【課題】表面が複雑な形状の部材に対しても、部材とマスキング材との間に隙間が生じず、密着性が良好で、剥がす際には各種構成部材から容易に剥離する性質を有し、更に加熱やＵＶ照射などの煩雑な工程を必要としない、室温により硬化する、マスキング用液状オルガノポリシロキサン組成物、及び該組成物をマスキング材として用いたマスキング施工方法、並びに該施工方法によって施工された部材を提供する。
【解決手段】（Ａ）分子鎖両末端がヒドロキシシリル基、アルコキシシリル基又はアルコキシアルコキシシリル基で封鎖された２５℃の粘度が２０〜１，０００，０００ｍＰａ・ｓであるジオルガノポリシロキサン、
（Ｂ）ケイ素原子に結合した加水分解性基を分子中に３個以上有するシラン化合物及び／又はその部分加水分解縮合物、
（Ｃ）硬化促進触媒、
（Ｄ）（Ｃ）成分とは異なる遷移金属化合物
を含有するマスキング用液状オルガノポリシロキサン組成物。 （もっと読む）

【課題】従来の膜形成方法では、膜の平坦性を向上させることが困難である。
【解決手段】塗布される液状体に含まれる材料でフィルター膜３が形成される膜形成基板であって、基板４と、前記液状体に対して撥液性を示し、基板４の基板面４ａ側において、前記液状体が塗布される領域である画素７を囲んだ状態で設けられた第１隔壁５と、第１隔壁５よりも前記液状体に対して親液性を示し、第１隔壁５に積層して設けられた第２隔壁６と、を有する、ことを特徴とする膜形成基板。 （もっと読む）

【課題】 堆積塗膜を容易に剥離することができる塗膜の剥離方法及び塗膜剥離用マスキング材を提供する。
【解決手段】 ラジカル共重合性不飽和樹脂と重合性単量体の混合物を主成分とし、硬化物として破断までの引張り伸び率が、１０％以上の樹脂組成物を剥離用皮膜１として、下地基材２上に形成して硬化させ、その剥離用皮膜１上に塗料堆積物４が堆積された後に、下地基材２から剥離用皮膜１を引き剥がすことにより、下地基材２から容易に塗料堆積物４が堆積された剥離用皮膜１を剥離する塗膜の剥離方法及び塗膜剥離用マスキング材である。 （もっと読む）

【課題】基板の厚みに関係なく、端部を含む基板の塗布面に厚さが均一な塗布膜を形成することができる基板への塗布膜形成方法を提供すること。
【解決手段】
基板１への塗布膜形成方法は、
基板１の側面とこれに連なる塗布面の一部に撥水コート剤２を塗布する工程と、
前記基板１の塗布面に材料３を塗布して塗布膜４を形成する工程と、
を含む。例えば、前記基板１の側面全周とこれに連なる塗布面の端縁から３ｍｍ以内の範囲に前記撥水コート剤２を塗布してこれを乾燥させた後、基板１の塗布面に材料３を塗布して塗布膜４を形成する。 （もっと読む）

【課題】被処理物の非塗布領域が複雑な形状を有する場合であっても、非塗布領域塗布物が付着するのを防止し、塗布処理終了後には非塗布領域からマスキング材を容易に剥離することができる、マスキング材料の提供。
【解決手段】全分子末端基の５０％未満が加水分解性珪素基である重合体（Ｉ）１００重量部と、全分子末端基の５０％以上が加水分解性珪素基である重合体（ＩＩ）５〜２００重量部とを含む湿気硬化型樹脂組成物から成るマスキング材料。 （もっと読む）

【課題】所望の光学特性を確保することができるパターン形成方法および回折型光学部品を提供する。
【解決手段】基板１１の表面に凹凸構造からなるパターン１０を有する回折型光学部品１のパターン１０を形成する際に、基板１１の表面に、光を遮蔽する遮蔽膜１２を形成し、遮蔽膜１２上にレジストを塗布してフォトレジスト層１３を形成する。そして、パターン１０に対応する平面パターンを、光によってフォトレジスト層１３に露光転写し、現像し、残ったフォトレジスト層１３をマスクとして用いて、エッチングにより基板１１の表面にパターン１０を形成する。これにより、回折型光学部品１において、所望の光学特性を確保することができる。 （もっと読む）

【課題】被塗布物への液滴塗布工程を簡易化するとともに、被塗布物上に所望の塗膜を形成することのできる塗膜形成方法、およびこの塗膜形成方法を用いることにより、信頼性の高い圧電素子を簡単に製造することのできる圧電素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】上面、側面２８およびこれらが交差する角部Ａを有する被塗布物に対して、吐出法により液滴をノズルを有するヘッドユニット５００のノズルから吐出し、被塗布物に塗膜を形成する塗膜形成方法であって、上面の法線方向から角部Ａに衝突するように液滴を前記ヘッドユニット５００のノズルから吐出し、角部Ａでせん断された液滴が前記側面２８を流下することにより、側面２８に前記塗膜を形成し、上面の法線方向から上面に、液滴を前記ヘッドユニット５００のノズルから吐出し、上面に角部Ａ付近よりも密度を疎にして塗膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】被塗布物への液滴塗布工程を簡易化するとともに、被塗布物上に所望の塗膜を形成することのできる塗膜形成方法、およびこの塗膜形成方法を用いることにより、信頼性の高い圧電素子を簡単に製造することのできる圧電素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】上面、側面２８およびこれらが交差する角部Ａを有する被塗布物に対して、吐出法により液滴をノズルを有するヘッドユニット５００の前記ノズルから吐出し、前記被塗布物に塗膜を形成する塗膜形成方法であって、前記上面の法線方向から前記角部Ａに衝突するように前記液滴を前記ヘッドユニット５００の前記ノズルから吐出し、前記角部Ａでせん断された前記液滴が前記側面２８を流下することにより、前記側面２８に前記塗膜を形成し、前記上面の法線方向から前記上面に、前記液滴を前記ヘッドユニット５００の前記ノズルから吐出し、前記上面に前記塗膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】無機材料、特に難エッチング性材料においても微細な無機材料パターンを簡易で生産性が高く、低コストで形成できる方法を提供する。
【解決手段】無機材料微粒子にキャリアガスを混合してエアロゾルを形成する工程（Ｉ）、及び前記エアロゾルをノズルから噴射し所定のパターンを有する被膜を介して基板に衝突させ基板上に前記無機材料微粒子からなる無機材料パターンを形成する工程（ＩＩ）を含む無機材料パターンの形成方法であって、前記所定のパターンを有する被膜が、基板表面にレジスト組成物からなるレジスト膜を形成し、次いで該レジスト膜に活性エネルギー線を直接又はマスクを介して照射し、さらに現像処理して形成された所定のパターンを有するレジスト膜であることを特徴とする無機材料パターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】 機能性インクＭの消費を抑えつつ、高アスペクト比を有する高解像度パターンを効率よく形成する方法を提供する。
【解決手段】 ドライフィルムレジスト30を基板10上に部分又は全面的に付着させた後、レーザ等の集束可能なエネルギービームを直接照射するか、マスク又は回折光学素子を介して特定波長帯の光を投射して露光した後、現像によりパターン状凹部40を有するパターン鋳型30’を形成し、機能性インクＭをパターン状凹部40に充填し、乾燥後、パターン鋳型30’を除去することにより高解像度パターンを形成する方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、薄膜パターン層の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の薄膜パターン層の製造方法は、複数の隔壁を有し、隣接する前記隔壁との間に別々に複数の収容空間が形成されている基板を提供する工程と、少なくとも二つのノズルを用いて、前記複数の収容空間内に高沸点溶剤の含むインクを吐出する工程と、前記インクを固化して、薄膜パターン層を形成する工程と、を含む。少なくとも二つのノズルを用いて、異なる速度で同じ収容空間内にインクを吐出することによって、各収容空間内に吐出されたインク量の差異を減少できる。従って、形成された薄膜パターン層は、厚さの均一性が良くなる。 （もっと読む）

【課題】有機物に使用可能である実用的な微細化パターンの形成技術が求められていた。
【解決手段】試料を含む溶液に電圧を印加して静電噴霧するエレクトロスプレイ手段と、エレクトロスプレイ手段から静電噴霧される溶液中の試料が堆積されるべきチップ(26)を支持する支持手段(30)と、エレクトロスプレイ手段と前記支持手段との間に配置され、前記チップ上に前記試料のマイクロパターンを形成するために前記溶液を通過させるマスクパターン部を持つ微細マスク手段(24)であって、前記マスクパターン部は前記支持手段側に凹凸が形成されているフォトレジスト剤からなるものである、微細マスク手段とを具えるマイクロパターン形成装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】サンドブラスト法等の掘削加工により発生する粉体の影響を除去し、歩留まりが高く、よい吐出性能を維持することができる電極基板等の製造方法を得る。
【解決手段】電極基板１０となるガラス基板上に電極１５を形成する工程と、ガラス基板の所定の位置を掘削加工する工程と、電極１５が形成された面にドライフィルム、レジスト等の保護膜を形成する工程と、少なくとも掘削加工された部分に対してウェットエッチングを行う工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 膜厚を均一化することができるパターン膜形成基板及びパターン膜形成基板の製造方法、並びに電気光学装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】 パターン膜としての正孔注入層２０の材料をほぼ均一な膜厚で薄膜としての正孔注入膜２０ａを形成する薄膜形成工程（図３（ａ））と、正孔注入膜２０ａが形成された領域のうち、不要となる不要領域に向けて、正孔注入膜２０ａを溶解させる溶媒としての第１溶媒２５を吐出して、不要領域以外の領域にパターン膜としての正孔注入層２０を形成する溶媒吐出工程（同図（ｂ））と、正孔注入層２０を乾燥する乾燥工程（同図（ｃ））とを有する。 （もっと読む）

【課題】マスク材を容易に所望の状態に付与することが可能な、塗液の塗布方法及びプラズマディスプレイ部材の製造方法を提供する。
【解決手段】基板への塗布の開始、終了端近傍にマスク材を事前に付与し、塗液の塗布後、マスク材を剥離する塗液の塗布方法において、マスク材が液状で乾燥後固化する塗材であり、予め基板に塗布したマスク材の上から塗液を吐出し、終了端側のマスク材上で吐出を停止し、塗布終了後該マスク材を剥離することを特徴とする塗液の塗布方法、及びプラズマディスプレイ部材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 非処理領域を覆う膜パターンを形成するための液滴の一部分が、処理対象領域に付着することを抑制できる、膜パターン形成方法、及び弾性表面波デバイスの製造方法、並びに弾性表面波デバイス、弾性表面波発振装置、及び電子機器を実現する。
【解決手段】 本発明による膜パターン形成方法及び弾性表面波デバイスの製造方法は、移動方向の変更を伴わない連続する相対的移動の間に、吐出ノズル４からウェハ１に向けて陽極酸化レジスト膜材料の液滴吐出を実行する吐出走査工程において、吐出ノズル４を塗布禁止領域であるＩＤＴ４４に対向させないことを特徴とする。弾性表面波発振装置は、当該方法で製造された弾性表面波デバイスを備え、電子機器は、当該弾性表面波波発振装置を備える。 （もっと読む）

【課題】 ワイピングを伴う回復処理の回数を減らし長時間に渡って安定的な吐出が可能な液滴吐出ヘッドおよびこの液滴吐出ヘッドの製造方法、液滴吐出装置を提供すること。
【解決手段】 ノズル２１から機能液を液滴として吐出する液滴吐出ヘッドのノズル基板のノズル面２２ａには、ノズル２１の開口部２１ａを含む周辺域に開口部２１ａに近づくほど親液性が上昇するように親液処理を施こした。そして親液処理された領域の外側には下地処理として撥液処理を施こした。 （もっと読む）

【課題】 ワイピングを伴う回復処理の回数を減らし長時間に渡って安定的な吐出が可能な液滴吐出ヘッドおよびこの液滴吐出ヘッドの製造方法、液滴吐出装置を提供すること。
【解決手段】 ノズル２１から機能液を液滴として吐出する液滴吐出ヘッドのノズル基板のノズル面２２ａには、ノズル２１の開口部２１ａを含む周辺域に開口部２１ａに近づくほど撥液性が上昇するように撥液処理を施した。そして撥液処理された領域の外側には下地処理として親液処理を施した。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、湾曲表面上にパターン化光学コーティングを有する基材を作成する方法であって、
上記湾曲表面のサブエリアを覆うマスキングが上記湾曲表面に塗布され、
真空堆積法を用いて、光学コーティングが塗布され、
上記マスキングが除去される
湾曲表面上にパターン化光学コーティングを有する基材を作成する方法に関する。
【解決手段】 特に本方法によって作成されることができる被覆基材は、少なくとも１つのパターン化された光学コーティングが設けられた湾曲表面を有し、それによって、光学コーティングは、この表面の少なくとも１つのサブエリア上に設けられ、少なくとも１つの隣接サブエリア上にはない。 （もっと読む）