基板載置装置
【課題】たわみを抑制しつつ基板を持ち上げること。
【解決手段】基板９０を載置可能なステージ２０と、旋回部３２を受渡位置と処理位置との間で移動可能なステージ動作機構部３０と、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で旋回部３２の移動軌跡上に配設される外側補助リフトピンを含み、ステージ２０上に載置される基板９０の周縁部に沿った位置に、ステージ２０上面に対して出退可能に配設された複数の外側リフトピン４２と、受渡位置に配設され、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で、第１の外側リフトピンを出退操作可能な出退操作機構部６０と、ステージ動作機構部３０に対して、第２の外側リフトピンに対向する位置に出退方向に移動可能に配設され、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で、出退操作機構部６０の出退操作力に応じて出退方向に移動される突き上げ補助部材７２と、を備えている。
【解決手段】基板９０を載置可能なステージ２０と、旋回部３２を受渡位置と処理位置との間で移動可能なステージ動作機構部３０と、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で旋回部３２の移動軌跡上に配設される外側補助リフトピンを含み、ステージ２０上に載置される基板９０の周縁部に沿った位置に、ステージ２０上面に対して出退可能に配設された複数の外側リフトピン４２と、受渡位置に配設され、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で、第１の外側リフトピンを出退操作可能な出退操作機構部６０と、ステージ動作機構部３０に対して、第２の外側リフトピンに対向する位置に出退方向に移動可能に配設され、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で、出退操作機構部６０の出退操作力に応じて出退方向に移動される突き上げ補助部材７２と、を備えている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
有機ＥＬ材料等を基板に塗布する装置において基板を搬出入可能に支持する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ材料等をガラス基板、プラスチック基板等の基板の主面に対して塗布する処理は、基板をステージ上に載置した状態で行われることがある。一般的に、基板に対する処理を施す工程と基板をステージ上に搬入／搬出する工程とは異なる位置（処理位置、搬入／搬出位置）で行われることが多く、この場合、ステージが搬入／搬出位置と処理位置との間を移動可能に構成される。
【０００３】
そして、ステージに対する基板の載置又は取除き作業をロボット等の移載機を用いて行う場合、基板の下方空間に基板保持用のハンド等が進入可能なように、基板がステージ上から持ち上げられているとよい。このような基板載置装置として、特許文献１に開示のものがある。特許文献１に係る基板載置装置は、基板を載置して搬入／搬出位置と処理位置との間を移動するステージの上面に対して、昇降可能にピン機構が設けられ、このピン機構を上下駆動部による突き上げ板の上下駆動により昇降させ、ステージから基板を持ち上げるように構成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−１７９５７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１では、ステージが搬入／搬出位置と処理位置との間で移動可能であるのに対して、突き上げ板は搬入／搬出位置に配設されている。そして、突き上げ板は、ステージを支持する旋回部との接触を避けながら、ピン機構の下部空間に配置可能なように、搬入／搬出位置から処理位置に向けて開口するコの字型に形成されている。つまり、ステージのうち、突き上げ板のコの字型の開口に相当する部分では、ピン機構を設けたとしても昇降させることができない。このため、大盤な基板を扱う場合、特許文献１に係る基板載置装置では、基板を持ち上げる際に、ピン機構が当接しない上記部分で基板にたわみが発生する恐れがあった。
【０００６】
そこで、本発明は、たわみを抑制しつつ基板を持ち上げることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
第１の態様に係る基板載置装置は、基板を載置可能なステージと、前記ステージを支持するステージ支持部を有し、前記ステージ及び前記ステージ支持部を受渡位置と処理位置との間で移動可能なステージ動作機構部と、前記ステージが前記受渡位置に移動された状態で前記ステージ支持部の移動軌跡上に配設される位置に配設されている補助リフトピンを含み、前記ステージ上に載置される前記基板の周縁部に沿った位置に、前記ステージ上面に対して出退可能に配設された複数のリフトピンと、前記受渡位置に配設され、前記ステージが前記受渡位置に移動された状態で、前記複数のリフトピンのうち前記補助リフトピンを含まない第１のリフトピンを出退操作可能な出退操作機構部と、前記ステージ動作機構部に対して、前記複数のリフトピンのうち前記第１のリフトピンを除く第２のリフトピンに対向する位置に、出退方向に移動可能に配設され、前記ステージが前記受渡位置に移動された状態で、前記出退操作機構部の出退操作力に応じて前記出退方向に移動される突き上げ補助部材と、を備えている。
【０００８】
第２の態様に係る基板載置装置は、第１の態様に係る基板載置装置であって、前記突き上げ補助部材は、前記ステージが前記受渡位置に移動された状態で、前記複数のリフトピンの出退方向において前記出退操作機構部に対して一部重複し、前記出退操作機構部との重複部分に押し上げられた状態で前記出退方向に移動される。
【０００９】
第３の態様に係る基板載置装置は、第１又は第２の態様に係る基板載置装置であって、前記出退操作機構部は、前記受渡位置から前記処理位置に向けて開口し、前記ステージが前記受渡位置に移動された状態で前記ステージ支持部の三方を囲む形状に形成されている突き上げ部材を有し、前記突き上げ補助部材は、前記突き上げ部材の開口幅より長尺に形成されると共に、前記ステージが前記受渡位置に移動された状態で、前記突き上げ部材の開口に対応する位置で、長手方向両端部が前記出退方向において前記突き上げ部材と重複するように配設されている。
【００１０】
第４の態様に係る基板載置装置は、第１〜第３の態様のいずれか一態様に係る基板載置装置であって、前記補助リフトピンより内周側の位置に、前記ステージが受渡位置に移動された状態で前記ステージ支持部の移動軌跡上に配設される内側補助リフトピンをさらに備え、前記突き上げ補助部材は、前記第２のリフトピン及び前記内側補助リフトピンに対向可能に形成されている。
【発明の効果】
【００１１】
第１の態様に係る基板載置装置によると、ステージが受渡位置に移動された状態でステージ支持部の移動軌跡上に配設される位置に補助リフトピンが配設されている。そして、ステージ動作機構部に対して配設され、出退操作機構部の出退操作力に応じて移動される突き上げ補助部材により、補助リフトピンを出退操作可能に構成されている。これにより、ステージ上に載置された基板のうち、ステージが受渡位置に移動された状態でステージ動作機構部の移動軌跡上に配設される一辺部を突き上げることができ、大盤な基板を扱う場合であっても、たわみを抑制しつつ持ち上げることができる。また、移動するステージに対して突き上げ補助部材を出退操作するための駆動源を別途設けることを省略でき、ステージの負荷を軽減して耐久性を向上させると共に、装置の簡略化を図ることができる。
【００１２】
第２の態様に係る基板載置装置によると、突き上げ補助部材が、出退操作機構部との重複部分に載置された状態で出退方向に移動されることにより、複数のリフトピンのうち第２のリフトピンが出退操作される。このため、移動するステージに対して突き上げ補助部材を出退操作するための伝達機構を別途設けることを省略でき、ステージの負荷を軽減して耐久性を向上させると共に、装置の簡略化を図ることができる。
【００１３】
第３の態様に係る基板載置装置によると、突き上げ補助部材は、出退操作機構部が出退操作されると、突き上げ部材と重複した両端部が突き上げ部材に支持された状態で出退方向に移動される。このため、突き上げ補助部材は、安定して出退方向に移動され、より正確にリフトピンを出退操作することができる。
【００１４】
第４の態様に係る基板載置装置によると、ステージが受渡位置に移動された状態でステージ支持部の移動軌跡上に配設される位置のうち、ステージ上に載置される基板の周縁部に沿った位置だけでなく、その内周側の位置にも内側補助リフトピンが配設されているため、基板の中央部付近のたわみを抑制して基板を持ち上げることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】処理位置における有機ＥＬ表示装置の製造装置の概略平面図である。
【図２】処理位置における有機ＥＬ表示装置の製造装置の概略正面図である。
【図３】ステージが処理位置に移動された基板載置装置の概略側面図である。
【図４】ステージが受渡位置に移動された基板載置装置の概略側面図である。
【図５】リフトピンの構造を示す図である。
【図６】リフトピンと突き上げ部材及び突き上げ補助部材との関係を示す平面図である。
【図７】出退操作機構部と突き上げ補助部材との関係を示す図である。
【図８】出退操作機構部が突き上げ補助部材を支持した状態を示す図である。
【図９】リフトピンが突出姿勢に姿勢変更された状態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、実施形態に係る基板載置装置について説明する。一般的に、本基板載置装置は、ガラス基板、プラスチック基板等の基板に対して諸処理を施す装置に組込まれる。ここでは、基板載置装置が有機ＥＬ表示装置の製造装置に組込まれる例を用いて説明する。
【００１７】
＜１．有機ＥＬ表示装置の製造装置の概略＞
まず、説明の便宜上、有機ＥＬ表示装置の製造装置１００について、その一例を挙げて説明する（図１、図２参照）。有機ＥＬ表示装置の製造装置１００は、有機ＥＬ材料を、ガラス又は透明のプラスチック等により形成されている（ここでは、略矩形に形成されている）基板９０に対して、所定のパターン形状で塗布して、有機ＥＬ表示装置を製造するための装置である。
【００１８】
有機ＥＬ表示装置の製造装置１００は、基板載置装置１０及び有機ＥＬ塗布機構１１０を備えている。有機ＥＬ塗付機構１１０は、ノズルユニット１１２、ノズル移動機構部１１４及び受液部１１８を有している。ノズルユニット１１２は、赤、緑及び青の有機ＥＬ材料をそれぞれ吐出するノズル１１２ａ〜１１２ｃを有している。各ノズル１１２ａ〜１１２ｃに対しては、それぞれ図示省略の供給部から各色の有機ＥＬ材料が供給される。また、ノズル移動機構部１１４は、ノズルユニット１１２を、ガイド部材１１５に沿って一方向に移動可能に構成されている。また、受液部１１８は、基板９０の端部或いはその側方位置で、ノズルユニット１１２から基板９０下方に落下する有機ＥＬ材料を受けるように、ノズルユニット１１２の移動経路に対応して、ステージ２０両側方の位置に配設されている。
【００１９】
そして、ノズルユニット１１２が各ノズル１１２ａ〜１１２ｃから有機ＥＬ材料を吐出した状態で、ノズル移動機構部１１４によりガイド部材１１５に沿って移動されると、基板９０の一主面に対して、有機ＥＬ材料がノズルユニット１１２の移動方向に沿ってストライプ状に塗布される。また、順次、基板９０をノズルユニット１１２の移動方向と略直交する方向に沿って移動させ、上記と同様に有機ＥＬ材料の塗布作業を行うことにより、基板９０の一主面全体（或いは所定の箇所）に対して有機ＥＬ材料を塗布することができる。
【００２０】
もっとも、本実施形態に係る基板載置装置１０は、上記有機ＥＬ表示装置の製造装置１００に組込まれる場合に限られるものではなく、上記とは異なる構成の有機ＥＬ表示装置の製造装置、また、基板に対する諸処理を施すための各種装置に適用することができる。
【００２１】
＜２．基板載置装置の構成＞
次に、本実施形態に係る基板載置装置１０の構成について説明する（図３、図４参照）。
【００２２】
基板載置装置１０は、ステージ２０と、ステージ動作機構部３０と、リフトピン４０と、突き上げ部材６２を有する出退操作機構部６０と、突き上げ補助部材７２とを備えている。
【００２３】
ステージ２０は、基板９０を載置可能に形成されている。より具体的には、ステージ２０は、略矩形の板状で、その一主面２０ａに基板９０を載置可能に形成されている。また、ステージ２０の内部には、有機ＥＬ材料が塗付された基板９０に対して予備加熱処理等を施すことが可能なように、図示省略の加熱機構が設けられていてもよい。さらに、ステージ２０には、後述するリフトピン４０のピン部５２を挿通可能な孔部２２が形成されている。
【００２４】
ステージ動作機構部３０は、ステージ２０を支持するステージ支持部を有し、ステージ２０及びステージ支持部を受渡位置と処理位置との間で移動可能に構成されている。ここでは、ステージ支持部は、旋回部３２により構成されている。上記受渡位置とは、ロボット等の移載機により、ステージ２０上に対して、基板９０を載置、取除きするための位置である。また、処理位置とは、ここでは、ノズルユニット１１２により吐出される有機ＥＬ材料を、ステージ２０に載置された基板９０に対して塗付する位置である。この処理位置は、ステージ２０の一主面２０ａに対して略平行な方向のうちノズル移動機構部１１４によるノズルユニット１１２の移動方向に略直交する方向（図１の上下方向）において、基板９０の一端部に塗布する位置から他端部に塗布する位置までの範囲の位置である。
【００２５】
ここでは、ステージ動作機構部３０は、自走式の移動機構を採用しており、旋回部３２が取り付けられた移動部３６が、ガイドレール３８に沿って移動するように構成されている。つまり、ステージ２０、旋回部３２及び移動部３６が一体となって受渡位置と処理位置との間で移動する構成である。
【００２６】
ガイドレール３８は、受渡位置と処理位置との間を結ぶ（ここでは、略直線上に結ぶ）ように敷設されている。より具体的には、ガイドレール３８の敷設方向は、有機ＥＬ材塗布機構１１０のノズルユニット１１２の移動方向（ガイド部材１１５の敷設方向）と略直交する方向である。
【００２７】
移動部３６は、ガイドレール３８に沿ってその上を滑動可能に形成されたガイド受け部３７と、図示省略の駆動機構とを有している。そして、移動部３６は、この駆動機構の駆動により、ガイド受け部３７がガイドレール３８上を滑動して、旋回部３２及びステージ２０を受渡位置と処理位置との間で移動させる。この移動部３６の駆動機構としては、例えば、駆動用モータと車輪を設け、駆動用モータにより車輪を駆動する構成を採用することができる。
【００２８】
もっとも、ステージ動作機構部３０の移動部３６は、上記自走式の構成に限られず、リニアモータ、油圧／エアシリンダ等を採用し、ステージ支持部としての旋回部３２及びステージ２０を受渡位置と処理位置との間で移動させる構成であってもよい。
【００２９】
また、旋回部３２は、ステージ２０を、その一主面２０ａに略直交する中心軸周りに旋回可能に支持した状態で、移動部３６に対して取り付けられている（図１〜４参照）。より具体的には、旋回部３２は、ステージ２０を、その一主面２０ａが略水平となる姿勢で支持するように構成されている。旋回部３２としては、例えば、２部材をモータにより相対回転駆動可能に連結した構成を採用することができる。
【００３０】
この旋回部３２には、平面視において、ステージ２０より小さいものが採用されている（図６参照）。すなわち、平面視において、ステージ２０のうち、旋回部３２に取り付けられている部分の周りの部分に、後述する複数のリフトピン４０を配設するためのスペースが確保されている。
【００３１】
そして、旋回部３２は、ステージ２０の一主面２０ａに載置された基板９０が、載置、取除きされる姿勢と有機ＥＬ材料が塗布される姿勢とが異なる場合等に、ステージ２０を回転駆動して（例えば、９０度回転させる）、基板９０の姿勢を変更する。
【００３２】
また、上記ステージ２０には、その一主面２０ａに対して突出、退避（以下、出退）可能にリフトピン４０が複数配設されている。
【００３３】
より具体的には、リフトピン４０は、ステージ２０の一主面２０ａとは反対側の他主面に対して取り付けられ、ステージ２０の他主面側から一主面２０ａ側に貫通するように形成された孔部２２を通じて、一主面２０ａに対して出退するように構成されている。リフトピン４０は、ピン部５２と、支持部５４と、ブッシュ５５と、付勢部材５６と、基端部材５８とを有している（図５参照）。
【００３４】
支持部５４は、中心に貫通孔５４ａが形成され、この貫通孔５４ａと上記ステージ２０の孔部２２との軸方向が略一致する姿勢で、ステージ２０の一主面２０ａとは反対側の他主面に対してネジ止め等により固定されている。また、支持部５４の貫通孔５４ａ内には、ブッシュ５５が配設されている。そして、このブッシュ５５内には、長尺棒状に形成されたピン部５２が、ステージ２０の一主面２０ａに対して略直交する方向に沿って出退移動可能に配設されている。このピン部５２の移動方向を出退方向とする。ここでは、ピン部５２の先端部は、ステージ２０の孔部２２内に配設されている。ピン部５２の基端部には、基端部材５８が固定されている。この基端部材５８と支持部５４との間には付勢部材５６が圧縮状態で配設されている。つまり、ピン部５２は、付勢部材５６により出退方向退避側に付勢されている。基端部材５８は、後述する出退操作機構部６０の突き上げ部材６２の一主面に略直交方向に当接可能に構成されている。ここでは、基端部材５８は、リフトピン４０の基端側に向けて突出するように配設された４本のネジを有しており、その端部が同時に突き上げ部材６２及び突き上げ補助部材７２の一主面に当接するように突出量を調節可能に構成されている。さらに、基端部材５８には、後述する被検知部５９が配設されている。
【００３５】
そして、リフトピン４０は、基端部材５８に対して、出退方向突出側に向けて外力が加えられない状態では、付勢部材５６の付勢力によりピン部５２の先端部がステージ２０の孔部２２内に配設された退避姿勢に維持される。また、リフトピン４０は、基端部材５８に対して、出退方向突出側に向けて付勢部材５６の付勢力より大きい外力が加えられると、ピン部５２の先端部がステージ２０の一主面２０ａから突出した突出姿勢に姿勢変更される。このリフトピン４０の出退操作は、後述する出退操作機構部６０及び突き上げ補助部材７２により行われる。
【００３６】
また、複数のリフトピン４０は、外側リフトピン４２と、内側リフトピン４４とに区別される。
【００３７】
外側リフトピン４２は、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で旋回部３２の移動軌跡３２ａ上に配設される位置に配設されている外側補助リフトピン４２ａを含み、ステージ２０上に載置される基板９０の周縁部に沿った位置に複数配設されている（図６参照）。
【００３８】
より具体的には、外側リフトピン４２は、ステージ２０の各辺に平行な辺を有しステージ２０より小さい（外側）仮想四角形の頂点又は辺上に、それぞれの中心軸が位置するように配設されている。ここでは、外側リフトピン４２は、前記（外側）仮想四角形の各頂点及び各辺の略中心にそれぞれの中心軸が位置するように８個配設されている。また、複数の外側リフトピン４２のうち、（外側）仮想四角形の処理位置側の一辺の略中心に配設されている一個のリフトピン４０が外側補助リフトピン４２ａである。
【００３９】
もっとも、複数の外側リフトピン４２の配設態様は、上記態様に限られない。例えば、外側リフトピン４２は、上記の配設態様から、ステージ２０のうち受渡位置と処理位置とを結ぶ方向に沿った辺部の中心に配設されたリフトピン４０を省略した態様であってもよい。また、各辺部の中途部にリフトピン４０を２個ずつ配設し、２個の外側補助リフトピン４２ａを含む１２個の外側リフトピン４２を配設してもよい。
【００４０】
内側リフトピン４４は、外側リフトピン４２より内周側の位置に複数配設されている（図６参照）。また、内側リフトピン４４は、外側補助リフトピン４２ａより内周側の位置に、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で旋回部３２の移動軌跡上に配設されている内側補助リフトピン４４ａを含んでいる。ここで、外側リフトピン４２より内周側（外側補助リフトピン４２ａより内周側）の位置とは、外側リフトピン４２（外側補助リフトピン４２ａ）に対して、ステージ２０の中心からの距離が近い位置である。
【００４１】
より具体的には、内側リフトピン４４は、複数の外側リフトピン４２の中心軸が位置する（外側）仮想四角形より小さい（内側）仮想四角形の頂点又は辺上に、それぞれの中心軸が位置するように配設されている。ここでは、内側リフトピン４４は、（内側）仮想四角形の各頂点にそれぞれの中心軸が位置するように４個配設されている。また、複数の内側リフトピン４４のうち、（内側）仮想四角形の処理位置側の２つの頂点位置に配設されている２個のリフトピン４０が内側補助リフトピン４４ａである。
【００４２】
もっとも、複数の内側リフトピン４４の配設態様は、上記態様に限られない。例えば、内側リフトピン４４は、上記受渡位置と処理位置とを結ぶ方向に沿って、旋回部３２を挟んだ位置に一つずつ配設されてもよいし、上記（内側）仮想四角形の各頂点に加え、各辺の略中心に配設されていてもよい。
【００４３】
上記複数のリフトピン４０は、ステージ２０の各辺に平行でかつステージ２０の中心を通る２本の仮想線それぞれについて、略線対称に配設されているとよい。
【００４４】
出退操作機構部６０は、受渡位置に配設され、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で、複数の外側リフトピン４２のうち外側補助リフトピン４２ａを含まない第１の外側リフトピンと複数の内側リフトピン４４のうち内側補助リフトピン４４ａを含まない第１の内側リフトピンとを出退操作可能に構成されている（図３、図４参照）。第１の外側リフトピン４０とは、外側補助リフトピン４２ａを含まない任意の個数の外側リフトピン４２であればよいが、ここでは、複数の外側リフトピン４２のうち、外側補助リフトピン４２ａを除く外側リフトピン４２全てをいう。また、第１の内側リフトピンとは、ここでは、複数の内側リフトピン４４のうち、内側補助リフトピン４４ａを除く内側リフトピン４４全てをいう。以下、この例で説明する。この出退操作機構部６０は、板状の突き上げ部材６２と突き上げ駆動部６４とを有している。
【００４５】
突き上げ駆動部６４は、受渡位置に配設され、突き上げ部材６２を、リフトピン４０の出退方向に沿って突き上げ位置と退避位置との間で移動駆動可能に構成されている。より具体的には、突き上げ駆動部６４は、突き上げ部材６２の一主面がリフトピン４０の出退方向に略直交する姿勢で、移動駆動可能である。例えば、突き上げ駆動部６４には、エアシリンダ、モータとカム等の伝達機構とを有する構成等を採用することができる。この突き上げ駆動部６４は、ステージ動作機構部３０の移動部３６の移動経路と干渉しないように配設されている（図６参照）。ここでは、突き上げ駆動部６４は、後述する突き上げ部材６２のうち、受渡位置と処理位置とを結ぶ方向に略直交する方向において、旋回部３２の両側に離間して４箇所に配設されている。
【００４６】
突き上げ部材６２は、受渡位置から処理位置に向けて開口し、ステージ２０が受渡位置に移動された状態でステージ支持部としての旋回部３２の三方を囲む形状に形成されている（図６参照）。より具体的には、この突き上げ部材６２は、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で、第１の外側リフトピン及び第１の内側リフトピンそれぞれに対して、その退避側位置（ここでは、略直下の位置）に対応して各部が配設されるように形成されている。つまり、突き上げ部材６２の形状は、突き上げ駆動部６４により、リフトピン４０の出退方向突出側に向けて移動された際に、第１の外側リフトピン及び第１の内側リフトピンのそれぞれの基端部材５８に対して当接可能な形状である。また、突き上げ部材６２は、受渡位置に移動されたステージ２０の旋回部３２に干渉しない形状に形成されている。
【００４７】
ここでは、突き上げ部材６２は、受渡位置から処理位置に向けて開口する略Ｕ字形状に形成されている。そして、内側リフトピン４４のうちの受渡位置側に配設された２つ（つまり第１の内側リフトピン）に対応する位置で、この略Ｕ字の底部の２箇所から処理位置側に向けて突出するように形成されている。そして、この２箇所の突出部分の間には、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で、旋回部３２の周縁部の一部が配設される（図６参照）。
【００４８】
また、突き上げ部材６２は、リフトピン４０を検知可能なピン検知用センサ６８を有している（図５参照）。ピン検知用センサ６８は、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で、リフトピン４０の位置或いは状態を検知可能であり、この検知信号を後述する制御部８０に出力可能に構成されている。このピン検知用センサ６８としては、例えば、赤外線センサ、超音波センサ、静電容量センサ等を採用することができる。
【００４９】
このピン検知用センサ６８は、突き上げ部材６２の一主面に対して、受渡位置に移動されたステージ２０に配設されている第１の外側リフトピン及び第１の内側リフトピンそれぞれに対向する位置に、複数配設されている。なお、リフトピン４０の基端部材５８には、ピン検知用センサ６８に対する検知対象部分としての被検知部５９が、その検知面をリフトピン４０の出退方向退避側（下方）に向けて配設されている。つまり、複数のピン検知用センサ６８は、第１の外側リフトピン及び第１の内側リフトピンそれぞれの被検知部５９と対向する位置に配設されている。そして、ピン検知用センサ６８は、突き上げ部材６２が退避位置から突き上げ位置側に移動され、被検知部５９との距離が予め設定された距離以下になると、当該距離を検知可能に構成されている。このピン検知用センサ６８は、後述する突き上げ補助部材７２にも、対応するリフトピン４０の被検知部５９と対向するように配設されているとよい。
【００５０】
また、ここでは、突き上げ部材６２は、リフトピン４０の出退方向に移動操作される際に、後述する突き上げ補助部材７２を押動可能な押し上げ部６３を有している。押し上げ部６３の構成については、突き上げ補助部材７２の説明と共に後述する。
【００５１】
突き上げ補助部材７２は、第１の外側リフトピンを除く第２の外側リフトピン４０及び第１の内側リフトピンを除く第２の内側リフトピンに対向可能な形状に形成されている。なお、ここでは、第２の外側リフトピンとは外側補助リフトピン４２ａをいい、第２の内側リフトピンとは内側補助リフトピン４４ａをいう。より具体的には、突き上げ補助部材７２は、一主面が外側補助リフトピン４２ａ及び内側補助リフトピン４４ａに対向可能な板状に形成されている。
【００５２】
もっとも、突き上げ補助部材７２は、外側補助リフトピン４２ａ及び内側補助リフトピン４４ａ以外のリフトピン４０に対しても対向可能な形状に形成されていてもよい。すなわち、突き上げ補助部材７２は、少なくとも、外側補助リフトピン４２ａ及び内側補助リフトピン４４ａに当接して突き上げ可能であればよく、突き上げ部材６２が突き上げしないリフトピン４０に対して対向するように形成されているとよい。
【００５３】
そして、この突き上げ補助部材７２は、ステージ動作機構部３０（ここでは、移動部３６）に対して取付けられている。つまり、突き上げ補助部材７２は、ステージ動作機構部３０により、ステージ２０と共に受渡位置と処理位置との間で移動可能に構成されている。また、突き上げ補助部材７２は、複数のリフトピン４０のうち第２の外側リフトピン４０（外側補助リフトピン４２ａ）及び第２の内側リフトピン（内側補助リフトピン４４ａ）に対向する位置に、出退方向に移動可能に配設されている。より具体的には、突き上げ補助部材７２は、その一主面がリフトピン４０の出退方向と略直交する姿勢で移動可能に配設されている。ここでは、突き上げ補助部材７２は、移動部３６に対してリフトピン４０の出退方向に沿って延びるように配設された略棒状の支持部７６に対して、その長手方向に沿って突き上げ位置と退避位置との間で移動可能に支持されている（図７参照）。例えば、突き上げ補助部材７２は、支持部７６を内孔に挿通した状態で摺動可能な直線運動軸受を有しているとよい。
【００５４】
また、突き上げ補助部材７２は、ステージ２０と共に受渡位置に移動された状態で、出退操作機構部６０の出退操作力に応じて出退方向に移動されるように構成されている。より具体的には、突き上げ補助部材７２は、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で、複数のリフトピン４０の出退方向において出退操作機構部６０に対して平面視一部重複し、出退操作機構部６０との重複部分に押し上げられた状態で出退方向に移動される。ここでは、突き上げ補助部材７２は、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で、前突き上げ部材６２の開口に対応する位置で、長手方向両端部が出退方向において突き上げ部材６２と重複するように配設されている（図６、図７参照）。
【００５５】
すなわち、上記突き上げ部材６２の押し上げ部６３は、出退操作機構部６０による出退操作の際に、突き上げ補助部材７２を、部分的に（ここでは長手方向両端部を）載置状に支持して押し上げ可能に構成されている。より具体的には、押し上げ部６３は、リフトピン４０の出退方向に略直交し、その突出側に向かう押し上げ面を有している。ここでは、押し上げ部６３は、突き上げ部材６２の略Ｕ字形状の対向部分の開口側一部からその対向方向内側に向けて互いに突出するように一対配設されている。
【００５６】
これに対して、突き上げ補助部材７２は、突き上げ部材６２の開口幅より長尺に形成されている。ここで、上記突き上げ部材６２の開口幅とは、押し上げ部６３同士の間隔をいう。つまり、突き上げ補助部材７２は、その両端部が、一対の押し上げ部６３の押し上げ面に対して平面視重複するように形成されていればよい。より具体的には、突き上げ補助部材７２の長手方向寸法は、一対の押し上げ部６３の間の寸法より大きく、かつ、突き上げ部材６２の略Ｕ字形状の対向する２片間の寸法より小さく（ここでは僅かに小さく）設定されている。
【００５７】
また、突き上げ補助部材７２は、突き上げ部材６２の板厚と略同厚に形成されている。つまり、突き上げ補助部材７２が突き上げ部材６２の押し上げ部６３に支持された状態で、突き上げ補助部材７２の一主面と突き上げ部材６２の一主面とは、略面一になるように構成されている（図７の二点鎖線部分参照）。これにより、ステージ２０が旋回部３２により旋回された場合にも、複数のリフトピン４０に対して同時に当接して突き上げることができる。
【００５８】
そして、突き上げ補助部材７２は、リフトピン４０が突出する向きに外力が加えられない状態では、リフトピン４０の基端部材５８に当接しないと共に、突き上げ部材６２の押し上げ部６３に対して出退方向突出側に離間した位置に維持される。ここでは、この位置は、突き上げ補助部材７２の出退方向退避側の一部が突き上げ部材６２の開口間に配設される位置である。また、突き上げ補助部材７２は、突き上げ駆動部６４により突き上げ部材６２が出退方向突出側に移動されると、突き上げ部材６２の開口間に配設されると共に、その両端部が押し上げ部６３の押し上げ面上に載置状に支持された状態で、突出移動される。
【００５９】
このように、外側補助リフトピン４２ａ及び内側補助リフトピン４４ａを出退操作する機構をステージ動作機構部３０の移動部３６に配設しないため、その移動操作に掛かる負荷を小さくすることができる。
【００６０】
上記突き上げ部材６２と突き上げ補助部材７２とは、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で、複数のリフトピン４０に対応してステージ動作機構部３０の旋回部３２の四方を囲むように配設される。
【００６１】
もっとも、突き上げ部材６２の押し上げ部６３は、開口の内側に向けて突出する構成に限られるものではない。例えば、押し上げ部６３は、突き上げ部材６２の略Ｕ字形状の対向部分の先端側部分で、その一主面を押し上げ面とする構成であってもよい。また、当該対向部分の先端側部分に、突き上げ補助部材７２の両端部をそれぞれ配設可能な凹部が形成され、凹部の底面を押し上げ面とする構成であってもよい。
【００６２】
また、突き上げ部材６２と突き上げ補助部材７２とは、上記形状の組合せに限られるものではない。例えば、突き上げ部材と突き上げ補助部材とは、略Ｌ字部材同士の組合せ、略Ｃ字部材とその開口に対応する弧状部材との組合せでもよい。また、突き上げ補助部材が略Ｕ字形状に形成され、突き上げ部材がその開口に対応した長尺板状に形成されていてもよい。ただし、これらの組合せは、少なくとも、突き上げ補助部材７２が外側補助リフトピン４２ａ及び内側補助リフトピン４４ａに対向する位置に配設されていることを前提とするものである。
【００６３】
また、突き上げ部材６２と突き上げ補助部材７２とは、ステージ２０が旋回部３２により姿勢変更された（例えば９０度回転駆動された）状態でも、複数のリフトピン４０に対向し、突き上げ可能であるとよい。
【００６４】
上記ステージ動作機構部３０及び出退操作機構部６０は、図示省略の制御部８０の制御指令に従って動作するように構成されている（図３参照）。制御部８０は、図示省略のＣＰＵ、ＲＡＭ、ＲＯＭ、入力部、入出力回路等を有する一般的なコンピュータである。
【００６５】
制御部８０は、ステージ動作機構部３０に対して、ステージ２０を受渡位置と処理位置との間で移動させる移動信号を出力可能に構成されている。また、制御部８０は、ステージ動作機構部３０に対して、旋回部３２によりステージ２０を回転駆動し、姿勢変更させる旋回信号を出力可能に構成されている。例えば、制御部８０は、ステージ２０に対して基板９０が載置された後にステージ２０を旋回、又は、受渡位置から処理位置に移動すると共に、ステージ２０に載置された基板９０に対する有機ＥＬ材料の塗布作業が終了した後に処理位置から受渡位置に移動するように制御するように構成されているとよい。
【００６６】
また、制御部８０は、出退操作機構部６０の突き上げ駆動部６４に対して、突き上げ部材６２を突き上げ位置と退避位置との間で移動させる出退駆動信号を出力可能に構成されている。例えば、制御部８０は、受渡位置に移動されたステージ２０に対して基板９０が載置される際又は取除かれる際に、突き上げ部材６２を突き上げ位置に移動させると共に、その後、移載部等により基板９０が載置、取除きされると突き上げ部材６２を退避位置に移動させるように構成されている。
【００６７】
ここでは、制御部８０は、ピン検知用センサ６８から出力される検知信号を入力可能に図示省略のＡＤ変換機等を介して複数のピン検知用センサ６８に接続されている（図５参照）。そして、制御部８０は、ピン検知用センサ６８の出力により、リフトピン４０の被検知部５９との距離が所定の距離（つまり、突き上げ部材６２と基端部材５８が当接した状態におけるリフトピン４０の被検知部５９との距離）であると判断すると、リフトピン４０が出退操作状態にあることを検出するように構成されているとよい。また、制御部８０は、突き上げ駆動部６４の駆動による突き上げ部材６２の位置（変位）と各ピン検知用センサ６８の出力とから、各リフトピン４０が完全に突出姿勢或いは退避姿勢に姿勢変更されているかを検出可能に構成されているとよい。これにより、基板９０が持ち上げられていない状態での取除き動作、リフトピン４０が退避していない状態での有機ＥＬ塗布動作が行われることを事前に防止することができる。
【００６８】
また、この制御部８０は、ステージ２０に対して基板９０を載置、取除きする移載機及び有機ＥＬ塗布機構１１０の動作タイミングに応じてステージ動作機構部３０及び出退操作機構部６０を制御するように構成されているとよい。
【００６９】
＜３．基板載置装置の動作＞
次に、上記基板載置装置１０の動作について説明する。ここでは、ステージ２０の一主面２０ａに対して、有機ＥＬ材料が塗布されていない基板９０が載置され、この基板９０に対して塗布処理を施した後、有機ＥＬ材料が塗布された基板９０をステージ２０上から取り除くまでの工程を追って、基板載置装置１０の動作を説明する。
【００７０】
まず、基板載置装置１０の初期状態として、出退操作機構部６０の突き出し部材６２が退避位置に移動され（図７の実線部分参照）、複数のリフトピン４０が退避姿勢に維持されているものとする。また、ステージ２０の一主面２０ａには、基板９０が載置されていない状態である。
【００７１】
まず、ステージ動作機構部３０は、制御部８０からの移動信号を受けて、ステージ２０を受渡位置に移動させる（図４参照）。ステージ２０が受渡位置に移動されると、突き上げ補助部材７２は、突き上げ部材６２の開口を通じて、その両端部が押し上げ部６３の略直上（出退方向突出側）に配設される位置に配設される（図６参照）。この状態では、まだ、突き上げ補助部材７２と押し上げ部６３とは、出退方向において離間した位置に配設されている（図７参照）。
【００７２】
ステージ２０が受渡位置に移動されると、制御部８０から、出退操作機構部６０に対して突出操作する指令（出退駆動信号）が与えられ、突き上げ駆動部６４により突き上げ部材６２が出退方向突出側に向けて（図７の実線から二点差線に向けて）移動される。
【００７３】
突き上げ部材６２が出退方向突出側に向けて移動すると、まず押し上げ部６３が突き上げ補助部材７２の両端部下面（他主面）に当接する。その後、さらに突き上げ部材６２が突出側へ移動することにより、突き上げ補助部材７２の一主面が突き上げ部材６２の一主面と略面一になった状態で出退方向突出側に向けて移動される（図８参照）。
【００７４】
この移動途中において、突き上げ部材６２（及び突き上げ補助部材７２）が所定の位置まで移動されると、各ピン検知用センサ６８が対応するリフトピン４０（被検知部５９）を検知する。
【００７５】
さらに突き上げ部材６２が移動すると、突き上げ部材６２及び突き上げ補助部材７２は、複数のリフトピン４０のうちそれぞれ対応するリフトピン４０の基端部材５８に当接する。つまり、突き上げ部材６２は、第１の外側リフトピン及び第１の内側リフトピンに当接し、突き上げ補助部材７２は、第２の外側リフトピン（外側補助リフトピン４２ａ）及び第２の内側リフトピン（内側補助リフトピン４４ａ）に当接する。この状態で、制御部８０は、ピン検知用センサ６８の出力によりリフトピン４０が出退操作されていることを検出することができる。
【００７６】
ここからさらに突き上げ部材６２が移動すると、複数のリフトピン４０は、そのピン部５２の先端部がステージ２０の一主面２０ａから徐々に突出していく。突き上げ部材６２が突き上げ位置まで移動されると、複数のリフトピン４０は突出姿勢に姿勢変更された状態となる（図９参照）。
【００７７】
複数のリフトピン４０が突出姿勢に姿勢変更された状態で、図示省略の移載部等により、ステージ２０上、つまり、ステージ２０の一主面２０ａから突出している複数のリフトピン４０のピン部５２の先端部上に、基板９０が載置される。ここで、基板９０とステージ２０との間には、出退方向においてリフトピン４０のピン部５２の突出寸法分の空間が空けられている。そして、基板９０が載置される際に、基板９０を保持する前記移載部のハンド等の一部が一旦前記空間に進入し、その後、保持を解除して前記空間から退避する。また、基板９０は、その中心位置が出退方向においてステージ２０の中心位置と略一致する位置で、かつ、各辺がステージ２０の各辺と略平行になる姿勢で載置されるとよい。
【００７８】
また、前記移載部が退避すると、制御部８０から出退操作機構部６０に対して退避操作移動する信号が与えられ、突き上げ駆動部６４により突き上げ部材６２が出退方向退避側に向けて（図７の二点差線から実線に向けて）移動される。
【００７９】
突き上げ部材６２が出退方向退避側に向けて移動すると、突き上げ補助部材７２も押し上げ部６３に載置状に支持された状態で出退方向退避側に向けて移動される。これにより、ステージ２０の一主面２０ａから突出されていた複数のリフトピン４０のピン部５２が徐々に退避移動される。
【００８０】
そして、ピン部５２の先端がステージ２０の一主面２０ａと同一平面上に配設される位置まで退避移動されると、基板９０は、ステージ２０の一主面２０ａに対して載置される（図８参照）。この状態で、制御部８０は、突き上げ部材６２の位置（変位）とピン検知センサ６８の出力とから、リフトピン４０が退避姿勢に姿勢変更されたか否か検出することができる。
【００８１】
さらに突き上げ部材６２が移動されると、複数のリフトピン４０は、退避姿勢に姿勢変更される。
【００８２】
ここからさらに突き上げ部材６２が移動されると、突き上げ補助部材７２は移動下限位置で停止し、突き上げ部材６２の押し上げ部６３から離間する。そして、突き上げ部材６２は、退避位置にまで移動されて停止する（図７の実線部分参照）。
【００８３】
突き上げ部材６２が退避位置まで移動されると、ステージ動作機構部３０に対して、ステージ２０を処理位置に移動させる信号が与えられる。これにより、ステージ２０は、一主面２０ａに載置されている基板９０の処理位置側端部（或いは受渡位置側端部）がノズルユニット１１２の各ノズル１１２ａ〜１１２ｃの移動経路の略直下に配設される位置に移動される（図１参照）。なお、ステージ２０上に載置された基板９０の姿勢が有機ＥＬ材料を塗布する姿勢と異なる場合、旋回部３２によりステージ２０を（ここでは９０度）回転させて、基板９０を姿勢変更させるとよい。
【００８４】
ステージ２０が処理位置のうち上記位置に移動されると、ノズルユニット１１２が有機ＥＬ材料を吐出しつつガイド部材１１５に沿って一側方から他側方に向けて移動される。これにより、基板９０の処理位置側端部（或いは受渡位置側端部）に有機ＥＬ材料が塗布される。ノズルユニット１１２が基板９０の他側方に移動されると、制御部８０からステージ動作機構部３０に対して、ステージ２０を受渡位置側（或いは処理位置側）に向けて、ノズルユニット１１２による有機ＥＬ材料の塗布幅だけ移動させる指令（移動信号）が与えられる。ステージ２０が移動されると、ノズルユニット１１２が有機ＥＬ材料を吐出しつつ基板９０の他側方から一側方に向けて移動され、基板９０の一方側に移動されると上記と同様にステージ２０が受渡位置側（或いは処理位置側）に向けて移動される。
【００８５】
上記のようにして、基板９０の受渡位置側端部（或いは処理位置側端部）まで有機ＥＬ材料が塗布されると、有機ＥＬ材料の塗布工程は完了する。つまり、塗布工程完了時には、ステージ２０は、基板９０の受渡位置側端部（或いは処理位置側端部）がノズルユニット１１２の各ノズル１１２ａ〜１１２ｃの移動経路の略直下に配設される位置に配設されている。
【００８６】
この後、ステージ動作機構部３０に対して、ステージ２０を受渡位置に移動させる指令（移動信号）が与えられ、ステージ２０は受渡位置に移動される（図４参照）。
【００８７】
有機ＥＬ材料が塗布された基板９０が載置されたステージ２０が受渡位置に移動されると、上記と同様にして、複数のリフトピン４０が突出姿勢に姿勢変更され、基板９０が持ち上げられる（図８参照）。この状態で、移載機等により、基板９０とステージ２０との間の空間に移載機のハンド等が配設された状態で基板９０を保持し、ステージ２０上から基板９０が取除かれる。
【００８８】
そして、複数のリフトピン４０が突出姿勢の状態で、そのピン部５２の先端部上に、有機ＥＬ材料が塗布されていない基板９０が載置される。この後、上記動作が繰り返されて、基板９０に対する有機ＥＬ材料の塗布作業が繰り返される。
【００８９】
上記のように構成された基板載置装置１０によると、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で旋回部３２の移動軌跡３２ａ上に配設される位置に外側補助リフトピン４２ａ及び内側補助リフトピン４４ａが配設されている。そして、ステージ動作機構部３０に対して配設され、出退操作機構部６０の出退操作力に応じて移動される突き上げ補助部材７２により、外側補助リフトピン４２ａ及び内側補助リフトピン４４ａを出退操作可能に構成されている。これにより、ステージ２０の一主面２０ａに載置された基板９０のうち、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で旋回部３２の移動軌跡３２ａ上に配設される一辺部を突き上げることができ、大盤な基板９０を扱う場合であっても、たわみを抑制しつつ持ち上げることができる。また、移動するステージ２０に対して突き上げ補助部材７２を出退操作するための駆動源を別途設けることを省略でき、ステージ２０の負荷を軽減して耐久性を向上させると共に、装置の簡略化を図ることができる。
【００９０】
また、突き上げ補助部材７２が、出退操作機構部６０との重複部分、つまり、押し上げ部６３に載置された状態で出退方向に移動されることにより、複数のリフトピン４０のうち外側補助リフトピン４２ａ及び内側補助リフトピン４４ａが出退操作される。このため、移動するステージ２０に対して突き上げ補助部材７２を出退操作するための伝達機構を別途設けることを省略でき、ステージ２０の負荷を軽減して耐久性を向上させると共に、装置の簡略化を図ることができる。
【００９１】
また、突き上げ補助部材７２は、出退操作機構部６０が出退操作されると、突き上げ部材６２の押し上げ部６３と重複した両端部が支持された状態で出退方向に移動される。このため、突き上げ補助部材７２は、安定して出退方向に移動され、より正確に外側補助リフトピン４２ａ及び内側補助リフトピン４４ａを出退操作することができる。
【００９２】
また、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で旋回部３２の移動軌跡３２ａ上に配設される位置のうち、ステージ２０上に載置される基板９０の周縁部に沿った位置だけでなく、その内周側の位置にも内側補助リフトピン４４ａが配設されているため、基板９０の中央部付近のたわみを抑制して基板９０を持ち上げることができる。
【符号の説明】
【００９３】
１０ 基板載置装置
２０ ステージ
３０ ステージ動作機構部
３２ 旋回部
３６ 移動部
４０ リフトピン
４２ 外側リフトピン
４２ａ 外側補助リフトピン
４４ 内側リフトピン
４４ａ 内側補助リフトピン
６０ 出退操作機構部
６２ 突き上げ部材
６３ 押し上げ部
７２ 突き上げ補助部材
９０ 基板
【技術分野】
【０００１】
有機ＥＬ材料等を基板に塗布する装置において基板を搬出入可能に支持する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ材料等をガラス基板、プラスチック基板等の基板の主面に対して塗布する処理は、基板をステージ上に載置した状態で行われることがある。一般的に、基板に対する処理を施す工程と基板をステージ上に搬入／搬出する工程とは異なる位置（処理位置、搬入／搬出位置）で行われることが多く、この場合、ステージが搬入／搬出位置と処理位置との間を移動可能に構成される。
【０００３】
そして、ステージに対する基板の載置又は取除き作業をロボット等の移載機を用いて行う場合、基板の下方空間に基板保持用のハンド等が進入可能なように、基板がステージ上から持ち上げられているとよい。このような基板載置装置として、特許文献１に開示のものがある。特許文献１に係る基板載置装置は、基板を載置して搬入／搬出位置と処理位置との間を移動するステージの上面に対して、昇降可能にピン機構が設けられ、このピン機構を上下駆動部による突き上げ板の上下駆動により昇降させ、ステージから基板を持ち上げるように構成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−１７９５７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１では、ステージが搬入／搬出位置と処理位置との間で移動可能であるのに対して、突き上げ板は搬入／搬出位置に配設されている。そして、突き上げ板は、ステージを支持する旋回部との接触を避けながら、ピン機構の下部空間に配置可能なように、搬入／搬出位置から処理位置に向けて開口するコの字型に形成されている。つまり、ステージのうち、突き上げ板のコの字型の開口に相当する部分では、ピン機構を設けたとしても昇降させることができない。このため、大盤な基板を扱う場合、特許文献１に係る基板載置装置では、基板を持ち上げる際に、ピン機構が当接しない上記部分で基板にたわみが発生する恐れがあった。
【０００６】
そこで、本発明は、たわみを抑制しつつ基板を持ち上げることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
第１の態様に係る基板載置装置は、基板を載置可能なステージと、前記ステージを支持するステージ支持部を有し、前記ステージ及び前記ステージ支持部を受渡位置と処理位置との間で移動可能なステージ動作機構部と、前記ステージが前記受渡位置に移動された状態で前記ステージ支持部の移動軌跡上に配設される位置に配設されている補助リフトピンを含み、前記ステージ上に載置される前記基板の周縁部に沿った位置に、前記ステージ上面に対して出退可能に配設された複数のリフトピンと、前記受渡位置に配設され、前記ステージが前記受渡位置に移動された状態で、前記複数のリフトピンのうち前記補助リフトピンを含まない第１のリフトピンを出退操作可能な出退操作機構部と、前記ステージ動作機構部に対して、前記複数のリフトピンのうち前記第１のリフトピンを除く第２のリフトピンに対向する位置に、出退方向に移動可能に配設され、前記ステージが前記受渡位置に移動された状態で、前記出退操作機構部の出退操作力に応じて前記出退方向に移動される突き上げ補助部材と、を備えている。
【０００８】
第２の態様に係る基板載置装置は、第１の態様に係る基板載置装置であって、前記突き上げ補助部材は、前記ステージが前記受渡位置に移動された状態で、前記複数のリフトピンの出退方向において前記出退操作機構部に対して一部重複し、前記出退操作機構部との重複部分に押し上げられた状態で前記出退方向に移動される。
【０００９】
第３の態様に係る基板載置装置は、第１又は第２の態様に係る基板載置装置であって、前記出退操作機構部は、前記受渡位置から前記処理位置に向けて開口し、前記ステージが前記受渡位置に移動された状態で前記ステージ支持部の三方を囲む形状に形成されている突き上げ部材を有し、前記突き上げ補助部材は、前記突き上げ部材の開口幅より長尺に形成されると共に、前記ステージが前記受渡位置に移動された状態で、前記突き上げ部材の開口に対応する位置で、長手方向両端部が前記出退方向において前記突き上げ部材と重複するように配設されている。
【００１０】
第４の態様に係る基板載置装置は、第１〜第３の態様のいずれか一態様に係る基板載置装置であって、前記補助リフトピンより内周側の位置に、前記ステージが受渡位置に移動された状態で前記ステージ支持部の移動軌跡上に配設される内側補助リフトピンをさらに備え、前記突き上げ補助部材は、前記第２のリフトピン及び前記内側補助リフトピンに対向可能に形成されている。
【発明の効果】
【００１１】
第１の態様に係る基板載置装置によると、ステージが受渡位置に移動された状態でステージ支持部の移動軌跡上に配設される位置に補助リフトピンが配設されている。そして、ステージ動作機構部に対して配設され、出退操作機構部の出退操作力に応じて移動される突き上げ補助部材により、補助リフトピンを出退操作可能に構成されている。これにより、ステージ上に載置された基板のうち、ステージが受渡位置に移動された状態でステージ動作機構部の移動軌跡上に配設される一辺部を突き上げることができ、大盤な基板を扱う場合であっても、たわみを抑制しつつ持ち上げることができる。また、移動するステージに対して突き上げ補助部材を出退操作するための駆動源を別途設けることを省略でき、ステージの負荷を軽減して耐久性を向上させると共に、装置の簡略化を図ることができる。
【００１２】
第２の態様に係る基板載置装置によると、突き上げ補助部材が、出退操作機構部との重複部分に載置された状態で出退方向に移動されることにより、複数のリフトピンのうち第２のリフトピンが出退操作される。このため、移動するステージに対して突き上げ補助部材を出退操作するための伝達機構を別途設けることを省略でき、ステージの負荷を軽減して耐久性を向上させると共に、装置の簡略化を図ることができる。
【００１３】
第３の態様に係る基板載置装置によると、突き上げ補助部材は、出退操作機構部が出退操作されると、突き上げ部材と重複した両端部が突き上げ部材に支持された状態で出退方向に移動される。このため、突き上げ補助部材は、安定して出退方向に移動され、より正確にリフトピンを出退操作することができる。
【００１４】
第４の態様に係る基板載置装置によると、ステージが受渡位置に移動された状態でステージ支持部の移動軌跡上に配設される位置のうち、ステージ上に載置される基板の周縁部に沿った位置だけでなく、その内周側の位置にも内側補助リフトピンが配設されているため、基板の中央部付近のたわみを抑制して基板を持ち上げることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】処理位置における有機ＥＬ表示装置の製造装置の概略平面図である。
【図２】処理位置における有機ＥＬ表示装置の製造装置の概略正面図である。
【図３】ステージが処理位置に移動された基板載置装置の概略側面図である。
【図４】ステージが受渡位置に移動された基板載置装置の概略側面図である。
【図５】リフトピンの構造を示す図である。
【図６】リフトピンと突き上げ部材及び突き上げ補助部材との関係を示す平面図である。
【図７】出退操作機構部と突き上げ補助部材との関係を示す図である。
【図８】出退操作機構部が突き上げ補助部材を支持した状態を示す図である。
【図９】リフトピンが突出姿勢に姿勢変更された状態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、実施形態に係る基板載置装置について説明する。一般的に、本基板載置装置は、ガラス基板、プラスチック基板等の基板に対して諸処理を施す装置に組込まれる。ここでは、基板載置装置が有機ＥＬ表示装置の製造装置に組込まれる例を用いて説明する。
【００１７】
＜１．有機ＥＬ表示装置の製造装置の概略＞
まず、説明の便宜上、有機ＥＬ表示装置の製造装置１００について、その一例を挙げて説明する（図１、図２参照）。有機ＥＬ表示装置の製造装置１００は、有機ＥＬ材料を、ガラス又は透明のプラスチック等により形成されている（ここでは、略矩形に形成されている）基板９０に対して、所定のパターン形状で塗布して、有機ＥＬ表示装置を製造するための装置である。
【００１８】
有機ＥＬ表示装置の製造装置１００は、基板載置装置１０及び有機ＥＬ塗布機構１１０を備えている。有機ＥＬ塗付機構１１０は、ノズルユニット１１２、ノズル移動機構部１１４及び受液部１１８を有している。ノズルユニット１１２は、赤、緑及び青の有機ＥＬ材料をそれぞれ吐出するノズル１１２ａ〜１１２ｃを有している。各ノズル１１２ａ〜１１２ｃに対しては、それぞれ図示省略の供給部から各色の有機ＥＬ材料が供給される。また、ノズル移動機構部１１４は、ノズルユニット１１２を、ガイド部材１１５に沿って一方向に移動可能に構成されている。また、受液部１１８は、基板９０の端部或いはその側方位置で、ノズルユニット１１２から基板９０下方に落下する有機ＥＬ材料を受けるように、ノズルユニット１１２の移動経路に対応して、ステージ２０両側方の位置に配設されている。
【００１９】
そして、ノズルユニット１１２が各ノズル１１２ａ〜１１２ｃから有機ＥＬ材料を吐出した状態で、ノズル移動機構部１１４によりガイド部材１１５に沿って移動されると、基板９０の一主面に対して、有機ＥＬ材料がノズルユニット１１２の移動方向に沿ってストライプ状に塗布される。また、順次、基板９０をノズルユニット１１２の移動方向と略直交する方向に沿って移動させ、上記と同様に有機ＥＬ材料の塗布作業を行うことにより、基板９０の一主面全体（或いは所定の箇所）に対して有機ＥＬ材料を塗布することができる。
【００２０】
もっとも、本実施形態に係る基板載置装置１０は、上記有機ＥＬ表示装置の製造装置１００に組込まれる場合に限られるものではなく、上記とは異なる構成の有機ＥＬ表示装置の製造装置、また、基板に対する諸処理を施すための各種装置に適用することができる。
【００２１】
＜２．基板載置装置の構成＞
次に、本実施形態に係る基板載置装置１０の構成について説明する（図３、図４参照）。
【００２２】
基板載置装置１０は、ステージ２０と、ステージ動作機構部３０と、リフトピン４０と、突き上げ部材６２を有する出退操作機構部６０と、突き上げ補助部材７２とを備えている。
【００２３】
ステージ２０は、基板９０を載置可能に形成されている。より具体的には、ステージ２０は、略矩形の板状で、その一主面２０ａに基板９０を載置可能に形成されている。また、ステージ２０の内部には、有機ＥＬ材料が塗付された基板９０に対して予備加熱処理等を施すことが可能なように、図示省略の加熱機構が設けられていてもよい。さらに、ステージ２０には、後述するリフトピン４０のピン部５２を挿通可能な孔部２２が形成されている。
【００２４】
ステージ動作機構部３０は、ステージ２０を支持するステージ支持部を有し、ステージ２０及びステージ支持部を受渡位置と処理位置との間で移動可能に構成されている。ここでは、ステージ支持部は、旋回部３２により構成されている。上記受渡位置とは、ロボット等の移載機により、ステージ２０上に対して、基板９０を載置、取除きするための位置である。また、処理位置とは、ここでは、ノズルユニット１１２により吐出される有機ＥＬ材料を、ステージ２０に載置された基板９０に対して塗付する位置である。この処理位置は、ステージ２０の一主面２０ａに対して略平行な方向のうちノズル移動機構部１１４によるノズルユニット１１２の移動方向に略直交する方向（図１の上下方向）において、基板９０の一端部に塗布する位置から他端部に塗布する位置までの範囲の位置である。
【００２５】
ここでは、ステージ動作機構部３０は、自走式の移動機構を採用しており、旋回部３２が取り付けられた移動部３６が、ガイドレール３８に沿って移動するように構成されている。つまり、ステージ２０、旋回部３２及び移動部３６が一体となって受渡位置と処理位置との間で移動する構成である。
【００２６】
ガイドレール３８は、受渡位置と処理位置との間を結ぶ（ここでは、略直線上に結ぶ）ように敷設されている。より具体的には、ガイドレール３８の敷設方向は、有機ＥＬ材塗布機構１１０のノズルユニット１１２の移動方向（ガイド部材１１５の敷設方向）と略直交する方向である。
【００２７】
移動部３６は、ガイドレール３８に沿ってその上を滑動可能に形成されたガイド受け部３７と、図示省略の駆動機構とを有している。そして、移動部３６は、この駆動機構の駆動により、ガイド受け部３７がガイドレール３８上を滑動して、旋回部３２及びステージ２０を受渡位置と処理位置との間で移動させる。この移動部３６の駆動機構としては、例えば、駆動用モータと車輪を設け、駆動用モータにより車輪を駆動する構成を採用することができる。
【００２８】
もっとも、ステージ動作機構部３０の移動部３６は、上記自走式の構成に限られず、リニアモータ、油圧／エアシリンダ等を採用し、ステージ支持部としての旋回部３２及びステージ２０を受渡位置と処理位置との間で移動させる構成であってもよい。
【００２９】
また、旋回部３２は、ステージ２０を、その一主面２０ａに略直交する中心軸周りに旋回可能に支持した状態で、移動部３６に対して取り付けられている（図１〜４参照）。より具体的には、旋回部３２は、ステージ２０を、その一主面２０ａが略水平となる姿勢で支持するように構成されている。旋回部３２としては、例えば、２部材をモータにより相対回転駆動可能に連結した構成を採用することができる。
【００３０】
この旋回部３２には、平面視において、ステージ２０より小さいものが採用されている（図６参照）。すなわち、平面視において、ステージ２０のうち、旋回部３２に取り付けられている部分の周りの部分に、後述する複数のリフトピン４０を配設するためのスペースが確保されている。
【００３１】
そして、旋回部３２は、ステージ２０の一主面２０ａに載置された基板９０が、載置、取除きされる姿勢と有機ＥＬ材料が塗布される姿勢とが異なる場合等に、ステージ２０を回転駆動して（例えば、９０度回転させる）、基板９０の姿勢を変更する。
【００３２】
また、上記ステージ２０には、その一主面２０ａに対して突出、退避（以下、出退）可能にリフトピン４０が複数配設されている。
【００３３】
より具体的には、リフトピン４０は、ステージ２０の一主面２０ａとは反対側の他主面に対して取り付けられ、ステージ２０の他主面側から一主面２０ａ側に貫通するように形成された孔部２２を通じて、一主面２０ａに対して出退するように構成されている。リフトピン４０は、ピン部５２と、支持部５４と、ブッシュ５５と、付勢部材５６と、基端部材５８とを有している（図５参照）。
【００３４】
支持部５４は、中心に貫通孔５４ａが形成され、この貫通孔５４ａと上記ステージ２０の孔部２２との軸方向が略一致する姿勢で、ステージ２０の一主面２０ａとは反対側の他主面に対してネジ止め等により固定されている。また、支持部５４の貫通孔５４ａ内には、ブッシュ５５が配設されている。そして、このブッシュ５５内には、長尺棒状に形成されたピン部５２が、ステージ２０の一主面２０ａに対して略直交する方向に沿って出退移動可能に配設されている。このピン部５２の移動方向を出退方向とする。ここでは、ピン部５２の先端部は、ステージ２０の孔部２２内に配設されている。ピン部５２の基端部には、基端部材５８が固定されている。この基端部材５８と支持部５４との間には付勢部材５６が圧縮状態で配設されている。つまり、ピン部５２は、付勢部材５６により出退方向退避側に付勢されている。基端部材５８は、後述する出退操作機構部６０の突き上げ部材６２の一主面に略直交方向に当接可能に構成されている。ここでは、基端部材５８は、リフトピン４０の基端側に向けて突出するように配設された４本のネジを有しており、その端部が同時に突き上げ部材６２及び突き上げ補助部材７２の一主面に当接するように突出量を調節可能に構成されている。さらに、基端部材５８には、後述する被検知部５９が配設されている。
【００３５】
そして、リフトピン４０は、基端部材５８に対して、出退方向突出側に向けて外力が加えられない状態では、付勢部材５６の付勢力によりピン部５２の先端部がステージ２０の孔部２２内に配設された退避姿勢に維持される。また、リフトピン４０は、基端部材５８に対して、出退方向突出側に向けて付勢部材５６の付勢力より大きい外力が加えられると、ピン部５２の先端部がステージ２０の一主面２０ａから突出した突出姿勢に姿勢変更される。このリフトピン４０の出退操作は、後述する出退操作機構部６０及び突き上げ補助部材７２により行われる。
【００３６】
また、複数のリフトピン４０は、外側リフトピン４２と、内側リフトピン４４とに区別される。
【００３７】
外側リフトピン４２は、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で旋回部３２の移動軌跡３２ａ上に配設される位置に配設されている外側補助リフトピン４２ａを含み、ステージ２０上に載置される基板９０の周縁部に沿った位置に複数配設されている（図６参照）。
【００３８】
より具体的には、外側リフトピン４２は、ステージ２０の各辺に平行な辺を有しステージ２０より小さい（外側）仮想四角形の頂点又は辺上に、それぞれの中心軸が位置するように配設されている。ここでは、外側リフトピン４２は、前記（外側）仮想四角形の各頂点及び各辺の略中心にそれぞれの中心軸が位置するように８個配設されている。また、複数の外側リフトピン４２のうち、（外側）仮想四角形の処理位置側の一辺の略中心に配設されている一個のリフトピン４０が外側補助リフトピン４２ａである。
【００３９】
もっとも、複数の外側リフトピン４２の配設態様は、上記態様に限られない。例えば、外側リフトピン４２は、上記の配設態様から、ステージ２０のうち受渡位置と処理位置とを結ぶ方向に沿った辺部の中心に配設されたリフトピン４０を省略した態様であってもよい。また、各辺部の中途部にリフトピン４０を２個ずつ配設し、２個の外側補助リフトピン４２ａを含む１２個の外側リフトピン４２を配設してもよい。
【００４０】
内側リフトピン４４は、外側リフトピン４２より内周側の位置に複数配設されている（図６参照）。また、内側リフトピン４４は、外側補助リフトピン４２ａより内周側の位置に、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で旋回部３２の移動軌跡上に配設されている内側補助リフトピン４４ａを含んでいる。ここで、外側リフトピン４２より内周側（外側補助リフトピン４２ａより内周側）の位置とは、外側リフトピン４２（外側補助リフトピン４２ａ）に対して、ステージ２０の中心からの距離が近い位置である。
【００４１】
より具体的には、内側リフトピン４４は、複数の外側リフトピン４２の中心軸が位置する（外側）仮想四角形より小さい（内側）仮想四角形の頂点又は辺上に、それぞれの中心軸が位置するように配設されている。ここでは、内側リフトピン４４は、（内側）仮想四角形の各頂点にそれぞれの中心軸が位置するように４個配設されている。また、複数の内側リフトピン４４のうち、（内側）仮想四角形の処理位置側の２つの頂点位置に配設されている２個のリフトピン４０が内側補助リフトピン４４ａである。
【００４２】
もっとも、複数の内側リフトピン４４の配設態様は、上記態様に限られない。例えば、内側リフトピン４４は、上記受渡位置と処理位置とを結ぶ方向に沿って、旋回部３２を挟んだ位置に一つずつ配設されてもよいし、上記（内側）仮想四角形の各頂点に加え、各辺の略中心に配設されていてもよい。
【００４３】
上記複数のリフトピン４０は、ステージ２０の各辺に平行でかつステージ２０の中心を通る２本の仮想線それぞれについて、略線対称に配設されているとよい。
【００４４】
出退操作機構部６０は、受渡位置に配設され、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で、複数の外側リフトピン４２のうち外側補助リフトピン４２ａを含まない第１の外側リフトピンと複数の内側リフトピン４４のうち内側補助リフトピン４４ａを含まない第１の内側リフトピンとを出退操作可能に構成されている（図３、図４参照）。第１の外側リフトピン４０とは、外側補助リフトピン４２ａを含まない任意の個数の外側リフトピン４２であればよいが、ここでは、複数の外側リフトピン４２のうち、外側補助リフトピン４２ａを除く外側リフトピン４２全てをいう。また、第１の内側リフトピンとは、ここでは、複数の内側リフトピン４４のうち、内側補助リフトピン４４ａを除く内側リフトピン４４全てをいう。以下、この例で説明する。この出退操作機構部６０は、板状の突き上げ部材６２と突き上げ駆動部６４とを有している。
【００４５】
突き上げ駆動部６４は、受渡位置に配設され、突き上げ部材６２を、リフトピン４０の出退方向に沿って突き上げ位置と退避位置との間で移動駆動可能に構成されている。より具体的には、突き上げ駆動部６４は、突き上げ部材６２の一主面がリフトピン４０の出退方向に略直交する姿勢で、移動駆動可能である。例えば、突き上げ駆動部６４には、エアシリンダ、モータとカム等の伝達機構とを有する構成等を採用することができる。この突き上げ駆動部６４は、ステージ動作機構部３０の移動部３６の移動経路と干渉しないように配設されている（図６参照）。ここでは、突き上げ駆動部６４は、後述する突き上げ部材６２のうち、受渡位置と処理位置とを結ぶ方向に略直交する方向において、旋回部３２の両側に離間して４箇所に配設されている。
【００４６】
突き上げ部材６２は、受渡位置から処理位置に向けて開口し、ステージ２０が受渡位置に移動された状態でステージ支持部としての旋回部３２の三方を囲む形状に形成されている（図６参照）。より具体的には、この突き上げ部材６２は、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で、第１の外側リフトピン及び第１の内側リフトピンそれぞれに対して、その退避側位置（ここでは、略直下の位置）に対応して各部が配設されるように形成されている。つまり、突き上げ部材６２の形状は、突き上げ駆動部６４により、リフトピン４０の出退方向突出側に向けて移動された際に、第１の外側リフトピン及び第１の内側リフトピンのそれぞれの基端部材５８に対して当接可能な形状である。また、突き上げ部材６２は、受渡位置に移動されたステージ２０の旋回部３２に干渉しない形状に形成されている。
【００４７】
ここでは、突き上げ部材６２は、受渡位置から処理位置に向けて開口する略Ｕ字形状に形成されている。そして、内側リフトピン４４のうちの受渡位置側に配設された２つ（つまり第１の内側リフトピン）に対応する位置で、この略Ｕ字の底部の２箇所から処理位置側に向けて突出するように形成されている。そして、この２箇所の突出部分の間には、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で、旋回部３２の周縁部の一部が配設される（図６参照）。
【００４８】
また、突き上げ部材６２は、リフトピン４０を検知可能なピン検知用センサ６８を有している（図５参照）。ピン検知用センサ６８は、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で、リフトピン４０の位置或いは状態を検知可能であり、この検知信号を後述する制御部８０に出力可能に構成されている。このピン検知用センサ６８としては、例えば、赤外線センサ、超音波センサ、静電容量センサ等を採用することができる。
【００４９】
このピン検知用センサ６８は、突き上げ部材６２の一主面に対して、受渡位置に移動されたステージ２０に配設されている第１の外側リフトピン及び第１の内側リフトピンそれぞれに対向する位置に、複数配設されている。なお、リフトピン４０の基端部材５８には、ピン検知用センサ６８に対する検知対象部分としての被検知部５９が、その検知面をリフトピン４０の出退方向退避側（下方）に向けて配設されている。つまり、複数のピン検知用センサ６８は、第１の外側リフトピン及び第１の内側リフトピンそれぞれの被検知部５９と対向する位置に配設されている。そして、ピン検知用センサ６８は、突き上げ部材６２が退避位置から突き上げ位置側に移動され、被検知部５９との距離が予め設定された距離以下になると、当該距離を検知可能に構成されている。このピン検知用センサ６８は、後述する突き上げ補助部材７２にも、対応するリフトピン４０の被検知部５９と対向するように配設されているとよい。
【００５０】
また、ここでは、突き上げ部材６２は、リフトピン４０の出退方向に移動操作される際に、後述する突き上げ補助部材７２を押動可能な押し上げ部６３を有している。押し上げ部６３の構成については、突き上げ補助部材７２の説明と共に後述する。
【００５１】
突き上げ補助部材７２は、第１の外側リフトピンを除く第２の外側リフトピン４０及び第１の内側リフトピンを除く第２の内側リフトピンに対向可能な形状に形成されている。なお、ここでは、第２の外側リフトピンとは外側補助リフトピン４２ａをいい、第２の内側リフトピンとは内側補助リフトピン４４ａをいう。より具体的には、突き上げ補助部材７２は、一主面が外側補助リフトピン４２ａ及び内側補助リフトピン４４ａに対向可能な板状に形成されている。
【００５２】
もっとも、突き上げ補助部材７２は、外側補助リフトピン４２ａ及び内側補助リフトピン４４ａ以外のリフトピン４０に対しても対向可能な形状に形成されていてもよい。すなわち、突き上げ補助部材７２は、少なくとも、外側補助リフトピン４２ａ及び内側補助リフトピン４４ａに当接して突き上げ可能であればよく、突き上げ部材６２が突き上げしないリフトピン４０に対して対向するように形成されているとよい。
【００５３】
そして、この突き上げ補助部材７２は、ステージ動作機構部３０（ここでは、移動部３６）に対して取付けられている。つまり、突き上げ補助部材７２は、ステージ動作機構部３０により、ステージ２０と共に受渡位置と処理位置との間で移動可能に構成されている。また、突き上げ補助部材７２は、複数のリフトピン４０のうち第２の外側リフトピン４０（外側補助リフトピン４２ａ）及び第２の内側リフトピン（内側補助リフトピン４４ａ）に対向する位置に、出退方向に移動可能に配設されている。より具体的には、突き上げ補助部材７２は、その一主面がリフトピン４０の出退方向と略直交する姿勢で移動可能に配設されている。ここでは、突き上げ補助部材７２は、移動部３６に対してリフトピン４０の出退方向に沿って延びるように配設された略棒状の支持部７６に対して、その長手方向に沿って突き上げ位置と退避位置との間で移動可能に支持されている（図７参照）。例えば、突き上げ補助部材７２は、支持部７６を内孔に挿通した状態で摺動可能な直線運動軸受を有しているとよい。
【００５４】
また、突き上げ補助部材７２は、ステージ２０と共に受渡位置に移動された状態で、出退操作機構部６０の出退操作力に応じて出退方向に移動されるように構成されている。より具体的には、突き上げ補助部材７２は、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で、複数のリフトピン４０の出退方向において出退操作機構部６０に対して平面視一部重複し、出退操作機構部６０との重複部分に押し上げられた状態で出退方向に移動される。ここでは、突き上げ補助部材７２は、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で、前突き上げ部材６２の開口に対応する位置で、長手方向両端部が出退方向において突き上げ部材６２と重複するように配設されている（図６、図７参照）。
【００５５】
すなわち、上記突き上げ部材６２の押し上げ部６３は、出退操作機構部６０による出退操作の際に、突き上げ補助部材７２を、部分的に（ここでは長手方向両端部を）載置状に支持して押し上げ可能に構成されている。より具体的には、押し上げ部６３は、リフトピン４０の出退方向に略直交し、その突出側に向かう押し上げ面を有している。ここでは、押し上げ部６３は、突き上げ部材６２の略Ｕ字形状の対向部分の開口側一部からその対向方向内側に向けて互いに突出するように一対配設されている。
【００５６】
これに対して、突き上げ補助部材７２は、突き上げ部材６２の開口幅より長尺に形成されている。ここで、上記突き上げ部材６２の開口幅とは、押し上げ部６３同士の間隔をいう。つまり、突き上げ補助部材７２は、その両端部が、一対の押し上げ部６３の押し上げ面に対して平面視重複するように形成されていればよい。より具体的には、突き上げ補助部材７２の長手方向寸法は、一対の押し上げ部６３の間の寸法より大きく、かつ、突き上げ部材６２の略Ｕ字形状の対向する２片間の寸法より小さく（ここでは僅かに小さく）設定されている。
【００５７】
また、突き上げ補助部材７２は、突き上げ部材６２の板厚と略同厚に形成されている。つまり、突き上げ補助部材７２が突き上げ部材６２の押し上げ部６３に支持された状態で、突き上げ補助部材７２の一主面と突き上げ部材６２の一主面とは、略面一になるように構成されている（図７の二点鎖線部分参照）。これにより、ステージ２０が旋回部３２により旋回された場合にも、複数のリフトピン４０に対して同時に当接して突き上げることができる。
【００５８】
そして、突き上げ補助部材７２は、リフトピン４０が突出する向きに外力が加えられない状態では、リフトピン４０の基端部材５８に当接しないと共に、突き上げ部材６２の押し上げ部６３に対して出退方向突出側に離間した位置に維持される。ここでは、この位置は、突き上げ補助部材７２の出退方向退避側の一部が突き上げ部材６２の開口間に配設される位置である。また、突き上げ補助部材７２は、突き上げ駆動部６４により突き上げ部材６２が出退方向突出側に移動されると、突き上げ部材６２の開口間に配設されると共に、その両端部が押し上げ部６３の押し上げ面上に載置状に支持された状態で、突出移動される。
【００５９】
このように、外側補助リフトピン４２ａ及び内側補助リフトピン４４ａを出退操作する機構をステージ動作機構部３０の移動部３６に配設しないため、その移動操作に掛かる負荷を小さくすることができる。
【００６０】
上記突き上げ部材６２と突き上げ補助部材７２とは、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で、複数のリフトピン４０に対応してステージ動作機構部３０の旋回部３２の四方を囲むように配設される。
【００６１】
もっとも、突き上げ部材６２の押し上げ部６３は、開口の内側に向けて突出する構成に限られるものではない。例えば、押し上げ部６３は、突き上げ部材６２の略Ｕ字形状の対向部分の先端側部分で、その一主面を押し上げ面とする構成であってもよい。また、当該対向部分の先端側部分に、突き上げ補助部材７２の両端部をそれぞれ配設可能な凹部が形成され、凹部の底面を押し上げ面とする構成であってもよい。
【００６２】
また、突き上げ部材６２と突き上げ補助部材７２とは、上記形状の組合せに限られるものではない。例えば、突き上げ部材と突き上げ補助部材とは、略Ｌ字部材同士の組合せ、略Ｃ字部材とその開口に対応する弧状部材との組合せでもよい。また、突き上げ補助部材が略Ｕ字形状に形成され、突き上げ部材がその開口に対応した長尺板状に形成されていてもよい。ただし、これらの組合せは、少なくとも、突き上げ補助部材７２が外側補助リフトピン４２ａ及び内側補助リフトピン４４ａに対向する位置に配設されていることを前提とするものである。
【００６３】
また、突き上げ部材６２と突き上げ補助部材７２とは、ステージ２０が旋回部３２により姿勢変更された（例えば９０度回転駆動された）状態でも、複数のリフトピン４０に対向し、突き上げ可能であるとよい。
【００６４】
上記ステージ動作機構部３０及び出退操作機構部６０は、図示省略の制御部８０の制御指令に従って動作するように構成されている（図３参照）。制御部８０は、図示省略のＣＰＵ、ＲＡＭ、ＲＯＭ、入力部、入出力回路等を有する一般的なコンピュータである。
【００６５】
制御部８０は、ステージ動作機構部３０に対して、ステージ２０を受渡位置と処理位置との間で移動させる移動信号を出力可能に構成されている。また、制御部８０は、ステージ動作機構部３０に対して、旋回部３２によりステージ２０を回転駆動し、姿勢変更させる旋回信号を出力可能に構成されている。例えば、制御部８０は、ステージ２０に対して基板９０が載置された後にステージ２０を旋回、又は、受渡位置から処理位置に移動すると共に、ステージ２０に載置された基板９０に対する有機ＥＬ材料の塗布作業が終了した後に処理位置から受渡位置に移動するように制御するように構成されているとよい。
【００６６】
また、制御部８０は、出退操作機構部６０の突き上げ駆動部６４に対して、突き上げ部材６２を突き上げ位置と退避位置との間で移動させる出退駆動信号を出力可能に構成されている。例えば、制御部８０は、受渡位置に移動されたステージ２０に対して基板９０が載置される際又は取除かれる際に、突き上げ部材６２を突き上げ位置に移動させると共に、その後、移載部等により基板９０が載置、取除きされると突き上げ部材６２を退避位置に移動させるように構成されている。
【００６７】
ここでは、制御部８０は、ピン検知用センサ６８から出力される検知信号を入力可能に図示省略のＡＤ変換機等を介して複数のピン検知用センサ６８に接続されている（図５参照）。そして、制御部８０は、ピン検知用センサ６８の出力により、リフトピン４０の被検知部５９との距離が所定の距離（つまり、突き上げ部材６２と基端部材５８が当接した状態におけるリフトピン４０の被検知部５９との距離）であると判断すると、リフトピン４０が出退操作状態にあることを検出するように構成されているとよい。また、制御部８０は、突き上げ駆動部６４の駆動による突き上げ部材６２の位置（変位）と各ピン検知用センサ６８の出力とから、各リフトピン４０が完全に突出姿勢或いは退避姿勢に姿勢変更されているかを検出可能に構成されているとよい。これにより、基板９０が持ち上げられていない状態での取除き動作、リフトピン４０が退避していない状態での有機ＥＬ塗布動作が行われることを事前に防止することができる。
【００６８】
また、この制御部８０は、ステージ２０に対して基板９０を載置、取除きする移載機及び有機ＥＬ塗布機構１１０の動作タイミングに応じてステージ動作機構部３０及び出退操作機構部６０を制御するように構成されているとよい。
【００６９】
＜３．基板載置装置の動作＞
次に、上記基板載置装置１０の動作について説明する。ここでは、ステージ２０の一主面２０ａに対して、有機ＥＬ材料が塗布されていない基板９０が載置され、この基板９０に対して塗布処理を施した後、有機ＥＬ材料が塗布された基板９０をステージ２０上から取り除くまでの工程を追って、基板載置装置１０の動作を説明する。
【００７０】
まず、基板載置装置１０の初期状態として、出退操作機構部６０の突き出し部材６２が退避位置に移動され（図７の実線部分参照）、複数のリフトピン４０が退避姿勢に維持されているものとする。また、ステージ２０の一主面２０ａには、基板９０が載置されていない状態である。
【００７１】
まず、ステージ動作機構部３０は、制御部８０からの移動信号を受けて、ステージ２０を受渡位置に移動させる（図４参照）。ステージ２０が受渡位置に移動されると、突き上げ補助部材７２は、突き上げ部材６２の開口を通じて、その両端部が押し上げ部６３の略直上（出退方向突出側）に配設される位置に配設される（図６参照）。この状態では、まだ、突き上げ補助部材７２と押し上げ部６３とは、出退方向において離間した位置に配設されている（図７参照）。
【００７２】
ステージ２０が受渡位置に移動されると、制御部８０から、出退操作機構部６０に対して突出操作する指令（出退駆動信号）が与えられ、突き上げ駆動部６４により突き上げ部材６２が出退方向突出側に向けて（図７の実線から二点差線に向けて）移動される。
【００７３】
突き上げ部材６２が出退方向突出側に向けて移動すると、まず押し上げ部６３が突き上げ補助部材７２の両端部下面（他主面）に当接する。その後、さらに突き上げ部材６２が突出側へ移動することにより、突き上げ補助部材７２の一主面が突き上げ部材６２の一主面と略面一になった状態で出退方向突出側に向けて移動される（図８参照）。
【００７４】
この移動途中において、突き上げ部材６２（及び突き上げ補助部材７２）が所定の位置まで移動されると、各ピン検知用センサ６８が対応するリフトピン４０（被検知部５９）を検知する。
【００７５】
さらに突き上げ部材６２が移動すると、突き上げ部材６２及び突き上げ補助部材７２は、複数のリフトピン４０のうちそれぞれ対応するリフトピン４０の基端部材５８に当接する。つまり、突き上げ部材６２は、第１の外側リフトピン及び第１の内側リフトピンに当接し、突き上げ補助部材７２は、第２の外側リフトピン（外側補助リフトピン４２ａ）及び第２の内側リフトピン（内側補助リフトピン４４ａ）に当接する。この状態で、制御部８０は、ピン検知用センサ６８の出力によりリフトピン４０が出退操作されていることを検出することができる。
【００７６】
ここからさらに突き上げ部材６２が移動すると、複数のリフトピン４０は、そのピン部５２の先端部がステージ２０の一主面２０ａから徐々に突出していく。突き上げ部材６２が突き上げ位置まで移動されると、複数のリフトピン４０は突出姿勢に姿勢変更された状態となる（図９参照）。
【００７７】
複数のリフトピン４０が突出姿勢に姿勢変更された状態で、図示省略の移載部等により、ステージ２０上、つまり、ステージ２０の一主面２０ａから突出している複数のリフトピン４０のピン部５２の先端部上に、基板９０が載置される。ここで、基板９０とステージ２０との間には、出退方向においてリフトピン４０のピン部５２の突出寸法分の空間が空けられている。そして、基板９０が載置される際に、基板９０を保持する前記移載部のハンド等の一部が一旦前記空間に進入し、その後、保持を解除して前記空間から退避する。また、基板９０は、その中心位置が出退方向においてステージ２０の中心位置と略一致する位置で、かつ、各辺がステージ２０の各辺と略平行になる姿勢で載置されるとよい。
【００７８】
また、前記移載部が退避すると、制御部８０から出退操作機構部６０に対して退避操作移動する信号が与えられ、突き上げ駆動部６４により突き上げ部材６２が出退方向退避側に向けて（図７の二点差線から実線に向けて）移動される。
【００７９】
突き上げ部材６２が出退方向退避側に向けて移動すると、突き上げ補助部材７２も押し上げ部６３に載置状に支持された状態で出退方向退避側に向けて移動される。これにより、ステージ２０の一主面２０ａから突出されていた複数のリフトピン４０のピン部５２が徐々に退避移動される。
【００８０】
そして、ピン部５２の先端がステージ２０の一主面２０ａと同一平面上に配設される位置まで退避移動されると、基板９０は、ステージ２０の一主面２０ａに対して載置される（図８参照）。この状態で、制御部８０は、突き上げ部材６２の位置（変位）とピン検知センサ６８の出力とから、リフトピン４０が退避姿勢に姿勢変更されたか否か検出することができる。
【００８１】
さらに突き上げ部材６２が移動されると、複数のリフトピン４０は、退避姿勢に姿勢変更される。
【００８２】
ここからさらに突き上げ部材６２が移動されると、突き上げ補助部材７２は移動下限位置で停止し、突き上げ部材６２の押し上げ部６３から離間する。そして、突き上げ部材６２は、退避位置にまで移動されて停止する（図７の実線部分参照）。
【００８３】
突き上げ部材６２が退避位置まで移動されると、ステージ動作機構部３０に対して、ステージ２０を処理位置に移動させる信号が与えられる。これにより、ステージ２０は、一主面２０ａに載置されている基板９０の処理位置側端部（或いは受渡位置側端部）がノズルユニット１１２の各ノズル１１２ａ〜１１２ｃの移動経路の略直下に配設される位置に移動される（図１参照）。なお、ステージ２０上に載置された基板９０の姿勢が有機ＥＬ材料を塗布する姿勢と異なる場合、旋回部３２によりステージ２０を（ここでは９０度）回転させて、基板９０を姿勢変更させるとよい。
【００８４】
ステージ２０が処理位置のうち上記位置に移動されると、ノズルユニット１１２が有機ＥＬ材料を吐出しつつガイド部材１１５に沿って一側方から他側方に向けて移動される。これにより、基板９０の処理位置側端部（或いは受渡位置側端部）に有機ＥＬ材料が塗布される。ノズルユニット１１２が基板９０の他側方に移動されると、制御部８０からステージ動作機構部３０に対して、ステージ２０を受渡位置側（或いは処理位置側）に向けて、ノズルユニット１１２による有機ＥＬ材料の塗布幅だけ移動させる指令（移動信号）が与えられる。ステージ２０が移動されると、ノズルユニット１１２が有機ＥＬ材料を吐出しつつ基板９０の他側方から一側方に向けて移動され、基板９０の一方側に移動されると上記と同様にステージ２０が受渡位置側（或いは処理位置側）に向けて移動される。
【００８５】
上記のようにして、基板９０の受渡位置側端部（或いは処理位置側端部）まで有機ＥＬ材料が塗布されると、有機ＥＬ材料の塗布工程は完了する。つまり、塗布工程完了時には、ステージ２０は、基板９０の受渡位置側端部（或いは処理位置側端部）がノズルユニット１１２の各ノズル１１２ａ〜１１２ｃの移動経路の略直下に配設される位置に配設されている。
【００８６】
この後、ステージ動作機構部３０に対して、ステージ２０を受渡位置に移動させる指令（移動信号）が与えられ、ステージ２０は受渡位置に移動される（図４参照）。
【００８７】
有機ＥＬ材料が塗布された基板９０が載置されたステージ２０が受渡位置に移動されると、上記と同様にして、複数のリフトピン４０が突出姿勢に姿勢変更され、基板９０が持ち上げられる（図８参照）。この状態で、移載機等により、基板９０とステージ２０との間の空間に移載機のハンド等が配設された状態で基板９０を保持し、ステージ２０上から基板９０が取除かれる。
【００８８】
そして、複数のリフトピン４０が突出姿勢の状態で、そのピン部５２の先端部上に、有機ＥＬ材料が塗布されていない基板９０が載置される。この後、上記動作が繰り返されて、基板９０に対する有機ＥＬ材料の塗布作業が繰り返される。
【００８９】
上記のように構成された基板載置装置１０によると、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で旋回部３２の移動軌跡３２ａ上に配設される位置に外側補助リフトピン４２ａ及び内側補助リフトピン４４ａが配設されている。そして、ステージ動作機構部３０に対して配設され、出退操作機構部６０の出退操作力に応じて移動される突き上げ補助部材７２により、外側補助リフトピン４２ａ及び内側補助リフトピン４４ａを出退操作可能に構成されている。これにより、ステージ２０の一主面２０ａに載置された基板９０のうち、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で旋回部３２の移動軌跡３２ａ上に配設される一辺部を突き上げることができ、大盤な基板９０を扱う場合であっても、たわみを抑制しつつ持ち上げることができる。また、移動するステージ２０に対して突き上げ補助部材７２を出退操作するための駆動源を別途設けることを省略でき、ステージ２０の負荷を軽減して耐久性を向上させると共に、装置の簡略化を図ることができる。
【００９０】
また、突き上げ補助部材７２が、出退操作機構部６０との重複部分、つまり、押し上げ部６３に載置された状態で出退方向に移動されることにより、複数のリフトピン４０のうち外側補助リフトピン４２ａ及び内側補助リフトピン４４ａが出退操作される。このため、移動するステージ２０に対して突き上げ補助部材７２を出退操作するための伝達機構を別途設けることを省略でき、ステージ２０の負荷を軽減して耐久性を向上させると共に、装置の簡略化を図ることができる。
【００９１】
また、突き上げ補助部材７２は、出退操作機構部６０が出退操作されると、突き上げ部材６２の押し上げ部６３と重複した両端部が支持された状態で出退方向に移動される。このため、突き上げ補助部材７２は、安定して出退方向に移動され、より正確に外側補助リフトピン４２ａ及び内側補助リフトピン４４ａを出退操作することができる。
【００９２】
また、ステージ２０が受渡位置に移動された状態で旋回部３２の移動軌跡３２ａ上に配設される位置のうち、ステージ２０上に載置される基板９０の周縁部に沿った位置だけでなく、その内周側の位置にも内側補助リフトピン４４ａが配設されているため、基板９０の中央部付近のたわみを抑制して基板９０を持ち上げることができる。
【符号の説明】
【００９３】
１０ 基板載置装置
２０ ステージ
３０ ステージ動作機構部
３２ 旋回部
３６ 移動部
４０ リフトピン
４２ 外側リフトピン
４２ａ 外側補助リフトピン
４４ 内側リフトピン
４４ａ 内側補助リフトピン
６０ 出退操作機構部
６２ 突き上げ部材
６３ 押し上げ部
７２ 突き上げ補助部材
９０ 基板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を載置可能なステージと、
前記ステージを支持するステージ支持部を有し、前記ステージ及び前記ステージ支持部を受渡位置と処理位置との間で移動可能なステージ動作機構部と、
前記ステージが前記受渡位置に移動された状態で前記ステージ支持部の移動軌跡上に配設される位置に配設されている補助リフトピンを含み、前記ステージ上に載置される前記基板の周縁部に沿った位置に、前記ステージ上面に対して出退可能に配設された複数のリフトピンと、
前記受渡位置に配設され、前記ステージが前記受渡位置に移動された状態で、前記複数のリフトピンのうち前記補助リフトピンを含まない第１のリフトピンを出退操作可能な出退操作機構部と、
前記ステージ動作機構部に対して、前記複数のリフトピンのうち前記第１のリフトピンを除く第２のリフトピンに対向する位置に、出退方向に移動可能に配設され、前記ステージが前記受渡位置に移動された状態で、前記出退操作機構部の出退操作力に応じて前記出退方向に移動される突き上げ補助部材と、
を備えている基板載置装置。
【請求項２】
請求項１記載の基板載置装置であって、
前記突き上げ補助部材は、前記ステージが前記受渡位置に移動された状態で、前記複数のリフトピンの出退方向において前記出退操作機構部に対して一部重複し、前記出退操作機構部との重複部分に押し上げられた状態で前記出退方向に移動される基板載置装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の基板載置装置であって、
前記出退操作機構部は、前記受渡位置から前記処理位置に向けて開口し、前記ステージが前記受渡位置に移動された状態で前記ステージ支持部の三方を囲む形状に形成されている突き上げ部材を有し、
前記突き上げ補助部材は、前記突き上げ部材の開口幅より長尺に形成されると共に、前記ステージが前記受渡位置に移動された状態で、前記突き上げ部材の開口に対応する位置で、長手方向両端部が前記出退方向において前記突き上げ部材と重複するように配設されている基板載置装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の基板載置装置であって、
前記補助リフトピンより内周側の位置に、前記ステージが受渡位置に移動された状態で前記ステージ支持部の移動軌跡上に配設される内側補助リフトピンをさらに備え、
前記突き上げ補助部材は、前記第２のリフトピン及び前記内側補助リフトピンに対向可能に形成されている基板載置装置。
【請求項１】
基板を載置可能なステージと、
前記ステージを支持するステージ支持部を有し、前記ステージ及び前記ステージ支持部を受渡位置と処理位置との間で移動可能なステージ動作機構部と、
前記ステージが前記受渡位置に移動された状態で前記ステージ支持部の移動軌跡上に配設される位置に配設されている補助リフトピンを含み、前記ステージ上に載置される前記基板の周縁部に沿った位置に、前記ステージ上面に対して出退可能に配設された複数のリフトピンと、
前記受渡位置に配設され、前記ステージが前記受渡位置に移動された状態で、前記複数のリフトピンのうち前記補助リフトピンを含まない第１のリフトピンを出退操作可能な出退操作機構部と、
前記ステージ動作機構部に対して、前記複数のリフトピンのうち前記第１のリフトピンを除く第２のリフトピンに対向する位置に、出退方向に移動可能に配設され、前記ステージが前記受渡位置に移動された状態で、前記出退操作機構部の出退操作力に応じて前記出退方向に移動される突き上げ補助部材と、
を備えている基板載置装置。
【請求項２】
請求項１記載の基板載置装置であって、
前記突き上げ補助部材は、前記ステージが前記受渡位置に移動された状態で、前記複数のリフトピンの出退方向において前記出退操作機構部に対して一部重複し、前記出退操作機構部との重複部分に押し上げられた状態で前記出退方向に移動される基板載置装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の基板載置装置であって、
前記出退操作機構部は、前記受渡位置から前記処理位置に向けて開口し、前記ステージが前記受渡位置に移動された状態で前記ステージ支持部の三方を囲む形状に形成されている突き上げ部材を有し、
前記突き上げ補助部材は、前記突き上げ部材の開口幅より長尺に形成されると共に、前記ステージが前記受渡位置に移動された状態で、前記突き上げ部材の開口に対応する位置で、長手方向両端部が前記出退方向において前記突き上げ部材と重複するように配設されている基板載置装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の基板載置装置であって、
前記補助リフトピンより内周側の位置に、前記ステージが受渡位置に移動された状態で前記ステージ支持部の移動軌跡上に配設される内側補助リフトピンをさらに備え、
前記突き上げ補助部材は、前記第２のリフトピン及び前記内側補助リフトピンに対向可能に形成されている基板載置装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２０１１−９６５３２（Ｐ２０１１−９６５３２Ａ）
【公開日】平成２３年５月１２日（２０１１．５．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２４９８２９（Ｐ２００９−２４９８２９）
【出願日】平成２１年１０月３０日（２００９．１０．３０）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年５月１２日（２０１１．５．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１０月３０日（２００９．１０．３０）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
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