【課題】吸気圧力の変動が小さいステージ装置と、このステージ装置を備えた塗布処理装置を提供する。
【解決手段】 レジスト塗布装置２３ａは、基板Ｇを浮上搬送するためのステージ２００を有するステージ装置１２と、ステージ２００上で基板ＧをＸ方向に搬送する基板搬送機構１３と、ステージ２００上で浮上搬送される基板Ｇの表面にレジスト液を供給するレジスト供給ノズル１４を備えている。ステージ２００は、小ステージ２０１ａ〜２０３ａ・２０１ｂ〜２０３ｂから構成され、小ステージ２０２ａ・２０２ｂでは、ガス噴射口１６ａと吸気口１６ｂを、基板ＧのＸ方向先端が同時に所定数の吸気口１６ｂを覆うことがなく、かつ、基板ＧのＸ方向後端が同時に所定数の吸気口１６ｂを大気開放させることがないように、Ｙ方向に対して角度θだけずれた方向に所定の間隔で設けた。 （もっと読む）

【課題】 基板に対するパーティクルの付着や傷付きを防止しつつ、基板を迅速に方向転換して搬送することができる基板搬送装置を提供する。
【解決手段】 基板を水平に保ちながら方向転換して搬送するための基板搬送装置Ａであって、基板の下面との間に空気圧による緩衝層を形成するエアステージ１と、エアステージ１に隣接して上下動作可能に設けられており、所定の上位置をとるとき、エアステージ１上における基板の側縁部を第１の水平方向Ｆ１に沿って移動しうるように支持する支持手段２Ａ，２Ｂと、エアステージ１の中央部において、上下動作可能かつ鉛直軸周りに回転可能に設けられており、所定の上位置をとるとき、エアステージ１上における基板の下面中央部を支持するとともに、鉛直軸周りに回転することで当該基板を第１の水平方向Ｆ１から異なる第２の水平方向Ｆ２に方向転換させる回転手段３とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 ワークを１本毎、搬送する搬送装置を提供する。
【解決手段】 ワークを１本毎、搬送する搬送装置は、上流から下流に向けて下り傾斜状に適宜の間隔で配置の一対のフレームに回動可能な停止体１０を配列し、停止体１０は、回動軸１１に対して上流側に重心があるように幅広部１０ａと幅狭部１０ｂを形成してあり、上流側の停止体１０に物品を載置すると、下流側の停止体１０に物品がないときは下流側の停止体１０に転動する。 （もっと読む）

【課題】設備コストを減少させ、接着処理回数の減少を防止する接着剤硬化装置を提供する。
【解決手段】第２インデックステーブル８１はロータリーテーブルであり、断熱板８５の上部に固定されており、半径１３５ｍｍの円盤状をなしている。また、第２インデックステーブル８１の上面８１Ａ全域は平坦面をなしている。更に２インデックステーブル８１は、断熱板８５及び回転駆動部８４を介して図示せぬ駆動モータにより４８回の間欠回転動作によって一回転する。磁気コア２と板状コア３とが載置される第２インデックステーブル８１の中心から１３０ｍｍの位置は、回転動作時には６０ｍｍ／ｓｅｃの速度で回転する。また、第２インデックステーブル８１には、上面８１Ａを約１９０℃に加熱するヒータ８２が内蔵されている。 （もっと読む）

【課題】 基板を水平搬送手段から基板回転処理ユニットへ移載する機構を有する装置において、発塵の心配が無く、湿式処理が行われても不都合を生じることがなく、構造が簡単で、フットプリントも比較的小さい装置を提供する。
【解決手段】 基板回転処理ユニット１０およびローラコンベア１６を備え、ローラコンベアの搬送路終端部と対向するようにかつ基板Ｗを支持するフリーローラ２８の基板支持面とローラコンベアの基板搬送面とが同一高さとなるように配置されるキャリア板２０と、ローラコンベアの搬送路終端部からキャリア板上へ基板を水平移動させる移載アーム３２と、基板を支持したキャリア板を、基板受け渡し位置Ａから基板回転処理ユニットの回転保持円板１２上へ移動させる支持・移動機構とを備え、回転保持円板が、キャリア板の載置面および基板を保持する支持ピン４４、４６を有する。 （もっと読む）

【課題】テーブル上のメディアを掴み易くしメディア交換にかかる時間を短縮して、製品の生産性の高い、メディア上に高精度に線を描くための描画装置を提供する
【解決手段】ヘッド部１０とテーブル３６とを備え、ヘッド部１０とテーブル３６の中、一方のみをＸＹ２軸の中の１軸方向に駆動する搬送機構に連係し、ヘッド部１０によってテーブル３６上のメディア８０に印字を行う描画装置であって、テーブル３６のメディア載置面に、テーブル３６上のメディア下面とは高さが違う場所を一部分に設ける。この高さが違う場所は、テーブル３６上にシート材８８を配置することで形成される。また、この高さが違う場所はテーブル３６に切り欠き９０を設けることで形成される。また、テーブル３６上のメディア８０を掴み易くするため、テーブル３６をメディア８０より小さくし、テーブル３６からメディア８０をはみ出させ、該メディア８０の下面の一部分を開放する。 （もっと読む）

【課題】 軽量で液体被覆に使用可能なロボットハンドを提供する。
【解決手段】 ロボット取付け部１の下端には支持板２が固定され、支持板２の下部には、支持板２を挟むように対向する連結板３が第１の軸４で回転可能に吊り下げられている。各々の連結板３の下部の外側面にはワーク接触板６が連結板３と直角になるよう固定されている。対向するワーク接触板６の間には、先端付近に永久磁石７が固定されたアーム８が配置され、かつワーク接触板６と第２の軸９で回転可能に連結されている。アーム８の後端は、対向するワーク接触板６の間より飛び出ていて、アクチュエータ１０の可動部先端に連結されている。アクチュエータ１０はその駆動方向がアーム８の長手方向と直角になるよう配置されている。そして、アクチュエータ１０の可動端と反対側の端部が、ロボット取付け部１の上端部と固定部材１１を介して固定されている。 （もっと読む）

【課題】 吸着されたワークを容易に真空破壊して解除することができる吸着テーブル装置およびこれを備えた液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を提供する。
【解決手段】 吸着テーブル装置１９は、マザー基板１２７の載置面に吸引溝７３が設けられ、該吸引溝７３に吸引孔７５を有し、マザー基板１２７の載置面の中心部と外側部に個別に備えられている。吸引孔７５は、エアー吸引・供給装置７１に接続され、外側部に設けられた吸引孔７３から中心部に向けて順次解除される。 （もっと読む）

【課題】 駆動用モータの動力伝達機構により、リフター機構の高さが高くなることのないリフター機構等を提供する。
【解決手段】 アクチュエータ１９１により正逆回転されるリードねじ１９２と、左右雄ねじ部２０２ａ、ｂにそれぞれ螺合する左右雌ねじ部材１９３，１９３と、左右雌ねじ部材１９３，１９３のスライド移動を動力変換して、これを昇降させる運動変換機構１９４と、を備え、運動変換機構１９４は、右雌ねじ部材１９３に固定され第１カム溝２３３を有する第１運動変換部材２２１と、左雌ねじ部材１９３に固定され第２カム溝２３３を有する第２運動変換部材２２１と、第１、第２運動変換部材をスライド自在に支持するスライドガイド２２２と、第１、第２カム溝２３３，２３３にそれぞれ係合する第１、第２従動子２５３、２３３を有し、ピンベース１７２を昇降自在に支持する昇降部材２２３と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 コーティングラインの部品を簡単かつ効率的に交換することを可能にする。
【解決手段】 部品交換搬送装置は、搬送経路（４）と少なくとも１つのキャリッジ（６）とを含む搬送システムを有し、上記キャリッジは上記搬送経路に沿って移動可能であり、かつ上記キャリッジには、交換されるべき部品を拾い上げるための少なくとも１つの巻上機（７）が設けられ、上記搬送経路は、使用される上記コーティングライン（１）について厳密に特定された搬送経路（４）を規定するガイド部材を含み、上記搬送経路は、上記搬送経路（４）に沿って移動可能でありかつ上記巻上機（７）を有する上記キャリッジ（６）が、交換されるべき上記部品（１０）についての正しい持上げ位置および下ろし置き位置に正確に上記巻上機を自動的に案内するように、上記コーティングライン（１）に沿って位置付けられる。 （もっと読む）

【課題】 シリコン等の被吸着基板の加工部位に傷や欠陥の発生しにくい真空チャック治
具及びこの真空チャック治具を使用した真空チャック方法、並びにこの真空チャック治具
を使用したエッチング精度の高い液滴吐出ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】 被吸着基板を吸着する吸着孔３を有し、該吸着孔３が、被吸着基板を吸着
する側の面の、中心から一定の範囲を占める中心部より外側の外周部に設けられているも
のである。また、外周部に設けられた吸着孔３以外に、被吸着基板を吸着する側の面の中
心に被吸着基板を吸着する吸着孔３が設けられているものである。さらに、吸着孔３が形
成された吸着部２が突設されており、吸着部２のみで、被吸着基板を保持可能としたもの
である。 （もっと読む）

【課題】 塗布膜形成成分を溶剤に溶かしてなる塗布液を基板の表面に塗布して成膜するにあたり、塗布後の基板に塗布むらの有無を速やかに検査すること
【解決手段】 基板例えばウエハＷを搬送アームＡにより筺体３内に搬入してスピンチャック３１に水平の保持し、塗布液ノズル５から塗布液を塗布して成膜する。そして塗布後のウエハＷを筺体３から搬出しているときに、当該ウエハＷの表面の画像データをラインセンサ７２により取得し、この画像データに基づいて塗布むらの有無を判定する構成とする。これによりウエハＷの表面の塗布むらを速やかに検出することができ、その結果を次に処理される後続のウエハＷに有効に反映させることができる。 （もっと読む）

【課題】 分割形式の吸着テーブルであっても、これに吸着載置したワークＷの平面度を、精度良く維持可能な液滴吐出装置のワークテーブルおよびこれを備えた液滴吐出装置を課題とする。
【解決手段】 ワークＷに対して、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッド３をＸ軸方向およびＹ軸方向に相対的に移動させながら、ワークＷ上に機能液を吐出して描画を行う液滴吐出装置１のワークテーブル１２であって、ワークＷを吸着載置するセラミック製の吸着テーブル３７を備え、吸着テーブル３７は、複数のテーブル片５８を相互に一体的に接合して形成されている。 （もっと読む）

【課題】 スピンレス方式で被処理基板上に処理液を供給ないし塗布する基板処理装置において基板の大型化に無理なく効率的に対応すること。
【解決手段】このレジスト塗布ユニット（ＣＴ）８２は、プロセスラインＡの方向（Ｘ方向）に長く延びるステージ１１２を有し、このステージ１１２上で基板Ｇを噴出口１２０からの空気圧で浮上させて同方向（Ｘ方向）に平流しで搬送しながら、ステージ１１２上方に配置された定置型のレジストノズル１１４より基板Ｇ上にレジスト液を供給して、基板上面に一定の膜厚でレジスト塗布膜を形成する。ステージ１１２の両端部の搬入、搬出領域に属する各噴出口１２０については、空気の噴出流量を基板Ｇとの相対的な位置関係で個別的かつ自動的に切り換える噴出制御部（流量切換弁）をステージ１１２の内部に設けている。 （もっと読む）