【課題】微小焦点Ｘ線管の陽極の温度上昇による焦点の移動量を制御可能とする。
【解決手段】Ｘ線管10には、微小焦点32を形成するための陰極12と陽極14を加熱するためにのみ用いられるエミッション陰極13の2つの陰極と、陽極14の2つの陰極12、13と対向する位置に第1のターゲット18と第2のターゲット19の2つのターゲットが設けられている。エミッション陰極13によって第2のターゲットに形成される焦点33の大きさは微小焦点32の大きさよりも大きくなっている。大きなエミッション陰極電流が得られるエミッション陰極13と微小焦点の陰極12を共用し、このエミッション陰極電流を制御することにより、従来の微小焦点Ｘ線管よりも大きなＸ線管電流を流して、陽極温度を素早く上昇し、また陽極温度を高温に維持する。その結果焦点移動量の変動を小さくできる。 （もっと読む）

極端紫外（ＥＵＶ）放射を供給するシステムは、集光を有するレーザビームを生成するように配置されたレーザ光源と、レーザ光源に対して移動可能であり、表面材料を搬送するためのキャリアとを備え、表面材料は、キャリアによって搬送されると、再生可能なターゲットエッジを提供する。集束ビームは、ターゲットエッジに衝突して、ＥＵＶ放射を発生するプラズマを生成するように配置される。該システムは、そこに衝突したＥＵＶ放射を反射することによってＥＵＶ放射を活用するためのミラーと共に動作可能である。ミラーは、ほぼ非球面な表面と、非球面な表面を少なくとも部分的にコートするために反射液体を供給するための手段とを備え、ミラーは、遠心力で液体を非球面な表面に閉じ込めるように回転可能である。
（もっと読む）

【課題】ＬＰＰ型極端紫外光源装置において効率良くＥＵＶ光を発生させると共に、発生したＥＵＶ光を露光装置において効率良く利用する。
【解決手段】理想発光点に第１の位置基準素子を配置し、理想集光点に第２の位置基準素子を配置する。第１の光軸調整光が第１の位置基準素子及び第２の位置基準素子を通過する第１の光軸調整光の光路を調整すると共に、第２の光軸調整光が第１の位置基準素子を通過して第２の位置基準素子を通過しないように第２の光軸調整光の光路を調整して、レーザ光が第１の位置基準素子を照射するように光路を調整するとともに、ターゲット物質が第１の光軸調整光と第２の光軸調整光との交点を通るように、ターゲット物質の位置合わせを行い、プラズマから発生する極端紫外光が集光ミラーによって第２の位置基準素子の位置に集光されるように、集光ミラーの位置及び姿勢を調整する。 （もっと読む）

本発明は、アノードとして作用するターゲット（２）と、作動中にターゲット（２）と相互作用し且つ電子発生源として機能するカソード（３）とを含んでいるマイクロＸ線発生源（１）であり、ターゲット（２）は、電子発生源（３）からの電子が到達するスポットを有する金属箔によって実施化され、前記金属箔は、前記スポット（４）において局部的により薄くされていることを特徴とするマイクロＸ線発生源である。 （もっと読む）

簡単な構造で、十分な強度のＥＵＶを安定して発生させることができ、レーザプラズマ光源の代替となるＥＵＶ光源を提供する。１次ターゲットを有するＸ線管１と、そのＸ線管１から発生したＸ線２が照射される２次ターゲット４とを備え、その２次ターゲット４から、Ｂｅ−Ｋα線、Ｓｉ−Ｌ線およびＡｌ−Ｌ線の一群から選ばれた１つの蛍光Ｘ線５を発生させる。 （もっと読む）

【目的】簡単な構造のエネルギー発生装置を開発する事にある。
【構成】円盤状永久磁石を多数枚積層しその先端にポリシリコンを図１の如く被覆しその先端から出るＸ線等の電磁波に依って発電する事。 （もっと読む）