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Fターム[4D075BB42]の内容

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半硬化 (21)

Fターム[4D075BB42]に分類される特許

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保護表面改質系は、2つの別個の処方を用いて外観を良くし、多くの場合、カウンタートップ等の表面に耐摩耗性を付与する。 (もっと読む)


【課題】 膜パターンを十分に焼成を行わせることのできる機能性膜パターン形成装置、機能性膜パターン形成方法、及び、機能性膜パターン形成装置、機能性膜パターン形成方法によって十分に焼成がなされた膜パターンで構成された電子機器を提供する。
【解決手段】 膜パターン40Aを、膜パターン40Aの上下端領域40U,40Dに向かって出射される第1及び第2のレーザ光55A,55B、上下端領域40U,40Dよりも中央領域40C側に向かって出射される第3及び第4のレーザ光55C,55D、及び中央領域40Cに向かって出射される第5のレーザ光55Eで構成される焼成用レーザ光55を照射することによって焼成するようにした。 (もっと読む)


【課題】 樹脂膜の表面を乱れなく平坦にすることが可能な樹脂膜形成方法、及び光メモリの製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラス基板21上にフイルム15aを接着させた後、コア層用の塗布ヘッド42aをガラス基板21の中央に移動させる。塗布ステージ41を回転させた状態で、塗布ヘッド42aによって、フイルム15a上にコア材を滴下して塗布膜13aを形成する。その後、ガラス基板21を塗布ステージ41上に固定したままの状態で、紫外線照射装置43によって、塗布膜13aに紫外線を照射する。この時、紫外線照射装置43に対して、塗布ステージ41を左右に往復移動させながら紫外線を照射する。これにより、塗布膜13aに対して均一に紫外線が照射されて、塗布膜13が硬化してコア層13が形成される。 (もっと読む)


【課題】 分子マクロクラスター形成の方法の特長を生かし、しかもシラノール基や水酸基を有する固体基板に限られることなく各種の基板上に分子マクロクラスターを簡便、かつ容易に形成することのできる方法を提供し、これを応用発展させる。
【解決手段】 固体基板上への分子マクロクラスターの形成方法であって、少くとも次の手順を含むこととする。
<A>表面に水素結合性の官能基を持たない固体基板に水素結合性の官能基を持つ化合物を吸着させ、表面が水素結合性の官能基で覆われた分子膜を形成し、
<B>非水素結合性の溶媒と水素結合性の化合物との溶液を前記分子膜と接触させ、水素結合性の化合物が水素結合で組織化された分子マクロクラスターを形成させる。 (もっと読む)


【課題】 確実に焼成されて所望の電気的特性を有するパターンを形成することのできる機能性膜パターン形成装置、機能性膜パターン形成方法及び電子機器を提供する。
【解決手段】 焼成用レーザ光50が照射される膜パターン40Aの照射領域Aに、焼成用レーザ光50とは異なった波長であって、且つ、膜パターン40Aには吸収されるとともに、一方、配線パターン40Bには吸収されない波長の検出用電磁波W1を出射し、その反射波W2を検出するようにした。そして、検出用電磁波W1の強度の20%以下の強度の反射波W2が検出されると、焼成用レーザ光50を継続して照射領域Aに照射し、検出用電磁波W1の強度の20%より大きな強度の反射波W2が検出されると、キャリッジ21を移動させて焼成用レーザ光50を次の照射領域に照射するようにした。 (もっと読む)


【課題】 膜パターンを破損することなく、焼成することのできる機能性膜パターン形成装置、機能性膜パターン形成方法、及び、機能性膜パターン形成装置、機能性膜パターン形成方法によって焼成がなされた膜パターンで構成された電子機器を提供する。
【解決手段】 膜パターン40Aを焼成する焼成用レーザ光60が照射されるのに先行して、その焼成用レーザ光60の照射領域S1の近傍に、焼成用レーザ光60に比べて低い温度で加熱する第1の加熱用レーザ光61Aを照射するようにした。 (もっと読む)


【課題】 装置を大型化せずに、深さ方向に均一な膜質のパターンを形成することのできる機能性膜パターン形成装置、機能性膜パターン形成方法及び電子機器を提供する。
【解決手段】 レーザ光照射ヘッド24にシリンドリカルレンズ52を設けた。そして、液滴吐出ヘッド23から液滴30を吐出して所望の形状の膜パターン40Aを形成するとともに、その膜パターン40Aにシリンドリカルレンズ52によってその進行方向を同膜パターン40Aの外形表面上の各位置に対して法線方向に入射するように変更した。 (もっと読む)


【課題】分割配向膜を形成し、この配向溝内にコラムスペーサーを形成することによって、コラムスペーサーと上下部基板との合着を強固にした液晶表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】液晶表示装置は、相対向する第1基板及び第2基板と、該第2基板上に、所定部位に第1配向膜溝を有して形成された第1配向膜と、該第1配向膜溝内に対応して第1基板と第2基板との間に形成された第1スペーサーと、第1基板と第2基板との間に形成された液晶層と、を備えてなる。 (もっと読む)


【課題】基板上に薄膜を、インクジェット方式によって、成膜した場合、膜厚変動を抑え、材料使用効率と生産タクトの向上を図り、環境を配慮する。
【解決手段】複数のノズル9を搭載した、単一若しくは複数のインクジェット・ヘッド2が配置されたヘッド支持機構5と面方向に相対的な移動を可能とする基板搬送機構50とで構成された薄膜形成装置を用いる。基板搬送テーブル8と、基板1に噴射塗布を行う部分とを噴射塗布成膜室としての真空槽14で閉じ、真空ポンプによる減圧環境下で、インクジェット方式により成膜することで、膜厚変動の少ない薄膜を得る。所要に応じて、圧力調整予備室を設けて、減圧環境を作り、さらに排気系統に揮発性有機溶剤の回収装置を設けてもよい。特に配向膜の成膜に適している。 (もっと読む)


【課題】基板上に高精細なパターンの膜を簡単かつ安価に形成することができる膜付き基板の製造方法、および、かかる製造方法を用いた電子機器の製造方法を提供すること。
【解決手段】成膜材料を溶媒に溶解または分散媒に分散した液体材料の第1の液滴70を基板48上に付与する工程と、基板48上に付与された第1の液滴70内の成膜材料の一部を基板48上に析出または凝集させて、固化部71を形成する工程と、固化部71を含まずに第1の液滴70の一部に重なる(または第1の液滴70の周縁に接する)ように、液体材料の第2の液滴74を基板48上に付与することにより、第1の液滴70を幅狭にする工程と、第1の液滴70および第2の液滴74から溶媒または分散媒を除去することにより、基板48上に膜を形成する工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】感光性シートの現像工程において、感光性シートおよびその支持体のダメージを軽減し、かつシート内のパターンが均一な成形体を得ることを課題とする。
【解決手段】無機粒子と感光性有機成分を含む感光性組成物に活性光線をパターン状に照射する工程、照射後、現像時に現像液中で周波数変調型超音波処理を行う工程の少なくとも2つの工程を有することを特徴とする成形体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 薄膜で高い黒濃度を得、遮光性に優れると共に、露光後の加熱硬化性に優れ、高解像度の像の形成が可能な遮光膜用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 バインダー樹脂、光酸発生剤及び架橋剤と共に、黒色剤として金属粒子及び/又は金属化合物粒子を含有している。 (もっと読む)


【課題】金属酸化物を含む薄膜を得るにあたり、ゾル−ゲル法と紫外線照射法とを組み合わせて用いた場合であっても、従来よりも金属酸化物を含む薄膜中の未反応成分を少なくでき、亀裂の発生も抑制可能な薄膜製造方法を提供すること。また、この薄膜製造方法により製造された金属酸化物を含む薄膜を有する透明電磁波遮蔽フィルムを提供すること。
【解決手段】金属化合物を含む溶液を透明高分子フィルムの少なくとも一方面に塗工し、乾燥させて薄膜前駆体を形成し、この薄膜前駆体に紫外線を照射して金属酸化物を含む薄膜を製造するにあたり、紫外線の照射前および/または紫外線の照射中に、薄膜前駆体に対して水分を供給する。また、この薄膜製造方法により製造された金属酸化物を含む薄膜を、透明高分子フィルム上に有する透明電磁波遮蔽フィルムとする。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は画素サイズの小型化等による高精細な画像の鮮明性を低下させることなく、外光の写り込みや、コントラストの低下を有効に防止出来、所望の微細凹凸構造を生産性よく効果的・安定的に形成した防眩性フィルム、及びその製造方法を提供し、更にそれを用いた防眩性反射防止フィルム、偏光板、及び表示装置を提供することにある。
【解決手段】50〜1000mm径でかつゴム硬度が30〜80度の範囲であるシームレス樹脂版を用いフレキソ印刷により基材フィルムの表面にインキ付着部とインキ未付着部による凹凸構造を形成する工程を有することを特徴とする防眩性フィルムの製造方法。 (もっと読む)


【課題】 耐熱性、耐油性、耐薬品性、耐候性、可とう性、圧縮永久歪に優れる下記用途向けの液状硬化性組成物及びその硬化物の提供。
<対象用途>
(1)コート用途
(2)ソルダードレジン用途
(3)レジスト用途
(4)フィルム用途
(5)歯科材料用レジン
(6)紙艶用ワニス
(7)印刷の製版材料用レジン
(8)インク用途
(9)FRP、被覆材の耐寒性、耐乾性改善用途
(10)光ファイバー用被覆用
【解決手段】 下記(A)成分、(B)成分を必須成分として含有する液状硬化性組成物。
(A)一般式(1):
−OC(O)C(R)=CH (1)
(式中、Rは水素原子又は炭素数1〜20の有機基を表わす)
で表わされる基を1分子あたり2個以上有し、かつ、そのうち分子末端に前記一般式(1)で表わされる基を1個以上有するビニル系重合体、
(B)開始剤。 (もっと読む)


【課題】 液滴を乾燥して形成するパターンの形状制御性を向上した液滴吐出装置、パターン形成方法、識別コードの製造方法、識別コード、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置を提供する。
【解決手段】 着弾位置の領域で、X矢印方向に沿ってセル幅Raよりも若干長い帯状のスポットと、Y矢印方向に沿ってセル幅Raよりも若干長い帯状のスポットとからなる十字状のピニングスポットB1を成形するようにした。そして、着弾位置に着弾した微小液滴Fbの外径が、セル幅Raよりも若干小さい照射径Reになるタイミングで、そのピニングスポットB1のレーザビームを照射するようにした。 (もっと読む)


【課題】金属粒子を用いた直接回路描画法において、耐熱性の低い基板材料上においても低抵抗の実装部品を短時間に作成することが可能な、新しい技術手法及びこの方法を用いて製造した製品さらに、これに用いる金属粒子を相互融着するための金属粒子焼成用材料を提供する。
【解決手段】高周波電磁波吸収性の優れた金属粒子2もしくは高周波電磁波吸収性の優れた焼結助剤を混合した金属粒子2を、各種基板1上に表面塗布又は回路パターンニングを行なった後に高周波電磁波照射を行うことで、金属粒子部分を選択的に加熱する金属粒子の相互融着方法と、この方法を用いて形成した導電材、導電路、アンテナ、バンプ、パッド、ビア等の電子実装部品や立体配線基板及び熱伝導路、触媒電極、立体配線である。 (もっと読む)


【課題】 活性エネルギー線による硬化で作業効率良く耐候性および耐擦傷性に優れた塗膜を形成することができる複層塗膜形成方法と該方法に用いうる塗料を提供する。
【解決手段】 本発明にかかる塗料は、活性エネルギー線により硬化するプラスチック基材用下塗り塗料であって、側鎖に二重結合基を有する(メタ)アクリル樹脂(A)、多官能(メタ)アクリレート(B)、(メタ)アクリロイル基を有する紫外線吸収剤(C)および光重合開始剤(D)を必須成分とする。本発明にかかる複層塗膜形成方法は、プラスチック基材上に活性エネルギー線により硬化する下塗り塗料にて下地塗膜を形成し、該下地塗膜上に活性エネルギー線により硬化するクリヤー塗料にてクリヤー塗膜を形成する複層塗膜形成方法において、前記下塗り塗料として、前記本発明にかかる塗料を用いる。 (もっと読む)


【課題】耐擦傷性が優れた、低屈折率膜を形成可能なコーティング組成物、およびこれを用いた形成された、薄膜または光学フィルムを提供する。
【解決手段】本発明のコーティング組成物は、金属フッ化物微粒子と、バインダと、重合開始剤とを固形成分として含み、金属フッ化物微粒子の表面は、官能基により修飾されており、官能基同士は、前記重合開始剤にエネルギーが付与されると反応して結合可能である。本発明の光学フィルムは、透明基材と、透明基材の一方の主面上に形成され一方の最外層である薄膜とを含み、薄膜は、本発明のコーティング組成物を塗布することにより形成された塗膜にエネルギーを付加して形成されている。本発明の光学フィルムは、例えば、反射防止フィルムである。 (もっと読む)


【課題】低反射性でありながら、耐擦傷性、防汚性に優れた低屈折率層を形成できる塗布組成物を提供すること。また、該低屈折率層形成用塗布組成物を用い、外光の映り込みを防止し、耐擦傷性および防汚性が改善された反射防止フィルムを提供すること。更には該反射防止フィルムを用いた偏光板および液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】主鎖中にポリシロキサンセグメントを有し、フッ素含量が30質量%以上であり、複数のエチレン性不飽和基を含有するフッ素含有オレフィン系重合体と、平均粒径が5〜200nmであり、且つ屈折率が1.17〜1.40である中空シリカ微粒子とを含有することを特徴とする低屈折率層形成塗布組成物。 (もっと読む)


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