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Fターム[4F042DF29]の内容

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Fターム[4F042DF29]に分類される特許

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【課題】基板に対して反射防止膜を形成する工程、レジスト膜を形成する工程、露光後の基板に対して現像を行う工程を実施する塗布、現像装置において、装置の奥行き寸法を抑えること。
【解決手段】基板にレジスト膜を形成するためのCOT層B4と、レジスト膜の下側に反射防止膜を形成するためのBCT層B5と、レジスト膜の上に反射防止膜を形成するためのTCT層B3と、現像処理を行うためのDEV層B1,B2とを互に積層する。これら積層体の前後に各層に対応する受け渡しステージを積層した受け渡しステージ群を設け、受け渡しステージを介して各層の間で基板の受け渡しができる。またレジスト液を基板に塗布するユニットなどの薬液ユニットについては、横並びの3連カップを共通の処理容器内に配置し、これらカップ内でレジスト塗布などの液処理を行う。 (もっと読む)


【課題】弱手作業者や片手作業者であっても使用可能なグリース塗布装置を提供する。
【解決手段】図(a)に示すように、作業者は手52の指53で棒状ワーク10の細幅部14を摘んで、スライドブロック25のワーク載せ部26及び補助ワーク載せ部27に載せる。図(b)に示すように、指53で棒状ワーク10の細幅部14を摘んだままで、手52で棒状ワーク10を矢印(4)のように押す。棒状ワーク10が所定位置まで前進したら、棒状ワーク10に適量のグリースが塗布される。塗布が終わったら、棒状ワーク10を矢印(4)とは反対方向に引き、スライドブロック25から外す。これで、一連の塗布作業が終了する。
【効果】一連の作業は、片手で実施することができる。片手作業者であっても作業を行うことができる。加えて、棒状ワークはスライドブロックに載せる程度でよく、スライドブロックに押さえつける必要はない。弱手作業者であっても作業を行うことができる。 (もっと読む)


【課題】ワーク処理のタクトタイムに影響を与えることなく、且つ時間的制約を受けずに、機能液滴吐出ヘッドの吐出検査を実施することができる液滴吐出装置および液滴吐出装置の制御方法を提供することである。
【解決手段】ワークWがセットされる一対のワークステージ2と、各ワークステージ2の外側に配設され、機能液滴吐出ヘッド42からの検査吐出を受ける一対の検査ステージ15と、各検査エリアに配設され、検査ステージ15の検査吐出結果を画像認識する一対の画像認識ユニット16と、ワークステージ2を、描画エリアおよび除給材エリア間で自在に移動させ、且つ検査ステージ15を描画エリアおよび検査エリア間で移動させるステージ移動手段32,33,34,35,36と、を備えたものである。 (もっと読む)


【課題】描画ステージの構造が簡素化された液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】ワーク5を把持するハンド17を有し、ワーク5を描画ステージ40に載置するロボット10と、ワーク5に液滴を吐出する液滴吐出ヘッド50と、描画ステージ40の近くに配置されロボット10が把持したワーク5を撮像可能なカメラ30と、カメラ30で捉えたワーク5の画像を画像処理しワーク5の位置情報を演算するワーク位置演算部と、ワーク位置演算部で得られたワーク5の位置情報とロボット10のハンド17の位置情報とに基づきワーク5を描画ステージ40に載置する位置を演算するワーク載置位置演算部と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】生産効率を向上させる液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】ワーク5に液滴を吐出する前にワーク5に前処理を施す前処理部20と、液滴を吐出可能に取り付けられた液滴吐出ヘッドを備え、液滴吐出ヘッドから液滴を吐出して液滴をワーク5に塗布する液滴吐出部30と、液滴が吐出されたワーク5に後処理を施す後処理部50と、ワーク5の平面を水平に保持可能なワーク保持部77を有する搬送部70と、を有し、前処理部20と、液滴吐出部30と、後処理部50とが搬送部70のワーク保持部77の移動範囲内において順に配置され、搬送部70のワーク保持部77がワーク5を保持した状態で前処理部20と、液滴吐出部30と、後処理部50とを順次移動可能である。 (もっと読む)


【課題】表面にマークを描画する基板の裏面に位置検出用マークが形成されているときにも、基板の位置及び角度を検出して、生産性良く描画する装置を提供する。
【解決手段】表裏面を有する半導体基板1の表面2aに液滴を吐出する塗布部13と、裏面2bに形成された第1位置検出用マーク7及び第2位置検出用マーク8を撮影しての位置及び角度を検出する基板位置検出部12と、基板位置検出部12が検出した半導体基板1の位置及び角度の情報を用いて塗布部13の所定の場所へ所定の角度で半導体基板1を移動する搬送部16と、を有し、基板位置検出部12は、塗布部13が液滴を吐出する向きと反対の向きから第1位置検出用マーク7及び第2位置検出用マーク8を撮影する。 (もっと読む)


【課題】 ワークを吊り下げるハンガを吊り下げ手段に容易に取り付けることができる塗装用ハンガを提供することを目的とする。
【解決手段】 この発明の塗装用ハンガは、コンベア1に対して装着される搬送部材に設けられた係合フック13とワーク4を吊り下げるワークハンガ21との間に配され、係合フック13に装着される上部フック201とワークハンガ21と係合する下部フック202を備えるハンガ20であって、ハンガ20は、上部フック201と下部フック202との間にワークハンガ21を下部フック202側へ案内する円弧状案内突出部204が設けられている。 (もっと読む)


【課題】複数の処理部と搬送部とから構成された液滴吐出装置にかかわる。搬送部が各処理部にワークを搬入し難い構造であるときにも、各処理部にワークを搬入して膜を形成できる液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】半導体基板1に液滴を吐出して塗布する塗布部10と、液滴を吐出する前に半導体基板1に前処理を施す前処理部9と、液滴が吐出された半導体基板1に後処理を施す後処理部11と、塗布部10と前処理部9と後処理部11との間で半導体基板1を移動させる搬送部13と、を備え、搬送部13は半導体基板1を把持する把持部13aを有し、塗布部10と前処理部9と後処理部11とは半導体基板1を受け渡しする中継場所9a,10a,11aを有し、中継場所9a,10a,11aは把持部13aの移動範囲内に位置している。 (もっと読む)


【課題】粒径の大きなインクを用いる場合であっても安定した印字品質が得られる、液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】基板上にインクを吐出する液滴吐出ヘッドと、インクを収容したインクパック150,151と、インクパック150,151を収縮させる収縮部材と、を備えた液滴吐出装置である。インクパック150,151は、その内部に、インクを攪拌する攪拌部材200と、攪拌部材200の移動をガイドするガイド部201と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】ワークを搬送機構を有する全自動作業用装置であって、卓上に載置して使用することができる作業装置の提供。
【解決手段】ワークと作業ヘッドとを相対的に移動しながらワークに所望の作業を行う卓上型作業装置であって、基台と、基台上に配設され、作業ヘッドおよび作業ヘッド駆動機構を有する作業部と、卓上型作業装置の側部に一体的に配設されるローダと、卓上型作業装置の側部に一体的に配設されるアンローダと、基台上に配設され、ローダから供給されたワークをアンローダまで搬送する搬送部と、制御部と、を備え、前記搬送部が、ワークを作業位置で固定する固定機構を有し、前記作業部が、作業位置の上方に配設された作業ヘッドを有し、制御部が、基台内に配設される第1の制御部、および卓上型作業装置の側部または上部に配設される第2の制御部とを含んで構成されることを特徴とする卓上型作業装置。 (もっと読む)


【課題】UVインクを用いる場合において信頼性の高い吐出を行うことのできる液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】基板に紫外線硬化型の液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、液滴が吐出された基板に紫外線を照射する紫外線処理部70と、液滴吐出ヘッド及び紫外線処理部70を収容する装置本体と、を備えた液滴吐出装置3である。紫外線処理部70は、処理チャンバー70aと、処理チャンバー70a内に収容され、紫外線を照射するランプ部73を有している。ランプ部73は、紫外線を照射するランプ73aと、ランプ73aを収容する筐体73bと、筐体73b内の雰囲気を装置本体の外部に排気する排気手段74と、を有する。 (もっと読む)


【課題】原材料の供給を容易に行うことが可能であり、且つメンテナンス性に優れた液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】基板を搬入する基板搬入部4と、基板に液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、液滴吐出ヘッドのメンテナンスを行うメンテナンス部33と、液滴が吐出された基板を搬出する基板搬出部9と、を備えた液滴吐出装置3である。少なくとも基板搬入部4、メンテナンス部33、及び基板搬出部9は、装置を平面視した際における外周辺の一つに沿って配置されている。 (もっと読む)


【課題】ワークを短時間で搬送可能なワーク搬送装置を提供する。
【解決手段】第1ステージと、前記第1ステージに近接して配置された第2ステージと、を有し、各前記第1及び第2ステージには、ワークが載置される載置面と、前記載置面に設けられた通気孔と、前記通気孔にエアーを供給するエアー供給部と、が設けられ、前記ワークを保持するととともに、前記第1及び第2ステージ間において保持した前記ワークを搬送させるワーク搬送部と、を備えた。 (もっと読む)


【課題】UVインクを用いる場合に起因する不具合の発生が防止された、液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】基板に液滴を吐出する液滴吐出ヘッド60を有する液滴吐出部65と、液滴が吐出された基板に後処理を行う後処理部70と、後処理部70の基板入口又は基板出口が開くときに、液滴吐出ヘッド60が基板入口又は基板出口から最も離間した位置に配置されるように液滴吐出部65の駆動を制御する制御部103と、を備える液滴吐出装置3である。 (もっと読む)


【課題】たわみを抑制しつつ基板を持ち上げること。
【解決手段】基板90を載置可能なステージ20と、旋回部32を受渡位置と処理位置との間で移動可能なステージ動作機構部30と、ステージ20が受渡位置に移動された状態で旋回部32の移動軌跡上に配設される外側補助リフトピンを含み、ステージ20上に載置される基板90の周縁部に沿った位置に、ステージ20上面に対して出退可能に配設された複数の外側リフトピン42と、受渡位置に配設され、ステージ20が受渡位置に移動された状態で、第1の外側リフトピンを出退操作可能な出退操作機構部60と、ステージ動作機構部30に対して、第2の外側リフトピンに対向する位置に出退方向に移動可能に配設され、ステージ20が受渡位置に移動された状態で、出退操作機構部60の出退操作力に応じて出退方向に移動される突き上げ補助部材72と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】塗布膜に形成されるムラの発生を抑えるとともに、乾燥工程に要するタクトタイムを短縮できる予備乾燥装置、予備乾燥方法を提供する。
【解決手段】基板上に塗布された塗布膜を乾燥させる本乾燥装置により塗布膜を乾燥させる前に、前記塗布膜を予備的に乾燥させる予備乾燥装置であって、予備乾燥装置は、浮上搬送方式により基板を搬送しつつ、当該基板を加熱した浮上用気体で高温雰囲気に曝して基板上の塗布膜を予備的に乾燥させることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ワークを搬送機構を有する全自動型作業用装置としても、ワークを手動で着脱する半自動型装置(卓上型ロボット)としても使用することができ、生産量にフレキシブルに対応可能な作業装置の提供。
【解決手段】ワークを搬送する搬送ユニットが配設された架台と、架台に着脱自在に配設された卓上型作業装置ユニットとを備える全自動型作業装置であって、卓上型作業装置ユニットが、ワークを保持するワーク保持部と、作業ヘッドと、ワーク保持部と作業ヘッドとを相対移動する相対移動機構を備え、かつ、単独でワーク保持部が保持するワークに所望の作業をすることができること、および、ワーク保持部が、搬送ユニットと連絡する搬送位置と、搬送ユニットと離間してワークに所望の作業をする作業位置とを有することを特徴とする作業装置。 (もっと読む)


【課題】基板上に塗布される液状体の状態を改善することが可能な塗布装置を提供すること。
【解決手段】所定の塗布位置において基板を立てた状態で回転させつつ前記基板の表面及び裏面にそれぞれ液状体を吐出するノズルを有する塗布機構と、前記基板を基板搬入位置、前記塗布位置及び基板搬出位置の間で搬送する搬送機構と、前記基板搬入位置、前記塗布位置及び前記基板搬出位置とは異なる位置であって前記搬送装置が接続可能な保持位置でダミー基板を保持するダミー基板保持機構とを備える。 (もっと読む)


【課題】ウエハ搬送機構やノズル移動機構等の各移動機構に対して、夫々の適切な時期に自動給脂を行うことができる塗布、現像装置を提供すること。
【解決手段】制御部8は、移動基体11に対して給脂を行った後における当該移動基体11の使用時間を計測し、移動基体11のガイドレール10の端部に、給脂機構3aを設け、以下のタイミングで移動基体11を給脂機構3a側に移動させて給脂を行う。即ち、移動基体11の使用時間が予め定めた給脂の周期を越えたときに、移動基体11が準備期間中、または、休止期間中であれば自動給脂を行う。またキャリアCから一のロットの最終基板が払い出されたときにもキャリアCから次のロットの先頭基板の払い出しを遅らせ、前記最終基板に関する当該移動基体11の作業が終了した後、移動基体11に対して給脂を行う。 (もっと読む)


本発明の実施形態は、再現可能かつ正確な基板処理を維持しながら、システム処理量を増大させ、システム稼働時間を改善し、かつデバイス歩留り性能を改善した処理システム内で基板を処理する装置および方法を提供する。システムは、システム制御装置によって制御される複数の平面の移動子を介して平面のモータを使用することによって横方向に位置決めできる複数の処理ネストを含むことができる。各処理ネストによって支持される基板は、回転アクチュエータによってその角度を決定できる。システムは、とりわけ、スクリーン印刷、インクジェット印刷、熱処理、デバイス試験、および材料除去プロセスに使用することができる。
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