【課題】別の処理ユニットからのケミカル雰囲気の進入を抑制できる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板を保持する基板保持部４２、及び基板に処理液を供給する供給ノズル６１と、この供給ノズル６１を待機位置から基板保持部４２の上方に旋回させるシャフト６３とを有する処理液供給部４１を備えた複数の基板処理部２２と、基板処理部２２の各々を互いに独立して収容する複数のチャンバ４３と、待機位置の各々に設けられ、供給ノズル６１から吐出される処理液を受ける排液ポート８２と、排液ポート８２の各々が接続され、複数の基板処理部２２で共有される主排液配管８１と、排液ポート８２と主排液配管８１との間の各々に設けられ、主排液配管８１からの気体の進入を防ぐ進入防止弁８５と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】膜が均質で光学特性の優れた高分子薄膜を低コストで形成する。
【解決手段】ノズル３０とターゲット基板６０との間に直流電源５０で電圧を印加し、高分子材料を溶媒に分散させた高分子液２０をノズル３０から吐出させる。吐出物７０はターゲット基板６０に到達して高分子膜が形成される。ここで、ターゲット基板６０上で高分子液膜７０がレベリングを生じるように、高分子液２０には高沸点溶媒が用いられ、高分子材料の濃度が調整されている。 （もっと読む）

【課題】基板の周端部の洗浄能力が高く、且つメンテナンスの容易な塗布膜形成装置等を提供する。
【解決手段】
塗布膜形成装置は外カップ３１の中に設けられたスピンチャック１１と、このスピンチャック１１に保持された基板Ｗの下方領域を囲むように設けられた内カップ３４と、を備え、スピンチャック１１に保持された基板Ｗの中心部に薬液を供給してウエハＷを回転させることにより塗布膜を形成する。洗浄ノズル２１は、内カップ３４に設けられた切り欠き部３７に洗浄液供給管５２が接続された状態で着脱できるように構成され、切り欠き部３７に装着された状態で基板Ｗの裏面周縁部に洗浄液を供給することにより基板Ｗの周端部を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】基板とプレートとの隙間の有無を選択的に行って、角形の基板の回転処理においても、四角い形状の影響をなくすようにした基板処理装置を提供すること。
【解決手段】角形の基板Ｇを水平状態に保持し、鉛直軸回りに回転するスピンチャック１０と、スピンチャック１０にて保持された基板Ｇの各辺の外方近傍に位置すると共に、基板Ｇの表面と略同一平面の表面を有する気流調整用のプレート１１と、スピンチャック１０にて保持された基板Ｇの表面に処理液を供給する塗布液供給ノズル１２と、スピンチャック１０にて保持された基板Ｇの裏面に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズル１３と、を具備する基板処理装置において、各プレート１１を基板Ｇの辺に対して選択的に接離移動するプレート移動機構２０を設ける。これにより、プレート移動機構２０を作動して、基板Ｇとプレート１１との隙間の有無を選択的に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】基板に対して衝撃やダメージを与えることなく、大流量の処理液を供給（吐出）することができ、かつ、処理液の供給（吐出）停止時には、ノズルからの液ダレやボタ落ちを防止できるようにする。
【解決手段】回転基台にて保持されるガラス基板Ｇに処理液であるリンス液を供給する処理液供給装置において、リンス液供給源３４に接続される供給管路３５の先端部に装着されるノズル３３に、供給管路に連通する流通路３６を設け、このノズルの流通路内に、供給管路から導かれるリンス液の流れ方向に対して直交する断面領域において液保持力を有する、例えばメッシュ部材４０ａ，４０ｂ，４０ｃからなる液保持部材４０を設ける。これにより、ガラス基板に対して衝撃やダメージを与えることなく、大流量の処理液を供給（吐出）することができ、かつ、供給（吐出）の停止時には、ノズルからの液ダレやボタ落ちを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】単一工程の被膜形成用組成物の供給によって円形基板の周端部全体を覆うことができる被膜形成装置を提供する
【解決手段】本発明に係る被膜形成装置１は、円形基板１００を保持するともに、基板面内方向に回転させる保持部２０と、円形基板１００の周端部に被膜形成用組成物を供給する供給ユニット１０ａとを備えている。 （もっと読む）

【課題】塗布膜等の処理膜の除去状態を改善する調整作業を、均質かつ迅速に行う。
【解決手段】ウェハＷの外縁部に形成された処理膜に除去液を吐出する除去液吐出ノズル５６と、除去液吐出ノズル５６を固定する固定ブロック１００を有している。固定ブロック１００には、除去液吐出ノズル５６をはめ込んで、除去液吐出ノズル５６を所定の俯角方向に向けて固定させるための溝が設けられており、この溝は、一定の角度毎に複数設けられている。 （もっと読む）

【課題】基板に形成された所定のパターン上に塗布膜を形成するにあたって、当該塗布膜の表面を平坦化する。
【解決手段】塗布処理装置２４の処理容器１５０の内部には、ウェハＷを水平に真空吸着保持するスピンチャック１２０が設けられている。スピンチャック１２０の上方には、ウェハＷ表面の中心部に液体状の塗布膜形成成分を含む塗布液を塗布するための塗布ノズル１３０が配置されている。処理容器１５０内の上方には、スピンチャック１２０上のウェハＷに対して紫外線を照射する照射部１１０が設けられている。塗布ノズル１３０からウェハＷのパターン上に塗布液が塗布された後、塗布された塗布液に対して照射部１１０から紫外線が照射され、塗布膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】基板上における液体の微粒子の密度を増大し、微粒子の基板への到達速度を調整可能とし、かつ、ノズルの内周面に微粒子が付着することを抑制する。
【解決手段】液滴を噴射する液滴生成ノズル部４１の先端には筒状の補助ノズル部４２が取り付けられる。補助ノズル部４２では、加速ガス導入口４２６ａを介して加速ガスが導入されるとともに、下側端部４２３にて液滴の噴射範囲が制限されることにより、基板上における液滴の密度を増大しつつ、液滴の基板への到達速度が調整可能となる。また、加速ガスが、中心軸Ｊ１に垂直な方向から下側端部４２３に向かって傾斜するとともに中心軸Ｊ１から逸れた方向に沿って内周面４２４の内部へと導入されることにより、加速ガスが内周面４２４に沿って旋回し、内周面４２４に液滴が付着することが抑制される。 （もっと読む）

【課題】導電性を有する回転部材が高速で回転しても回転部材の表面に潤滑油を塗布することのできる静電式潤滑油塗布装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る静電式潤滑油塗布装置は、導電性を有する回転部材１の表面に潤滑油を微粒子状に吐出する潤滑油吐出ノズル２と、潤滑油吐出ノズル２と回転部材１との間に直流電圧を印加して潤滑油吐出ノズル２から吐出される油粒子に静電気を付与する静電気付与手段とを具備している。 （もっと読む）

【課題】露光装置へのパーティクルの持ち込みを極力少なくすることができる塗布膜形成装置を提供すること。
【解決手段】レジスト膜の露光前に基板に対してレジスト膜等からなる塗布膜を形成する塗布膜形成装置は、基板Ｗに塗布処理等を行う処理部と、基板を処理部へ搬入する前に少なくとも基板の裏面およびエッジ部を洗浄する塗布前洗浄ユニットと、基板を処理部へ搬入する前に基板Ｗの裏面およびエッジ部の状態を検査する検査ユニットと、洗浄後、検査ユニットで基板の検査を行わせ、その検査結果に基づいて基板の裏面およびエッジ部におけるパーティクルの状態が許容範囲か否かを判断し、許容範囲であった場合に前記処理部への基板の搬入を許容し、許容範囲からはずれた場合に前記塗布前洗浄ユニットで基板の洗浄を行ってから処理部への基板の搬入を許容する制御部とを有する。 （もっと読む）

【課題】テープを介してフレームに支持されたウェーハの表面に保護膜を被覆する場合において、スピンナーテーブルを回転させその遠心力により爪部によってフレームを固定しても、爪部がフレームに接着されないようにすることにより、ウェーハをスピンナーテーブルから取り外せるようにする。
【解決手段】スピンナーテーブル４０の外周部に、スピンナーテーブル４００の回転時の遠心力によって錘部５００が外周側に振られることによりアーム部５０１を介して錘部５００と連結された爪部５０２がフレームＦを押さえる構成のフレーム押さえ手段４１を配設した樹脂被覆装置において、アーム部５０１と爪部５０２とを弾性体からなる連結部５０３によって連結する。スピンナーテーブル４００の回転停止時、連結部５０３が爪部５０２を移動させ、接着状態が解除されるため、スピンナーテーブル４０からフレームＦと共にウェーハを取り外すことができる。 （もっと読む）

【課題】所定の品質の外周材層を形成できる外周材の塗布方法を提供する。
【解決手段】ハニカム構造体の外周材の塗布方法は、軸方向にのびる複数のセルをもつ略円柱状のハニカム基材を、その中心軸が水平方向にのびた状態で、中心軸を回転中心として周方向に回転する工程と、ハニカム基材の周方向の外周面に外周材スラリーを供給する工程と、ハニカム基材の外周面に外周材スラリーが供給された状態でありかつハニカム基材が回転した状態で、ハニカム基材の中心軸から所定の間隔を隔てた位置にヘラ部材を配置して外周形状を成形する工程と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の処理装置に用いられる複数の気圧式駆動部に気体を供給する気体供給設備の品質を安定させる。
【解決手段】気体供給ユニット１７０は、略直方体形状の連結ブロック１８２を有し、連結ブロック１８２の一の側面１８２ａには、複数の電磁バルブ１９０からなる電磁バルブブロック１８０と、複数のスピードコントローラ２００からなるスピードコントローラブロック１８１が連結されている。連結ブロック１８２内には、対応する電磁バルブ１９０とスピードコントローラ２００を連通させる第１の流路と、スピードコントローラ２００から他の側面１８２ｂに連通する第２の流路が形成されている。他の側面１８２ｂの第２の流路２１１の出力側には、接続ポート２２２が設けられる。各気圧式駆動部に通じる複数の給気管１６０は、マルチコネクタ２３０を介して接続ポート２２２に接続される。 （もっと読む）

【課題】レジスト液をスピンコーティングにより塗布するにあたって、レジスト液の消費量を抑え、かつレジスト膜の膜厚について高い面内均一性を得ること
【解決手段】基板の表面を予め溶剤により濡らしておき、次いで基板を、基板の表面に乱流が発生する回転数領域よりも低い第１の回転数例えば３２００ｒｐｍまで加速させ、この加速中に基板の中心部へのレジスト液の供給を開始し、これによりレジスト液を基板の外側に広げながら塗布する。その後、第２の回転数例えば５００ｒｐｍ以下まで減速し、レジスト液の膜厚の面内分布を整え、第１の回転数よりも低く、第２の回転数よりも高い第３の回転数例えば１４００ｒｐｍまで加速して残余のレジスト液を振り切る。 （もっと読む）

【課題】析出物の生成が防止された基板処理装置および基板処理方法を提供することである。
【解決手段】スプラッシュガード２４は、周壁部４０を有する。周壁部４０の上部には、内側上方に傾斜する傾斜部４１が設けられている。スプラッシュガード２４の上部には、周壁部４０、傾斜部４１および閉塞部材４８により囲まれた環状の排気通路４２が形成される。傾斜部４１の下方には、仕切部４６が設けられている。傾斜部４１と仕切部４６と間には、回収液空間４７が形成されている。
傾斜部４１には、排気通路４２と回収液空間４７とを連通させるように、複数の排気孔５２が形成されている。排気孔５２は、排気通路４２から回収液空間４７に向かって外側下方に傾斜している。周壁部４０の上端部近傍には、排気通路４２から外方に貫通する複数の接続口５３が形成されている。 （もっと読む）

【課題】高粘度液状物から連続的に効率よく微細な泡を除去でき多品種生産の作業性も良好な脱泡装置及び塗布装置を提供する。
【解決手段】液状物を連続的に脱泡する脱泡装置であって、減圧手段接続口と液排出口とを備える減圧容器、減圧容器内に配された回転可能な中空筒状の部材である回転筒、回転筒を回転させる駆動装置及び液状物を回転筒内に供給する液状物供給管を有し、回転筒の回転中心軸は鉛直方向に配され、回転筒の上下端部の少なくとも下端部に回転筒胴部分の内壁とは内側に離間して開口部が配され、回転筒内部に円盤又は円筒状の部材であって回転筒の回転中心軸に垂直な面の断面外周が円状の部材が配され、この部材は回転筒内壁面と離間し、その半径は回転中心軸から開口部までの水平方向距離の最大値より大きく、この部材と回転筒胴部分の内壁面とが隙間を有する大きさである。この装置を有する塗布装置。 （もっと読む）

【課題】処理に供される基板及び塗布液の種類や特性に関係なく正確に塗布液の吐出検知を行えるようにした塗布液の吐出検知方法及びその検知用プログラムを提供すること。
【解決手段】レーザーセンサ４０を用いて、レジスト液Ｒが吐出されるウエハＷ表面のレーザー反射光量を測定してノイズマージンの閾値を設定し、次いで、レジストノズル２０からウエハ表面にレジスト液が吐出される前のウエハ表面のレーザー反射光量を検出すると共に、レジスト液が吐出中のウエハ表面の最低レーザー反射光量を検出する。そして、レジスト液の吐出前と吐出中のレーザー反射光量の差と、ノイズマージンの閾値とを比較してレジスト液の吐出状態を検知する。 （もっと読む）

【課題】各種レンズの表面に処理液を塗布する際に、処理液を供給する配管内を流れる処
理液中に含まれる気体の気泡の付着によって引き起こされる外観不良等の発生を防止した
レンズのスピンコート方法、および気泡の発生を防止すると共に、構成が簡素なスピンコ
ート装置を提供する。
【解決手段】スピンコート装置１の処理液供給部２は、眼鏡レンズ５の表面に吐出口１５
Ｂから吐出されるハードコート液１０を供給する配管１５が、配管１５の途中の吐出口１
５Ｂよりも高い位置に山形に屈曲した山形頂点部１５Ｃを有する山形屈曲部１５Ａを備え
、山形屈曲部１５Ａの山形頂点部１５Ｃから吐出口１５Ｂまでの間の内容量未満のハード
コート液１０の液量が、眼鏡レンズ５の表面に、吐出口１５Ｂから吐出されて、ハードコ
ート液をスピンコートする。 （もっと読む）

【課題】安定したフォトクロミックのコーティング被膜を形成できるコーティング装置を提供すること。
【解決手段】ハンドリング装置１２の軌道内に、レンズ高さ計測装置３、プライマスピン装置４、レンズ乾燥装置６の各レンズ支持軸２２，３２，５３を配設し、ハンドリング装置１３の軌道内に、ＵＶ装置１０，１１の各レンズ支持部９９を配設し、プライマ側レンズ支持装置４のレンズ支持軸５９を両者のハンドリング装置１２，１３の軌道内に配設した。 （もっと読む）