【課題】製造工程で混入した異物を除去し、異物除去部のダークスポットの拡大の抑制と非発光画素を低減させ、信頼性の高い有機ＥＬパネルの製造方法とそれを用いた有機ＥＬパネルを提供する。
【解決手段】少なくとも、基板と、前記基板上に第一電極層と、前記第一電極層上に有機発光層を含む有機発光媒体層と、前記有機発光媒体層を挟んで第一電極層と対向するように第二電極層と、前記第二電極層上にパッシベーション層とを、この順に積層する有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、前記第二電極層の成層後に、前記第二電極層のドライエッチング工程と、前記ドライエッチング工程の後に前記第二電極層の表面に不活性ガスを吹き付ける工程とを有し、更に、前記パッシベーション層を前記第二電極層上に積層する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】発光素子、及び関連部品、システム及び方法を開示する。
【解決手段】発光素子は複数の材料から成る多層積層体を含む。 （もっと読む）

【課題】オフ領域におけるゲート電圧−ドレイン電流特性（Ｖｇ−Ｉｄ特性）の劣化を抑制した薄膜トランジスタを備えたトランジスタ基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタＴＦＴに設けられるチャネル保護層１５の下層に形成された半導体層１４のうち、ソース、ドレイン電極１７間に側壁部が露出する領域（及びその近傍領域）が、酸素プラズマ処理により酸化処理されている。これにより、当該領域に酸化膜２０が形成され、非導体化又は高抵抗化する。 （もっと読む）

本発明により、有機発光ダイオード装置の製造の方法であって、担体基板を備えるステップと、第１の電極物質層を前記担体基板に堆積させるステップと、前記堆積された第１の電極物質層内に電気的に分離された領域を形成するステップと、前記第１の電極物質層に有機光電子活性物質層を堆積させるステップと、前記有機光電子活性物質層に第２の電極物質層を堆積させるステップと、を有する方法が提案される。該方法は、前記有機光電子活性物質層を堆積させるステップ及び前記第２の電極物質層を堆積させるステップにおいて、前記担体基板は、前記有機光電子活性物質層及び前記第２の電極物質層により前記担体基板の機能領域全体をマスクレスに被覆され、少なくとも前記第２の電極物質層は、少なくとも選択された領域においてアブレーションされ非導電性に下塗りされ、前記第２の電極物質層内に非導電性領域を形成することを特徴とする。
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二重バンクウェル画定構造を備える電子デバイスを作製する方法であって、電子基板を用意するステップと、基板上に第１の絶縁材料を堆積して第１の絶縁層を形成するステップと、第１の絶縁層上に第２の絶縁材料を堆積して第２の絶縁層を形成するステップと、第２の絶縁層の一部分を除去して第１の絶縁層の一部分を露出させ、第２のウェル画定バンクを形成するステップと、第２の絶縁層上および露出した第１の絶縁層の一部にレジストを堆積するステップと、レジストによって覆われていない第１の絶縁層の部分を除去して電子基板の一部分を露出させ、第２のウェル画定バンク内に第１のウェル画定バンクを形成するステップと、レジストを除去するステップとを含む方法。この方法によりリーク電流を低減したデバイスを提供することができる。
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【課題】本発明は、発光効率を改善することができると共に、大面積の有機発光表示装置に適用することができる、有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による有機発光表示装置及びその製造方法は、基板、前記基板上に形成されて、表面に凹凸部を有する第１薄膜、前記第１薄膜上に形成されて、前記凹凸部を平坦化する第２薄膜、前記第２薄膜上に形成されている第１電極、前記第１電極上に形成されている発光部材、及び前記第１電極上に形成されている第２電極を含む。 （もっと読む）

【課題】高い発光効率を有し、出射光の方向を制御することにより、必要とされる配光特性を示す発光素子等を提供する。
【解決手段】透明な基板１１上に発光部１７が点在する発光素子であって、基板１１は、発光部１７側の基板面が発光部１７下で窪んだ穿孔部１６ｂを有することを特徴とする電界発光素子１０。 （もっと読む）

【課題】レンズと基板との接触角を大きくすることで、光取り出し効率をより高めることができ、有機ＥＬ素子の輝度、発光効率等の光学特性を向上させた有機ＥＬ素子及びその製造方法の提供。
【解決手段】基板上に２つの電極の間に発光層を有する有機ＥＬ層と、該有機ＥＬ層を封止する封止層と、を備える有機ＥＬ素子であって、前記封止層上に形成された台座と、該台座上に形成されたレンズと、を備え、該レンズが形成される前記台座の上面と前記台座の側面とのなす角が８０度〜９０度であり、前記レンズの屈折率は、前記台座の屈折率よりも大きいことを特徴とする有機ＥＬ素子である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、フレキシブル表示装置の収率及び製造工程の安定性を向上させたフレキシブル表示装置の製造方法及びその製造方法によるフレキシブル表示装置に関する。
【解決手段】本発明は、第１基板の一面に前記第１基板に対する選択エッチング比が１/２０以下である絶縁保護層を形成する段階と；前記絶縁保護層上に表示素子を形成する段階と；前記表示素子上にフレキシブル基板を接着する段階と；前記第１基板をエッチングする段階とを含むことを特徴とするフレキシブル表示装置の製造方法を提供する。更に、本発明は、フレキシブル基板と；前記フレキシブル基板上に形成された表示素子層と；前記表示素子層を保護する絶縁保護層を備えて、ガラス：前記絶縁保護層のエッチング比及びステンレス：前記絶縁保護層のエッチング比の中、少なくともいずれか一つは１：２０以上であることを特徴とするフレキシブル表示装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成された有機機能デバイスに侵入する水蒸気や酸素などの気体に対するバリア性を高めた構造を有するための簡便な有機機能デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に有機発光層１７を含む下地層を準備する第１工程と、当該下地層の上面に所定の薄膜形成法を用いて第１の無機物膜２０Ａを形成する第２工程と、第１の無機物膜２０Ａの表面は、平面領域、段差凸部を有する非平面領域、及び前記非平面領域に近接する近接領域を有し、これらの領域をスパッタリングする第３工程とを含む有機機能デバイスの製造方法であって、第３工程においては、平面領域のスパッタレートＡ１、非平面領域のスパッタレートＡ２との関係がＡ１＜Ａ２であることを利用して、スパッタリングによりエッチングされた非平面領域の部材を第２の無機物膜２０Ｂとして上記近接領域に堆積させる。 （もっと読む）

【課題】有機エレクトロニクスパネルの有機機能層を塗布法で製造する際、有機機能層の不要領域を払拭方式で除去する時、ゴミの発生防止、払拭残りに伴うショートやダークスポットの発生防止、素子寿命が長寿命化し、性能品質が安定している有機エレクトロニクスパネルの製造方法の提供。
【解決手段】基材の上に、第１電極と、第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に有機物層を含む少なくとも１層の有機機能層及び封止層とを有する有機エレクトロニクスパネルの製造方法において、少なくとも、第１電極形成工程と、前記有機機能層を形成する有機機能層形成工程と、前記有機機能層のパターニング工程と、引き続き、前記パターニングした前記有機機能層を有する前記基材の全面をクリーニングするクリーニング工程とを有する有機エレクトロニクスパネルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】電気光学パネルの端子部に駆動用半導体チップを歩留まりよく実装可能な薄型の電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明の電気光学装置の製造方法は、電気光学パネルの端子部に駆動用半導体チップを実装するＩＣ実装工程（ステップＳ１）と、実装された駆動用半導体チップをドライエッチングして駆動用半導体チップの厚みを薄型化するドライエッチング工程（ステップＳ２）と、少なくとも一方が透明な２枚の保護フィルムを用い、薄型化された駆動用半導体チップを有する電気光学パネルを挟んで封着する封着工程としてのラミネート工程（ステップＳ４）と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】駆動用半導体チップの実装を歩留まりよく行える電気光学装置、電気光学装置の製造方法、電子機器を提供すること。
【解決手段】有機ＥＬ装置１００は、一対の基板を有する電気光学パネルとしての有機ＥＬパネル１１０と、一対の基板のうち少なくとも一方の基板１０の端子部１０ａに実装された駆動用半導体チップとしてのドライバーＩＣ１２０と、少なくとも一方が透明な２枚の保護フィルム４１，４４と、を備え、有機ＥＬパネル１１０は、２枚の保護フィルム４１，４４に挟まれて封着されており、２枚の保護フィルム４１，４４のうち端子部１０ａを覆う保護フィルム４１には、ドライバーＩＣ１２０を露出させる開口部４２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体層を用いた薄膜トランジスタにおいて、酸化物半導体層とソース電極層又はドレイン電極層との間のコンタクト抵抗を低減し、電気特性を安定させた薄膜トランジスタを提供する。また、該薄膜トランジスタの作製方法を提供する。
【解決手段】酸化物半導体層を用いた薄膜トランジスタにおいて、酸化物半導体層の上に、酸化物半導体層より導電率の高いバッファ層を形成し、該バッファ層の上にソース電極層及びドレイン電極層を形成し、酸化物半導体層とソース電極層又はドレイン電極層とがバッファ層を介して電気的に接続されるように薄膜トランジスタを形成する。また、バッファ層に逆スパッタ処理及び窒素雰囲気下での熱処理を行うことにより、酸化物半導体層より導電率の高いバッファ層を形成する。 （もっと読む）

【課題】反射面に保護層を積層形成すると、第２電極と反射層との間隔は、少なくとも保護層の層厚分長くなってしまう。この結果、反射層と第２電極との間の距離を、反射層と第２電極との間で共振させたい光の波長に対する最適な距離（光路長）に合わせることができず、従って光の取り出し効率を高めることができないという課題がある。
【解決手段】Ｒ画素の陽極１３０は、保護層１２０上に絶縁性保護層１５０を挟んで形成された２層の導電膜で構成され、Ｇ画素の陽極１３０は、保護層１２０上に絶縁性保護層１５０を挟んで形成された１層の導電膜で構成されている。また、Ｂ画素の陽極１３０は、絶縁性保護層１５０が一部除去されて開口した保護層１２０が陽極１３０を兼ねるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】透明基板に光を散乱させる散乱部を形成しても、透明基板の耐衝撃性の低下が抑制されている面発光装置を提供する。
【解決手段】本発明の面発光装置は、透明基板１と、透明基板１の一方の面上に配置されている発光素子７であって、陽極となる透明電極２、透明電極２と対向する陰極になる陰電極６、および透明電極２と陰電極６とに挟まれている発光層４を含む積層体である発光素子７とを有する。透明基板２の他方の面には、光を散乱させる散乱部９が部分的に設けられ、散乱部９と透明基板２の外周との間には、散乱部９が形成されていない余白部１０が設けられている。 （もっと読む）

【課題】オーバーエッチングによって反射層の端面に、保護層に対して大きなアンダーカットが生じると、例えば保護層上に形成する上層膜が反射層の端面をカバーできずにカバレッジ不良が発生してしまう虞がある。
【解決手段】島状に形成されたレジストと、保護層１２０と平面的に重なる領域以外の反射膜とを、エッチング液でエッチングする。本実施例では、エッチング液として、非水系溶剤でアミンを含んだアルカリ溶剤液を用いることとする。アミンを含んだアルカリ溶剤液は、銀又は銀の合金を材料とする金属膜である反射膜を、レジストと同時にエッチングすることができる。 （もっと読む）

【課題】低コストで廃棄物の量を抑制可能な発光装置の再生産方法および発光装置の再生産装置を提供する。
【解決手段】透光性の管１と、管１の内周に設けた、透光性の第１電極層１２ｂと、第１電極層の内周に設けた、電界を印加して発光する有機物層ＯＬと、有機物層ＯＬの内周に設けた第２電極層１２ｇと、管１の内周を気密に封止する、封止部１１０とを備えた発光装置の再生産方法であって、以下の工程を有する。封止部１１０を取外す。第２電極層１２ｇを除去して有機物層ＯＬを露出させる。有機物層ＯＬを除去して第１電極層１２ｂを露出させる。第１電極層１２ｂを表面処理する。表面処理された第１電極層１２ｂの内周に新たな有機物層ＯＬを成膜する。成膜された新たな有機物層ＯＬの内周に新たな第２電極層１２ｇを成膜する。成膜された新たな第２電極層１２ｇを含む管１の内周を封止部１１０で気密に封止する。 （もっと読む）