【課題】 被処理基板への液体の供給むらを防止して、被処理基板の表面を全面に亘って均一に処理することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】 被処理基板１が着脱可能に保持される保持プレート１１と、保持プレート１１を支持すると共に保持プレート１１をその面内方向に回転させる回転手段１３を含む駆動手段１２と、所定の液体を被処理基板１表面に供給する供給手段１７とを具備し、且つ保持プレート１１を回転させた状態で、被処理基板１の回転中心の位置を被処理基板１内の任意の位置に移動させる変更手段１４を有するようにする。 （もっと読む）

【課題】 簡素化された機構で基板処理の面内均一性を向上させる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】 ステージ１１は基板１０を略水平な状態で支持すると共に回転可能である。基板処理機構２１は、基板１０の回転範囲の外側に可動部２２が設けられ、実効領域２３を有する。実効領域２３は、基板１０表面に対し何らかの処理を施す直接的な領域である。実効領域２３は、扇状の移動軌跡を有することにより、基板１０表面全域に処理の影響を及ぼす。制御機構４３は、基板処理機構２１による基板１０への処理時、基板１０上を通過する実効領域２３の相対的な速度を均一化するべく、制御部４３１を用いてモータ４１，４２を相互制御する。 （もっと読む）

【課題】 各々基板の回転及び排気を伴う複数の液処理部を備えた液処理装置において、排気管の省スペース化を図ることができ且つ各液処理部のカップ内の排気を常に予定とする排気状態で行うことができる技術を提供すること。
【解決手段】 各基板保持部３を夫々囲む複数のカップ４に夫々接続された複数の排気路７を共通化し、基板を基板保持部により回転させて液処理を行うにあたって、各排気路に設けた排気量調整部７１の開度を、各基板保持部の回転数の組み合わせと各排気路の設定排気量の組み合わせとを対応付けたデータを参照して調整することで、どのカップ内の基板がどの工程を行っているのかといったことに左右されずに常にカップ内を予定とする排気量で排気することができる。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜形成用の単位ブロックと、反射防止膜形成用の単位ブロックとを積層して設けることにより、レジスト膜の上下に反射防止膜を形成するにあたり、省スペース化を図ること。また反射防止膜を形成する場合、しない場合のいずれにも対応することができ、この際のソフトウェアの簡易化を図ること。
【解決手段】処理ブロックＳ２に、塗布膜形成用の単位ブロックであるＴＣＴ層Ｂ３、ＣＯＴ層Ｂ４、ＢＣＴ層Ｂ５と、現像処理用の単位ブロックであるＤＥＶ層Ｂ１，Ｂ２とを互いに積層して設ける。反射防止膜を形成する場合、しない場合のいずれの場合においても、ＴＣＴ層Ｂ３、ＣＯＴ層Ｂ４、ＢＣＴ層Ｂ５の内の使用する単位ブロックを選択することにより対応でき、この際の搬送プログラムの複雑化を抑えて、ソフトウェアの簡易化を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】 容器内でミストが滞留することを抑制できる塗布装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る塗布装置は、半導体基板１を載置するステージ２０とステージ２０を回転させるモーター２４と、ステージ２０を内側に含むカップ状の容器１０と、容器１０の底面に設けられた排気口１０ｂと、ステージ２０に載置された半導体基板１上に薬液を供給する薬液供給部１２とを具備する。ステージ２０の底面から容器１０の底面までの距離は、ステージ２０の側面２０ａから容器１０の内側面１０ａまでの距離より短い。 （もっと読む）

【課題】基材から剥がれ難い塗膜を形成する。
【解決手段】塗液を滴下する滴下部と、基材を回転させる回転機構と、塗液に放射線を照射して硬化させる硬化処理部と、制御部とを備えて、塗液を展延して硬化させた塗膜を基材の一面に形成可能に構成され、制御部は、滴下部を制御して基材の中央部に塗液を滴下させる滴下処理と（時間ｔ０〜ｔ１）、回転機構を制御して基材の回転速度を上昇させて中央部に滴下させた塗液を展延する第１の回転速度上昇制御処理と（時間ｔ１〜ｔ２）、回転機構を制御して所定の回転速度まで基材の回転速度を低下させる回転速度低下制御処理とを実行した後に（時間ｔ２〜ｔ３）、回転機構を制御して基材の回転速度を上昇させて塗液をさらに展延する第２の回転速度上昇制御処理と（時間ｔ４〜ｔ５）、硬化処理部を制御して塗液に放射線を照射させて硬化させる硬化処理とを実行する。 （もっと読む）

【課題】 成膜用液体の跳ね返りに起因した、成膜用液体を吐出する液体吐出ノズル先端の形状変化を抑制することができる塗布装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る塗布装置は、半導体ウェハ１を保持するウェハ保持部１２と、ウェハ保持部１２を回転させる動力源１４と、ウェハ保持部１２に保持された半導体ウェハ１上に成膜用液体を吐出する液体吐出ノズル３０ａと、液体吐出ノズル３０ａが待機するノズル待機部２０とを具備する。液体吐出ノズル３０ａは、ノズル待機部２０で待機しているときに成膜用液体をダミー吐出する。ノズル待機部２０は、液体吐出ノズル３０ａからダミー吐出された成膜用液体を受ける容器２２と、容器２２内かつ液体吐出ノズル３０ａの下方に配置され、上面が傾斜している傾斜部材２４とを具備する。 （もっと読む）

【課題】 パターン寸法の均一性がいっそう向上するレジストパターンを現像する半導体装置の製造方法及びスピン塗布装置を提供する。
【解決手段】 現像液吐出ノズル１５による所定量の現像液１６について、所定の現像液盛り時間が設定される。そして、現像液盛り時間と現像液盛り時間経過後に及ぶ所定量の現像液１６の被処理ウェハＷＦ上への拡張を、なるべく厚みを片寄らせずに達成させる。現像液盛り時間において現像液１６が盛られている際、被処理ウェハＷＦは所定の回転数ＳＰ１で回転している。現像液盛り時間経過直後からは被処理ウェハＷＦの回転数を半分以下に減少させ（ＳＰ２）、現像液１６がより緩やかに被処理ウェハＷＦの外周部に広がっていくようにする。破線１６ＮＧに示すように現像液１６の高低差を大きくしないことが重要である。これにより、液盛り直後から始まる現像反応をなるべく均一化する。 （もっと読む）

【課題】むらの発生を抑制しつつ、成膜時間を短縮することができるスピンコート装置を提供する。
【解決手段】スピンコート装置１０は、円板状の基板１２を略水平な状態で保持して回転駆動するための回転駆動部１４と、細長いスリット状の吐出口１６を有し、該吐出口１６が基板１２の中心側から外周側に延在するように配置されて該吐出口１６から基板１２の上に流動性材料１８を吐出するように構成されたノズル部２０と、基板１２を回転駆動しつつノズル部２０から流動性材料１８を吐出することにより基板１２の全周に流動性材料１８を塗布し、その後、基板１２の回転速度を上昇させて基板１２を更に回転駆動することにより流動性材料１８を所定の膜厚に成形しつつ乾燥させるように、回転駆動部１４及びノズル部２０を制御可能である制御部２２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】むらの発生を抑制しつつ、成膜時間を短縮することができるスピンコート装置を提供する。
【解決手段】スピンコート装置１０は、円板状の基板１２を略水平な状態で保持して回転駆動するための回転駆動部１４と、基板１２の上に流動性材料１６を吐出するためのノズル部１８と、回転駆動部１４を収容し、且つ、回転駆動部１４の上方に基板１２の搬入／搬出のための上部開口２０が設けられたケーシング２２と、回転駆動部１４の周囲の雰囲気を下方に吸引してケーシング２２の外部に排気するための排気機構２４と、ケーシング２２の上部開口２０を部分的に遮蔽することにより、回転駆動部１４の上方に該回転駆動部１４の中心軸に対し対称的な形状の吸気孔２６を形成可能であり、且つ、該吸気孔２６を径方向に拡大／縮小自在である遮蔽機構２８と、を備える。 （もっと読む）

【課題】むらの発生を抑制しつつ、成膜時間を短縮することができるスピンコート装置を提供する。
【解決手段】スピンコート装置１０は、円板状の基板１２を略水平な状態で保持して回転駆動するための回転駆動部１４と、細長いスリット状の吐出口１６を有し、該吐出口１６が基板１２の中心側から外周側に延在するように配置されて該吐出口１６から基板１２の上に流動性材料１８を吐出するように構成されたノズル部２０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 基板上の液膜の触媒濃度の均一化を図るとともに、未乾燥部分をなくし、基板全体を確実に乾燥させることができる回転塗布装置及び回転塗布方法を提供する。
【解決手段】
回転塗布装置は、被処理基板１を支持する保持テーブル６と、これを回転するモータ８と、被処理基板１を回転している状態で、被処理基板１中央上方に移動してその表面中央に結晶化促進液である触媒溶液を所定量滴下する液体用ノズル２と、この滴下後に液体用ノズル２に代わって被処理基板１中央上方に移動し、被処理基板１に対し気体１１を吹き付ける気体吹き付け手段４とを備えている。気体吹き付け手段４から、被処理基板１に対し気体１１を吹き付けることにより、被処理基板１上の液膜を中央部分から周辺に向けて強制乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】高い効率で基板の処理面の略全表面にオゾン水を噴射させることができるオゾン水噴射ノズルを提供する。
【解決手段】オゾン水を用いて基板表面のレジストを除去する際に使用されるオゾン水噴射ノズルであって、前記基板の処理面の全表面に対応する位置に複数の噴射孔が形成されており、前記噴射孔は、隣接する噴射孔間の距離が１０ｍｍ以下であり、かつ、前記オゾン水の噴射方向に垂直な方向に回転させたときに、前記オゾン水の噴射方向に垂直な任意の平面上で前記噴射孔の中心に対応する点の描く軌跡が重ならないように配置されているオゾン水噴射ノズル。 （もっと読む）

【課題】 固定容器内のミスト化した処理液の滞留を抑制すると共に、固定容器の外部への噴出を抑制して、ミストの基板への付着の抑制及び外部の周辺機器類への付着の抑制等を図ること。
【解決手段】 回転可能なスピンチャック５０により保持された基板Ｇに処理液を供給するノズル７０と、スピンチャックにより保持された基板を蓋体６１によって密閉された空間内に収容し、スピンチャックと同期して回転可能な回転カップ６０と、回転カップを囲繞すると共に、上部に気体導入口６２ｂを有し、下部に排気口８１を有する固定カップ６２とを具備する基板処理装置において、固定カップは、回転カップの外壁との間に形成される狭隘流路６５に連なって回転カップの下方に膨隆する気流制御室６６と、気流制御室の底部に設けられる環状スリット６７を介して気流制御室に連なるバッファ室６８及びこのバッファ室内で気液分離された液を排液する排液口６９を設ける。 （もっと読む）

【課題】新しいバッフルとその使用法を提案する。
【解決手段】バッフルは、組成物の流れを基板（シリコンウエハなど）のエッジに向けて案内するように構成されるエッジ壁を有する本体を備える。エッジ壁は垂直面と、垂直面に連結される湾曲側壁と、湾曲側壁に連結されるリップとを備える。好ましいバッフルは形状が環状であり、合成樹脂組成物から形成される。バッフルは金属で形成されていないことが更に好ましい。本発明の方法は、バッフルを基板に隣接して位置決めし、スピンコート処理時に、エッジ壁によって組成物が基板のエッジと好ましくは基板の後側の一部とを被覆するようにすることを含む。 （もっと読む）

【課題】 クリーニング層の膜厚を高精度に均一化でき、塵埃捕集性能を高めることができるクリーニング機能付き搬送部材の製造方法を提供する。


【解決手段】 回転テーブル３１上に載置された搬送部材（シリコンウエハ）１を回転させながら塗布用ノズル４を水平移動させ、この塗布用ノズル４から吐出するクリーニング層形成用のワニス２０を上記搬送部材１上に略円形軌跡に沿って塗布するクリーニング機能付き搬送部材の製造方法であって、上記塗布用ノズル４の先端における上記回転テーブル３１の回転方向ａと対向する側に、回転方向ａに対して水平面内で横断する方向へ延びてワニス塗布表面を均らす均し部４２を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、しかも低コストな装置により、ノズル１２からの流体の噴射状態を検出してその良否を判定する。
【解決手段】回転体１０の外周部に円周方向等間隔で複数のノズル１２が、また、各ノズル１２の下方に容器を支持するネックグリッパ１４が配置され、ノズル１２とネックグリッパ１４とが一体的に回転移動しつつノズル１２から過酸化水素ガスを噴射して容器を殺菌する。ノズル１２の移動経路内の容器が存在しない位置に、検出装置２０が設けられている。検出装置２０は、ノズル１２の移動経路の下方に配置された検出プレート３４と、この検出プレート３４に作用する荷重を検出するロードセル２２とを備えている。検出プレート３４にノズル１２から過酸化水素ガスが噴射されると、ロードセル２２がその重量を検出して制御装置４４に送り、比較判定部４８で、記憶部４６に記憶されている基準値と検出値とを比較する。 （もっと読む）

【課題】ウェーハエッジ部分の損傷を防止し、ウェーハの全体に均一な洗浄力を提供することができる洗浄プローブ及びこれを具備するメガソニック洗浄装置を提供する。
【解決手段】前記洗浄プローブはウェーハ中心付近に位置する前方部、圧電変換器に連結される後方部、及び前記後方部と前記前方部との間に位置し、前記ウェーハの端部分上に位置し、前記前方部に比べて広い断面積を有する突出部を具備する。 （もっと読む）

【課題】外周縁部において上方に大きく突出する凸部の存在しない塗膜を製造コストを高騰させることなく形成し得る塗膜形成装置を提供する。
【解決手段】基材の一面側に樹脂材料Ｒを滴下する滴下部３１と、基材を回転させる回転部３２と、樹脂材料Ｒに紫外線を照射するエネルギー線照射部３４と、紫外線の照射を規制する照射規制部３３と、制御部３６とを備えて基材の一面側に塗膜を形成可能に構成され、制御部３６は、滴下部３１に対して樹脂材料Ｒを滴下させると共に回転部３２に対して基材を回転させることによって樹脂材料Ｒを展延させた後に、回転部３２に対して基材を所定の回転速度で回転させた状態でエネルギー線照射部３４に対して基板の一面側に向けて紫外線を照射させると共に照射規制部３３に対して基材の一面における外周縁部上の樹脂材料Ｒへの紫外線の照射を規制させる。 （もっと読む）

【課題】 基板に塗布液を滴下した後、基板を回転させ塗布膜を形成する塗布膜形成装置において、高粘度の塗布液を使用した場合、膜厚が不均一になるという問題と塗布液中に気泡の巻き込みが生じるという問題があった。
【解決手段】 塗布膜形成装置に駆動モーター１、回転軸２、スピンチャック３からなる駆動部と、塗布液滴下ノズル５からなる塗布液供給部と、およびエアーブローノズル８からなる空気吹き付け部を設けるとともに、基板４の識別情報に基づく製造条件を記憶するメモリー部１１と、メモリー部１１から読み出した製造条件を各動作部に設定し、各部の動作を制御する制御部１２を設置する。 （もっと読む）