【課題】被塗布体であるレンズの吸着保持力を制御して、レンズに悪影響を及ぼすことなく、かつ高効率で塗膜を形成することができるレンズ塗布装置およびレンズ塗布方法を提供すること。
【解決手段】レンズＬの一方の面を吸着保持部材１７で保持し、移動機構で吸着保持部材１７を移動させながら、それぞれ独立に設けられた収容部内で、それぞれ塗布処理、乾燥処理、硬化処理を順次行うに当たり、吸着保持部材１７が位置する収容部に応じて、制御部２２により吸着保持部材１７におけるレンズＬへの吸着力を制御する。 （もっと読む）

【課題】基板にレジスト膜を形成し、液浸露光した後の基板に対して現像処理を行う装置において、液浸露光により基板上に残留する水滴によるレジストパターンの解像に対する悪影響を抑えること。
【解決手段】基板に付着した液滴はある時間が経つと、そのサイズが急激に小さくなり、このとき基板のレジスト膜に変質層（ウオータマーク）が形成されることに着眼し、液浸露光後に液滴のサイズが急激に小さくなっていく時間帯に入る前の時間帯にて基板が洗浄部で洗浄されるように基板の搬送制御を行う。具体的には露光装置から搬出準備信号が出力されたときに、インターフェイス部の基板搬送手段が他の搬送作業に優先して搬送ステージ上の基板を洗浄部に搬送する。 （もっと読む）

【課題】薄膜の膜厚をコーティング面全体に亘り均一に形成できるスピンコート装置を提供する。
【解決手段】基板の主面にコーティング材料を供給しかつ透明カバー層基板を回転してコーティング材料を延伸するスピンコート装置であって、基板を支持する回転テーブルと、透明カバー層回転テーブルに支持された透明カバー層基板の主面の周縁近傍に配置された開口を有する吸引部と、透明カバー層開口に連通する吸引手段と、を有する。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストの粘度の変動を抑制し、塗膜の膜厚のバラツキを従来に比較し小さなものにするスリットアンドスピンコータを提供する。カラーフィルタの製造方法、並びに製造方法により製造されたカラーフィルタを提供する。
【解決手段】１）少なくともガラス基板を載置・固定するステージ１０と、ガラス基板上にフォトレジストを供給するスリットノズル６０を備え、
２）フォトレジストの温度を制御する温調機構１、ステージの温度を制御する温調機構２、ステージ上面に制御された温度の空気を供給する空調機構３を具備する。ステージ上のガラス基板の温度の制御が±０．３℃である。 （もっと読む）

【課題】 塗布膜厚の均一化を図りつつ、レジスト供給量を極力削減することが可能なレジスト塗布方法およびレジスト塗布装置を提供する。
【解決手段】 ウエハＷを第１の回転速度Ｒ_１で回転させながら、レジストノズルからウエハＷの略中央にレジスト液を滴下してウエハＷの径方向外方に拡げながら塗布する。次いで、レジスト液の滴下終了後、ウエハＷの回転速度を第１の回転速度Ｒ_１より遅い第２の回転速度Ｒ_２に減速する。この際、減速の加速度を、第２の回転速度Ｒ_２（または回転停止）に近づくほど小さくしていく。その後、ウエハＷの回転速度を、第２の回転速度Ｒ_２より速い第３の回転速度Ｒ_３まで加速して、残余のレジスト液を振り切る。 （もっと読む）

【課題】回転塗布装置上で紫外線照射も行う場合に効率的な構造により余剰塗布液の硬化による問題を解消する。また回転塗布及び紫外線照射による樹脂層をより良好に生成できるようにする。
【課題を解決するための手段】ディスク基板９０に紫外線硬化樹脂を滴下し、被塗布物を回転させて紫外線硬化樹脂を被塗布物上に延伸塗布した後、紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させる回転塗布工程において、紫外線照射時には、回転台１を、回転実行位置から紫外線照射実行位置に上昇させる。紫外線照射実行位置では、回転台１が回収経路部２１に対する紫外線の遮蔽体として機能するようにし、回収経路部内に付着した余剰樹脂に紫外線が照射されないようにする。 （もっと読む）

【課題】最外周部に生じる盛り上がりを抑制でき、均一な厚さの樹脂層を形成できる樹脂層形成装置および樹脂層形成方法並びに光ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】樹脂層形成装置は、スピナーテーブル２１と、センターピン２２と、１軸ロボット２３と、１軸ロボット２３に設置されるスポットＵＶヘッド２４とから構成される。スポットＵＶヘッド２４は、１軸ロボット２３の先端に設置され、基板３１の最外周の近傍に紫外線が照射されないように、基板３１の内周から外周にスポットＵＶを照射できる構造とされる。 （もっと読む）

【課題】工程単価の増加を防ぎ、且つ塗布不良発生を減らすことが可能な半導体装置製造装置を提供する。
【解決手段】塗布薬液を吐出する薬液ノズル１０と、塗布薬液を貯蔵し、薬液ノズル１０に塗布薬液を供給する薬液貯蔵部２０と、薬液貯蔵部２０で塗布薬液を貯蔵している時間及び最後に塗布薬液を吐出してからの時間を測定する時間測定装置３２と、時間測定装置３２から測定結果からダミーディスペンスの間隔と吐出量を制御する制御コンピュータ３０と、制御コンピュータ３０からダミーディスペンスの間隔と吐出量を受信し、塗布薬液の吐出を制御する薬液吐出制御バルブ２３を備える。 （もっと読む）

【課題】回転制御による塗布膜形成装置において、塗布膜の膜厚を均一に形成できると共に、塗布膜形成中に基板周囲に飛散したミスト状の塗布液の基板上方への漏れを低減でき、且つ、前記ミスト状の塗布液の排気に要する吸引力を削減でき、且つ、排気量を精度よく測定することのできる塗布膜形成装置を提供する。
【解決手段】 基板Ｗの出し入れを行うために上方に開放した開口部５５ｂと、前記基板Ｗへの塗布膜形成時に生じる不要な雰囲気を排気するための排気口５５ｃと、外気を吸引するための吸引口５５ａとを有する処理カップ５５と、前記不要な雰囲気を前記排気口５５ｃから吸引する吸引手段とを備え、前記処理カップ５５の開口部５５ｂに収容された前記基板Ｗの周縁部と前記開口部５５ｂとは、所定の間隙をもって配置され、前記処理カップ５５に収容された前記基板Ｗよりも下方には、前記吸引口５５ａから前記排気口５５ｃに至る排気流路が形成される。 （もっと読む）

【課題】 ウェハ上に平坦度の高い膜を短い時間で形成する。
【解決手段】 押圧処理装置３３の処理容器７０内に，ヒータ７２が内蔵された保持台７１が設けられる。保持台７１の上方には，押圧板８０が配置される。押圧板８０の下面８０ａには，ウェハＷの下地膜の溝に対応する位置に凹部８０ｂが形成されている。押圧板８０は，昇降駆動部８２により昇降可能であり，保持台７１上に下降して，ウェハＷの塗布膜を押圧できる。保持台１２１上に載置されたウェハＷを加熱しながら，押圧板８０によりウェハＷ上の塗布膜の上面をプレスし，下地膜の溝に対応する位置の塗布膜の上面に凸部を形成する。その後の塗布膜の硬化処理により塗布膜が収縮し，結果的に平坦な膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】 ウェハ上に塗布された塗布膜を十分に平坦化して乾燥する。
【解決手段】 平坦化装置７１の処理容器１２０内に，ヒータ１２２が内蔵された保持台１２１が設けられる。保持台１２１の上方には，下面が平坦に形成された押圧板１３０が配置される。押圧板１３０は，昇降駆動部１３２により昇降可能であり，保持台１２１上に下降して，ウェハＷのレジスト膜を押圧できる。レジスト液が塗布されたウェハＷを保持台１２１上に載置する。保持台１２１上のウェハＷをヒータ１２２により所定の温度で加熱して，レジスト膜を乾燥させる。その乾燥中に，押圧板１３０によりレジスト膜の上面を断続的に押圧して平坦化する。 （もっと読む）

【課題】スピナー設備においてノズルを通してケミカル溶液が噴射されるときにノズルの目詰まりを検出してケミカル溶液の噴射不良を低減する噴射不良制御装置を提供する。
【解決手段】フォトスピナー設備の噴射不良制御装置において、ケミカル溶液を噴射するノズルと、前記ノズルの噴射圧力を感知する少なくとも１つ以上の圧力センサーと、前記圧力センサーで感知された圧力値を受けて予め設定された圧力値と比較して予め設定された圧力値を超過するときにインターロック信号を発生するコントローラーと、を備える。 （もっと読む）

【課題】多様な形状の被塗布物を良好に保持して好適な塗膜を形成可能なスピンコート用保持具を提供する。
【解決手段】スピンコート用保持具２は、フレーム２１と、このフレーム２１の内周面２１Ａに固定された板ばね部材２２と、板ばね部材２２に一連に設けられレンズＬを保持する保持部２３とを備えている。これにより、保持部２３は多様な形状のレンズＬを保持でき、レンズＬの保持位置を適宜調整して塗れ残りなどの外観不良を抑制できる。保持の際にレンズＬに吸着パッドを接触させたり、レンズＬを搬送する際にレンズＬを直接ハンドリングする必要がないため、被塗布面を汚染する危険性がなくなる。 （もっと読む）

【課題】均一に塗布可能であって、製造効率を向上できる。
【解決手段】塗布面Ｓに塗布液が供給された半導体ウエハＷを支持するスピンチャック３１を回転させることによって、塗布面Ｓに供給された塗布液を回転中心から周囲へ向かうように延在させて塗布する。このとき、回転しているスピンチャック３１に支持された半導体ウエハＷの塗布面Ｓに、回転中心から周囲へ気体が流れるように、ガス供給ノズル６１から気体を半導体ウエハＷの回転中心へ供給する。 （もっと読む）

【課題】均一でムラなく薬液を塗布することが可能なスピンコート法により塗布する薬液塗布装置および薬液塗布方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ステージ上に固定した塗布対象物に薬液を塗布するためのノズルを複数設けた。各ノズルは、それぞれ独立して上下左右に可動である。そのため、吐出ポイントやパターンの制御が可能となり、より広域な粘度範囲の薬液に対応した塗布ができる。本発明を実施することで、基板全体にわたって膜厚分布が小さく、均一な厚さの塗布膜が得られるとともに、吐出する薬液の無駄を省き使用効率を高めた薬液の吐出方法を備えた薬液塗布装置を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 空気の吸い込み舞い上がり循環現象に伴うウェハ表面の汚損を防止してウェハ表面に対する所定の処理性能及び製品品質の著しい向上を達成できるようにする。
【解決手段】 テーブル３及び該テーブル３上に固定保持されたウェハ４を縦軸芯ａ周りで駆動回転させながら、ウェハ４表面の中心から少し変位した箇所に処理液を滴下させることで、その液を遠心力により径方向外方へ拡散流動させてウェハ表面に対する所定の処理を行う回転式ウェハ処理装置において、テーブル３上部にウェハ４の上方及び外周を覆うカバー１０が一体回転可能に設けられ、このカバー１０の回転中心部にはウェハ４とカバー１０間の微小隙間９に回転遠心力に応じた量の気体を導入する気体導入口１３が形成され、かつ、テーブル３外周辺とカバー１０外周辺部分との間には、微小隙間９内を流動した後の気体をウェハ４外方の斜め下向きに排出する排気口１４が形成されている。
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【課題】被処理基板上の塗布状態の検査を簡易かつ安価に行うことが可能な塗布検査方法及び液浸露光方法を提供する。
【解決手段】被処理基板（１２）上に処理液を塗布して塗布膜を形成し、前記塗布膜が形成された前記被処理基板表面の外周部の塗布状態に関する情報を取得し、前記塗布状態に関する情報に基づいて前記処理液の塗布状態の良否を判定する。 （もっと読む）

【課題】 従来、人手に頼っていたシャフト部材へのグリース塗布を、効率よく、かつ必要とする箇所にだけ塗布することで、作業性の向上、省力化、および品質向上を図ることのできる回転塗布装置および回転塗布方法を提供する。
【解決手段】回転式塗布装置は、一対のガイドレール５，５と、ガイドレールに振動を与える振動発生手段と、ガイドレール間に懸架され振動により移送されるピン状被塗物１００をガイドレールの特定位置で回動自在に停留させるストッパーと、この停留時に、振動により自転するピン状被塗物１００に粘着性塗物を塗布するための塗布手段１０と、ピン状被塗物に塗着した粘着性塗物を平らにならすための塗膜平均化手段１０４とを備える。 （もっと読む）

【課題】 液体材料を吐出する際に、液体材料の劣化を防ぎつつ、当該液体材料の流動性を確保することが可能な液滴吐出装置を提供すること。
【解決手段】 液体材料がチューブ１２内で自然冷却される時間を予め算出しておき、当該時間に応じてヒータ６０での加熱温度を制御する。すなわち、算出された時間が短い場合には、自然冷却による温度低下が小さいものとして加熱温度を低く設定して加熱し、算出された時間が長い場合には、自然冷却による温度低下が大きいものとして加熱温度は高く設定して加熱する。これにより、液体材料を常時加熱し続けなくてもヘッドに到達した液体材料の温度を高くすることができ、液体材料の粘度を高い状態にすることができるので、液体材料の劣化を防ぎつつ、当該液体材料の流動性を確保することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】塗布作業を一時中断することなく、またクリーンルーム内の清浄度を低下させることなくコーティング溶液の補充ないしコーティング溶液の容器交換作業を行い、装置の稼働率、生産性を向上させるようにした光学レンズのコーティング装置を提供する。
【解決手段】クリーンルーム７に隣接してコーティング溶液補充室１２０を設ける。クリーンルーム７内に移動自在な塗布容器６０と、第１、第２のコーティング溶液滴下手段６４，６５を配設する。コーティング溶液の塗布時には、第１、第２のコーティング溶液滴下手段６４，６５のいずれか一方で塗布し、他方をコーティング溶液補充室１２０内に待機させておき、この待機中においてコーティング溶液の容器を新しいものと交換する。 （もっと読む）