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】水分の残留を抑制し、かつ、画素電極下の無機絶縁膜が有機平坦化膜から剥がれてしまうのを抑制することが可能な表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】このＥＬ装置（表示装置）１００の製造方法は、低温パッシベーション膜２６のうち有機平坦化膜２４に接触する第１部分２６ａとパッシベーション膜２３に接触する第２部分２６ｂとを、それぞれ、ウェットエッチングすることによって水分除去用開口部２６ｄとコンタクトホール２６ｃとを形成する工程と、水分除去用開口部２６ｄをマスクした状態で、コンタクトホール２６ｃによって露出されたパッシベーション膜２３をドライエッチングすることによってコンタクトホール２６ｃと連結するコンタクトホール２３ａを形成してドレイン電極２２を露出させる工程と、ドレイン電極２２に接続するように画素電極２８を形成する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】隣り合う下部電極を区切る樹脂膜をエッチングにより形成するに際して、その樹脂膜が所望の箇所以外でエッチングされないようにする。
【解決手段】複数の下部電極８ａが表面に配列されてなる中間製造物１ａの表面に有機層３０を成膜して下部電極８ａを有機層３０で被覆し、有機層３０の上に無機層３１を成膜し、無機層３１の上にレジスト膜３２を形成し、レジスト膜３２のうち下部電極８ａに重なる部分を露光・現像により除去し、レジスト膜３２をマスクとして無機層３１をエッチングし、レジスト膜３２及び無機バンク１４をマスクとして有機層３０をエッチングすることで下部電極８ａを露出させ、有機物の液体を下部電極８ａの上に塗布することで下部電極８ａの上に有機エレクトロルミネッセンス層８ｂ，８ｃを形成し、有機エレクトロルミネッセンス層８ｂ，８ｃ及び無機層３１の上に上部電極８ｄを成膜する。 （もっと読む）

【課題】発光パネルの製造時に使用するフォトマスクの枚数を低減し、製造工程数を削減して製造コストの低減を図るとともに、加工精度の向上を図って開口率の向上を図る。
【解決手段】発光パネル１０は、基板２の上面に形成された遮光膜４と、遮光膜４を被覆する層間絶縁膜５と、層間絶縁膜５の上面に形成された画素電極２０ａ及び画素トランジスタ２１，２２と、複数の画素電極２０ａの外周部及び画素トランジスタ２１，２２を被覆するように形成された保護絶縁膜３２と、画素電極２０ａの上部に形成された発光機能層２０ｂと、保護絶縁膜３２の上部に形成され、発光機能層２０ｂの形成領域を画定する隔壁６と、を備える。遮光膜４は、保護絶縁膜３２または隔壁６の少なくともいずれか一方と平面視において同一形状である。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー法による利点を有しつつ、エッチングによる絶縁層の欠損を防止し、素子の短絡の欠陥が防止された長寿命で安定な発光が得られる素子、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に少なくとも第１電極とエレクトロルミネッセント層と第２電極を有し、該エレクトロルミネッセント層の少なくとも1層をフォトリソグラフィー法によりパターニングしてなるエレクトロルミネッセント素子であって、特定の珪素化合物の１種または２種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であるオルガノポリシロキサンを含む絶縁層を有することを特徴とする、エレクトロルミネッセント素子、及びその製造方法である。 （もっと読む）

【要 約】
【課題】 アルミニウムの残渣が残らない有機薄膜のエッチング方法を提供する。
【解決手段】
エッチング室１１の内部雰囲気中に塩素成分とホウ素成分を含有させながら、酸素ガスプラズマを導入し、有機薄膜を酸素ガスプラズマに接触させる。酸素ガスプラズマ中で塩素成分やホウ素成分が活性化し、酸素プラズマによって有機物が酸化され、気体となって除去される際に、酸素プラズマによって生成されたアルミニウム酸化物をホウ素成分によって還元し、生成された金属アルミニウムは塩素成分と反応させて反応生成物を真空排気によって除去する。アルミニウム残渣が残らないエッチングを行うことができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は有機電界発光表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の有機電界発光表示装置は、基板と、上記基板上に位置し、ゲート、ソース、及びドレインを含むトランジスタと、上記トランジスタ上に位置し、上記ソースまたはドレインに連結された連結電極と、上記連結電極上に位置し、上記連結電極の一部を露出する第１犠牲層と、上記第１犠牲層上に位置し、上記連結電極の一部を露出する第２犠牲層と、上記連結電極と上記第２犠牲層上に位置する下部電極と、上記下部電極上に位置する有機発光層と、上記有機発光層上に位置する上部電極と、を含み、上記第１犠牲層が上記第２犠牲層より内側に引き込まれていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】シール性に優れた指針盤用発光パネルの製造方法を実現する。
【解決手段】指針盤用発光パネル１の製造過程において、有機層１０上に形成したバリウム層１２をアルミニウム層１４で被覆した対向電極をエッチングマスクとして利用して、透明基板２における第一領域Ｒ１と第二領域Ｒ２に形成された有機層１０部分を除去して透明基板２を露出させた第一領域Ｒ１と第二領域Ｒ２の面に直接、枠状シール１６とセンターシール１５を形成し、その枠状シール１６とセンターシール１５の上からカバー１７を被せることで、透明基板２とカバー１７の間を密封することを可能にした。 （もっと読む）

【課題】有機膜のエッチング速度及び陰極膜に対する有機膜のエッチング選択比を向上させる。
【解決手段】基板ＧのＩＴＯ上には、有機膜、メタル電極（陰極膜）が形成される。プラズマ処理装置２０は、メタル電極をマスクとして、有機膜と化学反応させるための特定の処理ガス又は有機膜をスパッタするための特定の不活性ガスの少なくともいずれかのガスをガス供給源３６５から処理容器内に導入する。プラズマ処理装置２０は、また、導入されたガスを励起させるためのエネルギーとしてマイクロ波発生器３５５からマイクロ波を投入する。プラズマ処理装置２０は、投入されたマイクロ波の電界エネルギーを用いて、前記導入されたガスからプラズマを生成し、生成されたプラズマを用いて有機膜をエッチングする。 （もっと読む）

【課題】パッド部に形成される反射電極による腐蝕等の問題を改善する。
【解決手段】本発明は、基板と、前記基板上に形成されて第１パッド部を含む第１信号線と、前記第１信号線と交差して第２パッド部を含む第２信号線と、前記第１信号線と前記第２信号線とに電気的に接続する第１薄膜トランジスタと、前記第１薄膜トランジスタと電気的に接続する第２薄膜トランジスタと、前記第２薄膜トランジスタと電気的に接続する画素電極と、前記画素電極と対向する共通電極と、前記画素電極と前記共通電極との間に形成される発光部材と、前記第１パッド部及び第２パッド部の上に形成されるコンタクト補助部材と、前記コンタクト補助部材の周縁を取り囲む保護隔壁と、を有する有機発光表示装置及びその製造方法に関する。 （もっと読む）