【課題】塗布液の利用効率を極めて高くすることができ、被膜形成に要する塗布液の量を極めて少なくすることができる塗布液塗布方法を提供する。
【解決手段】微細線状にした塗布液を微小間隔で基板のほぼ表面全体にわたって同心円状に供給するステップＳ３（供給過程）と、基板に供給された塗布液に対して面方向への微小な力を付与して塗布液をならすステップＳ４（レベリング過程）とを順に実施する。面方向への微小な力により塗布液をならすので、塗布液が周囲に飛散することなく微小間隔が塗布液で埋められて基板の表面全体が塗布液で覆われる。したがって、ほとんど全ての塗布液を被膜形成に利用することができ、塗布液の利用効率を最大限に高めることができる。 （もっと読む）

【課題】光学フィルムや磁気記録媒体等の極めて高精度な塗布が要求される塗布であっても、塗布ムラのない良好な面状の塗布膜を得ることができる。
【解決手段】塗布ラインを搬送されるウエブＷに接触する複数のパスローラ２０を備え、搬送されるウエブＷに対して塗工用バー装置５０により塗布液を塗布する塗布装置１０’において、複数のパスローラ２０のうち、少なくとも塗工用バー塗布機５０に最も近いパスローラ２０については、その固有振動数を可変可能な固有振動数可変手段２１を備えている。 （もっと読む）

【課題】着弾する固体微粒子の個数のばらつきが少ない液滴吐出方法を提供する。
【解決手段】吐出開始までの時間が所定時間よりも短い場合、吐出駆動パルス信号よりも電圧レベルが低く設定された微振動駆動パルス信号を圧力発生手段86に印加して、オリフィス71内の塗布液に微振動を与える工程と、その後に吐出駆動パルス信号を圧力発生手段86に印加して液滴を吐出する工程を実行し、吐出開始までの時間が所定時間よりも長い場合、捨て打ち工程と微振動工程と吐出工程とを実行することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】吐出した溶液を乾燥させるにあたって、この溶質が液滴の隅へ移動することを防いで、均一な厚みのドットを作製することができる。
【解決手段】基板Ｋ上に溶液を液滴状に吐出する溶液吐出具１０を備えると共に、先端２０ａが基板Ｋ上あるいは基板Ｋ上近傍に位置された棒状の補助具２０を備え、補助具２０の先端２０ａは、溶液吐出具１０から基板Ｋ上に吐出された溶液５０が乾燥するまでの間、その吐出された溶液５０と接触する接触位置を維持するように配置されている。 （もっと読む）

【課題】 塗布層の均一品質を改善する製造方法を提供する。
【解決手段】塗布ヘッドと基板間の相対運動を利用し、塗布ヘッドが送出する塗料流体は基板上に塗布され、制御方式により基板と塗布ヘッド間の塗布ビードの圧力環境を調整し、塗布ビードの上流メニスカス長さ或いは安定度を制御し、製造工程は無欠陥の塗布領域内に収まる。こうして塗布ヘッド構造を構造し、基板と塗布ヘッド間迎角を調整し、塗布ビードの圧力傾斜度変化を制御し製造工程歩留を向上させる。また欠陥の頻度予測を通して、欠陥の頻度と位相差を備える波形により塗布ビード下流メニカスの振動を低減し、欠陥生産を減少させ製造工程歩留向上の目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】塗装用ロボットの数が少なくても所望の塗装を行うことができ、しかも塗装室を小型にすることができる塗装設備を提供すること。
【解決手段】本発明の塗装設備１は、塗装室２、ワーク揺動手段２１、塗装機３１、塗装用ロボット４１等を備える。塗装室２には、ワーク支持体１１により支持されたワークＷが搬入される。ワーク揺動手段２１は塗装室２に設置されている。ワーク揺動手段２１は、塗装室２内に搬入されたワークＷを、中心軸線Ｃ１を揺動中心としてワーク支持体１１とともに揺動させる。塗装用ロボット４１は、ロボットアーム４２の先端に塗装機３１を搭載している。塗装機３１は揺動するワークＷに対して塗料を吹き付ける。 （もっと読む）

【課題】 粉粒体の散布対象物に均一散布して接着すること。
【解決手段】 粉粒体散布方法であって、散布対象物１の接着性を帯びた散布区画１Ａに粉粒体を投入し、散布対象物１に振動を与え、散布区画１Ａ内の粉粒体を該散布区画１Ａの全域に拡散させ、散布区画１Ａ内の粉粒体を圧着手段６０、８０により散布対象物１に圧着するもの。 （もっと読む）

【課題】 １つの液体吐出ヘッドで、微量吐出から大量吐出まで制御性が良く、広範囲な吐出液滴量を可能とする。また吐出口が円筒形状ではなく、分解洗浄が容易なため、常に清浄で長寿命な安定吐出を可能とする液体吐出方法を提供する。
【解決手段】 ２つ以上の接近した液滴保持面を有する液滴保持部先端に液体を接触させ、毛管現象により、該保持面間に液滴を保持した後、該保持部を液滴吐出方向に前進させ、急停止または急後退させることにより、液滴に慣性力を持たせて液滴を吐出することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成により、機能液を各画素領域の全域に行き渡らせることができる液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗに対し、機能液滴吐出ヘッド１７を相対的に移動させながら、バンク部５０７ｂにより画成した基板上の複数の画素領域５０７ａに対し、機能液滴吐出ヘッド１７により機能液をそれぞれ吐出・着弾させる描画手段と、機能液滴吐出ヘッド１７の相対移動に後行して基板Ｗに臨み、基板Ｗ上に雰囲気の疎密波を作用させて、各画素領域５０７ａに着弾した機能液の液面を振動させる振動処理手段５６と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】基板に向けてノズルから流動性材料を連続的に吐出して塗布する塗布装置のノズルの目詰まりを確実に防止する。
【解決手段】塗布装置のノズルの洗浄では、界面活性剤を含む洗浄液にノズルが浸漬されて洗浄液に対して超音波振動が付与されることにより、ノズル表面から異物が除去される。続いて、ノズルが純水に浸漬されて純水に超音波振動が付与されることにより、ノズル表面から界面活性剤が除去される。次に、ノズルがアルコールに浸漬されてアルコールに超音波振動が付与されることにより、ノズル表面の純水がアルコールに置換される。そして、流動性材料の主溶媒を主成分とする洗浄液にノズルが浸漬され、洗浄液に超音波振動が付与されることにより、ノズル表面のアルコールが流動性材料の主溶媒に置換される。その結果、ノズルを使用して行う流動性材料の塗布において、ノズルの目詰まりを確実に防止することができる。 （もっと読む）

【課題】ワークに表面処理等を施す際に、ワークを液内に浸漬させる工程の時間の短縮を図ると共に、ワークの精度の悪化を防ぐ。
【解決手段】処理液１４に対し波の発生が不可避となる速度でボデー１０を投入する際、又は処理液１４内でボデー１０に振動を与える際に生ずる、振幅の大きな波を、液槽内を波が伝播する方向に位置する液槽１６の縦壁１６ａ、１６ｂに設けた波消しブロック１８に衝突させ、反射させる。そして、波消しブロック１８によって反射した波が、後続の波を打消すことで、波の振幅を小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】ビーズの散布及び除去を効率的に行い、製造コストを軽減し、液晶素子の品質及び歩留まりを向上させることを可能とするスペーサ形成装置等を提供する。
【解決手段】スペーサ形成装置１は、接着剤塗布装置７及びビーズ散布装置９を備える。ビーズ散布装置９は、振動を与えることにより、ビーズタンク２７からビーズガイド２９を経て散布口３３にビーズ３１を供給する。スペーサ形成装置１は、基板３の所定の位置に接着剤３９を塗布し、接着剤３９が塗布された位置に選択的にビーズ３１を散布して、ビーズ３１を接着剤３９に付着させ、基板３にビーズ３１によるスペーサを形成する。 （もっと読む）

【課題】 スピンコート法により基板上に薄膜を形成するに際し、滴下する高分子溶液に新たな成分を添加する必要がなく、しかも簡易な操作でストリエーションの発生を抑制する方法を提供する。
【解決手段】 本発明の薄膜の形成方法は、スピンコート法により基板上にポリマー溶液を適用して薄膜を形成する方法において、基板にポリマー溶液を供給する直前に該ポリマー溶液にせん断を付与することを特徴とする。ポリマー溶液として、極性基を有するモノマー単位を少なくとも含むポリマーの溶液を用いることができる。せん断の付与手段として、例えば、超音波、振盪、撹拌及び細管内の通過から選択された少なくとも１つの手段が挙げられる。 （もっと読む）

【課題】 ノズルの周縁部に付着した機能液を良好に除去することを課題とする。
【解決手段】 ノズル面５３に機能液が付着した機能液滴吐出ヘッド１７に対して振動を付与し、ノズル面５３の一端部に機能液を集める振動手段１８と、ノズル面５３の一端部に集まった機能液を、ノズル面５３から除去する清掃手段６２と、を備えた。また、清掃手段６２は、機能液を吸収する吸収材８１と、ノズル面５３の一端部に、吸収材８１を当接させる当接手段と、を有することが好ましい。 （もっと読む）

本発明は、基板における構造表面の製造方法であって、基板が、振動する状態にしたゾルに導入、特には浸漬されるか、または振動を設定されている基板が、随意に振動する状態にした、ゾルに導入、特には浸漬する、前記方法に関する。本発明は同様に、このように構造化された基板および光学的応用におけるこれらの使用に関する。 （もっと読む）

【課題】 ウェハ上の塗布膜を十分かつ安定的に平坦化する。
【解決手段】 平坦化装置６５の処理容器１２０内に，ウェハＷの保持台１２１と，その保持台１２１を移動させるＸ−Ｙステージ１２２が設けられる。ウェハＷ上に塗布膜が形成された後，ウェハＷが保持台１２１に保持され，Ｘ―Ｙステージ１２２によりＸ方向とＹ方向にウェハＷが往復移動される。この往復移動は，塗布膜の下地のパターンに応じて行われる。例えば下地のパターンにＸ方向とＹ方向の溝が形成され，Ｘ方向の溝がＹ方向の溝よりも多く形成されている場合には，Ｙ方向の往復移動がＸ方向の往復移動よりも多く行われる。 （もっと読む）

【課題】 所望の微細パターンを高い精度で効率よく形成するパターン形成装置を得る。
【解決手段】 液体材料から複数の液滴を生成するミスト生成部１０３と、生成された複数の液滴を荷電する荷電部１１４と、複数の液滴から、第１の粒径の液滴を抽出し、第１の粒径と大きさの異なる第２の粒径の液滴を除去するミスト分級部１０４と、第１の粒径の液滴を散布するミスト散布部１０６と、第１の粒径の液滴の散布方向に設置された基板設置部１０７を備える。 （もっと読む）

本発明は、均等な薄い液体層特にリン酸層を、基板（１２）特に光起電用のシリコンセルに塗布する装置（１０）に関し、液体水槽（１６）および液体を液体ミスト（１５）に変換する高周波音響装置（１１）を備えるプロセス室（１４）と、プロセス室（１４）の液体ミスト降下シャフト（２５）の下方に配置された基板（１２）の搬送装置（１３）とを備える。本発明によると、プロセス室（１４）の液体ミスト降下シャフト（２５）が、搬送装置（１３）に向ってその内のり断面が先細りになっていると共に、搬送装置（１３）を覆う基板（１２）の通過シャフト構造（４０）に連通しており、液体ミスト降下シャフト（２５）および通過シャフト構造（４０）の連通端部のそれぞれの内のり断面は互いに適合化、好ましくは実質的には等しくされていることにより、該当するシリコンセルへ液体を、面積に関しても量に関してもより均質に塗布可能であるような装置（１０）が得られる。
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【課題】 従来、人手に頼っていたシャフト部材へのグリース塗布を、効率よく、かつ必要とする箇所にだけ塗布することで、作業性の向上、省力化、および品質向上を図ることのできる回転塗布装置および回転塗布方法を提供する。
【解決手段】回転式塗布装置は、一対のガイドレール５，５と、ガイドレールに振動を与える振動発生手段と、ガイドレール間に懸架され振動により移送されるピン状被塗物１００をガイドレールの特定位置で回動自在に停留させるストッパーと、この停留時に、振動により自転するピン状被塗物１００に粘着性塗物を塗布するための塗布手段１０と、ピン状被塗物に塗着した粘着性塗物を平らにならすための塗膜平均化手段１０４とを備える。 （もっと読む）

【課題】 塗装の手間暇やコストを軽減化、低減化でき、塗料を節減できると共に、均一に塗装できる塗装方法、及びこれに使用する、この種の利点を有し、しかも構造が簡易で価格を低廉化でき、メンテナンスも容易な塗装機を提供する。
【解決手段】 搬送方向と直交する方向の断面が搬送方向にわたって同一である被塗装物１を先ず搬送部２に取り付け、次にこの搬送部２に取り付けた被塗装物１の搬送方向の側の先端部の周面に塗料Ｐを多めに塗布する。その後、搬送部２を直線方向に搬送して被塗装物１を、搬送方向と直交する方向の断面より僅かに大きく形成されている相似形の型孔３に通す。この型孔３が形成されている型板６ａを微細に振動させて塗料Ｐを型孔３で被塗装物１の搬送方向に沿った周面の全体に伸展させて被塗装物１の表面に塗膜を形成する。 （もっと読む）