【課題】 膜厚分布の少ない被膜を有するセンサー用固体基板の製造方法、及び膜厚分布の少ない被膜を有するセンサー用固体基板を提供すること。
【解決手段】 スピンコート塗布において、基板の塗布面を塗布時の回転面に対して、傾斜させて回転させることを特徴とするスピンコート塗布方法、好ましくは基盤の塗布面を回転の遠心方向に対して外側または内側に傾斜させた状態で回転を行うスピンコート塗布方法、さらに好ましくは基盤の塗布面を回転方向に対して前方側又は後方側に傾斜させた状態で回転を行うスピンコート塗布方法。 （もっと読む）

【課題】 処理液と気体とを混合して生成した処理液の液滴を基板に供給して所定の洗浄処理を行う基板洗浄装置において、基板上の処理領域に対応した最適な洗浄を行うことで、基板を高品質に洗浄する。
【解決手段】 基板Ｗに与えるダメージが少ない外部混合型ノズル５から処理液の液滴を吐出した状態で、ノズル５を境界位置Ｋａと基板Ｗの回転中心Ｐａとの間で移動させることによって、ノズルに対する相対速度が遅い基板中央部Ｗｃを洗浄処理する。一方、洗浄力（除去率）に優れる内部混合型ノズル６から処理液の液滴を吐出した状態で、ノズル６を基板Ｗの端縁位置Ｅｂと境界位置Ｋｂとの間で移動させることによって、ノズルに対する相対速度が速い基板端縁部Ｗｓを洗浄処理する。これにより、基板中央部Ｗｃと基板端縁部Ｗｓとの各処理領域に対応した最適な洗浄を行うことができ、基板全面を高品質に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】 吸着支持テーブルによる円形平面基板の裏面に対する接触面積を少なくし、かつ円形平面基板の平面性を確保できる円形平面基板の吸着支持装置を提供する。

【解決手段】 表面に精密塗工が施される円形平面基板Ｍを吸着支持テーブル１上に支持する吸着支持装置において、吸着支持テーブル１の上面全域に、中空部が吸着孔として設定された複数の筒形ピン４を均等に分散配置したことを特徴とする円形平面基板の吸着支持装置、また上記の中空部が吸着孔として設定された複数の筒形ピン４とともに、中実ピンを均等に分散配置してなる上記構成の円形平面基板の吸着支持装置。 （もっと読む）

【課題】 エッジリンスを含めた一連のレジスト塗布処理をより短時間で行う。
【解決手段】 レジスト塗布装置２０に，溶解パラメータの異なる複数の溶剤供給ノズルＳ_１〜Ｓ_４を設ける。エッジリンス時に用いられる溶剤供給ノズルには，レジスト液中に含まれる塗布溶剤に対して溶解パラメータが設定値以上離れた除去溶剤を吐出するものが選択される。レジスト塗布処理時には，回転されたウェハＷの中心部にレジスト液供給ノズルによりレジスト液が吐出され，所定の膜厚のレジスト液の液膜が形成される。その直後，ウェハＷ上のレジスト液が未乾燥の状態で，エッジリンスが開始され，前記選択された溶剤供給ノズルにより，ウェハＷの周縁部に除去溶剤が供給される。このとき供給された除去溶剤は，ウェハＷ上のレジスト液に馴染まないので，除去溶剤により周縁部上のレジスト液のみが適正に除去される。 （もっと読む）

【課題】処理液の吐出量を正確に設定することが可能でかつノズルからの処理液の吐出動作の変更が容易な基板処理装置を提供する。
【解決手段】制御部１３はレシピデータおよびサブライブラリを有する。サブライブラリにはポンプ駆動モータ７の駆動パターン、加減速時間、レジストノズル４からのレジスト液の吐出速度および吐出量が入力され、レシピデータにはレジストノズル４の吐出時間等の制御情報が入力部１２より入力されて格納される。また、レシピデータおよびサブライブラリの各制御情報は入力部１２から変更することができる。作業者が入力部１２からレジスト液９の吐出量、吐出速度、吐出時間、加速時間および減速時間の５つの制御情報のうち少なくとも４つの制御情報を入力すると、制御部１３は入力された４つの制御情報に基づいて残りの制御情報を算出する。 （もっと読む）

【課題】薬液を加圧することの弊害を回避でき、薬液ボトルの交換時における不具合を解消できるようにした薬液供給装置の提供。
【解決手段】薬液ボトル１１は、被処理物ｂよりも高い位置に、密封栓１４で塞がれた排出口を下向きにした状態で設置するようにした。また、薬液ボトル１１は、加圧容器１８で覆い、加圧容器１８内に加圧ガスを供給することにより薬液ボトル１１内の薬液を間接的に加圧するようになっている。すなわち、薬液ボトル１１は、排出口とは対向する反対側の底部側に開閉自在な孔１８を有し、加圧容器１８で覆ったときには、孔１８を開いた状態にして薬液ボトル１１内の薬液が加圧ガスで加圧されるようになっている。 （もっと読む）

【課題】処理液の吐出量を正確に設定することが可能でかつノズルからの処理液の吐出動作の変更が容易な基板処理装置を提供する。
【解決手段】吐出ポンプ６はポンプ駆動モータ７により駆動され、レジストノズル４にレジスト液を供給して吐出させる。ポンプ駆動モータ７は制御部１３の制御に基づきモータコントローラ１２により駆動される。制御部１３はレシピデータおよびサブライブラリを有する。サブライブラリにはポンプ駆動モータ７の駆動パターン、加減速時間、レジストノズル４からのレジスト液の吐出速度および吐出量が入力され、レシピデータにはレジストノズル４の吐出時間等の制御情報が入力部１２より入力されて格納される。また、レシピデータおよびサブライブラリの各制御情報は入力部１２から変更することができる。 （もっと読む）

【課題】 ウェハなどの基板を、少量の成膜材を用いて全面均一にコーティング可能な基板への成膜材の塗布方法、基板被膜装置、及び成膜材の塗布プログラムを提供し、材料費のコスト削減を可能とすること。
【解決手段】 基板上にプリウェット材を滴下するステップと、前記基板を水平回転して滴下された前記プリウェット材を前記基板表面の全体に塗布するステップと、前記プリウェット材が塗布された前記基板上に、前記プリウェット材を再度滴下するステップと、再度滴下された前記プリウェット材中に、成膜材を滴下するステップと、前記成膜材が滴下された状態を所定時間維持するステップと、前記基板を水平回転させて前記成膜材を前記基板表面の全体に塗布するステップとを有する。 （もっと読む）

【課題】 シリコン等の被吸着基板の加工部位に傷や欠陥の発生しにくい真空チャック治
具及びこの真空チャック治具を使用した真空チャック方法、並びにこの真空チャック治具
を使用したエッチング精度の高い液滴吐出ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】 被吸着基板を吸着する吸着孔３を有し、該吸着孔３が、被吸着基板を吸着
する側の面の、中心から一定の範囲を占める中心部より外側の外周部に設けられているも
のである。また、外周部に設けられた吸着孔３以外に、被吸着基板を吸着する側の面の中
心に被吸着基板を吸着する吸着孔３が設けられているものである。さらに、吸着孔３が形
成された吸着部２が突設されており、吸着部２のみで、被吸着基板を保持可能としたもの
である。 （もっと読む）

【課題】ミラーやプリズムの材料である石英ガラスや波長変換素子などの材料である非線形光学結晶などの光学材料の表面加工工程において、安価で容易な無歪み表面加工装置およびこれを用いた表面加工技術を提供する。
【解決手段】超平滑に加工された面に網目状の溝を設けた円盤４を高速で回転させて、その回転面上に光学基板２を載せて多孔性スポンジ３で反応性溶液を微滴状に供給し、光学基板に対する垂直方向のエッチング速度を制御することで表面を化学反応だけで処理し、無歪みの光学的鏡面を得る。 （もっと読む）

【課題】 塗布膜形成成分を溶剤に溶かしてなる塗布液を基板の表面に塗布して成膜するにあたり、塗布後の基板に塗布むらの有無を速やかに検査すること
【解決手段】 基板例えばウエハＷを搬送アームＡにより筺体３内に搬入してスピンチャック３１に水平の保持し、塗布液ノズル５から塗布液を塗布して成膜する。そして塗布後のウエハＷを筺体３から搬出しているときに、当該ウエハＷの表面の画像データをラインセンサ７２により取得し、この画像データに基づいて塗布むらの有無を判定する構成とする。これによりウエハＷの表面の塗布むらを速やかに検出することができ、その結果を次に処理される後続のウエハＷに有効に反映させることができる。 （もっと読む）

【課題】気泡の発生を防止し得る塗膜形成方法を提供する。
【解決手段】一方の面における中央部位１４ａが突出形成された基材１４の一方の面に塗膜をスピンコートする際に、中央部位１４ａの外縁側に形成された円環状の段差部１４ｃの外周側から段差部１４ｃの内周側に亘る円環領域内に外周側から塗液Ｒを滴下した後に、基材１４を高速回転させて滴下した塗液Ｒを一方の面の全域に展延して塗膜を形成する。この塗膜形成方法により、塗液による空気の巻き込みを抑制することができる結果、塗膜内での気泡の発生が防止される。 （もっと読む）

【課題】 ポンプによってノズルから基板に処理液を供給する装置において，多くのパラメータをポンプの制御装置に入力することなく，ノズルの調整を可能にして，調整に要する手間，時間を大幅に縮減し，個々人の技量差の影響を排除する。
【解決手段】 レジスト液吐出ノズル５０の吐出口から先の吐出経路に設定された所定位置で，レジスト液流の有無を検出するセンサ１０１を設ける。吐出開始時点から，センサ１０１がレジスト液流を検出した時までの時間を計測し，その結果に基づいてポンプ７４の内圧を制御する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、反射防止膜の塗布膜厚のばらつきが生じることなく反射防止膜材料を塗布することができる反射防止膜の形成方法及びその方法を実施に適用される塗膜形成装置を提供するものである。
【解決手段】 本発明の反射防止膜の形成方法は、基板の段差を有する表面に反射防止膜を形成する反射防止膜の形成方法であって、前記基板の表面上に反射防止膜材料を滴下し、前記基板の回転による遠心力と前記基板表面に垂直な力とによって、前記反射防止膜材料を塗布して反射防止膜を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

２つの絞りローラ（３、４）によって形成された少なくとも１つの加圧ニップ（５）が設けられたプレス区間（２）を有し、かつ媒体、特に澱粉を塗布する装置（６、７）が配置された、紙ウェブ、厚紙ウェブ、又は他の繊維ウェブ（１）の製造用機械を開示する。繊維ウェブ（１）は、バンド（８）に沿って加圧ニップ（５）を通って案内され得る。本発明による機械は、この装置（６、７）が、媒体を繊維ウェブ（１）に間接的に塗布するために絞りローラ（３、４）の少なくとも１つに載っていることを特徴とする。
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【課題】高段差を有するウエハに高粘度厚膜有機樹脂を塗布する工程において、気泡を排除し均一な有機膜を形成し、異常ドライエッチングを抑制することが可能な塗布機および塗布方法を提供する事を目的とする。
【解決手段】容器内を減圧するための真空ポンプと被塗布材を加熱する機構と一体の回転ステージを備えた塗布機により、被塗布材を加熱した後に、回転塗布し、塗布中に、容器内を減圧することを特徴とするため、高段差部での気泡の混入を完全に防止し、後工程での異常ドライエッチングを抑制することが可能である。また、塗布後のベーク工程でのウエハからの脱ガスによる新たな膜中への気泡を防止することが可能である。 （もっと読む）

このディスクの製造方法は、ディスク基板Ｄを回転させながら皮膜材料ｗを塗布し、それを乾燥させることにより皮膜Ｗをディスク基板Ｄ上に形成する工程と、前記回転中の前記皮膜Ｗの乾燥領域と未乾燥領域との境界の移動を検出する工程と、乾燥後の前記皮膜Ｗの膜厚分布を計測する工程と、前記検出された境界の移動と前記膜厚分布との関係に基づき、前記ディスク基板Ｄの回転数を制御する工程とを具備する。 （もっと読む）

【課題】処理容器の内側面を簡単かつ効果的に洗浄できるようにし、メンテナンス性や信頼性を向上させる。
【解決手段】回転カップ６０を洗浄するときは、基板Ｇの入っていない空のカップ本体６８に蓋体７０を被せた状態で、駆動部６６の回転駆動によりスピンチャック６２と回転カップ６０を適当な回転速度でスピン回転させる。そして、切換弁９０において回転支持軸６４側のポート９０ａを洗浄液供給源８８側のポート９０ｃに切り換えて、洗浄液供給源８８からの洗浄液を回転支持軸６４の流体通路６４ａを介してスピンチャック６２の流体通路９２に送り、スピンチャック６２の裏面側の洗浄液吐出口９４より回転カップ６０の内側面に向けて洗浄液を吐出させる。 （もっと読む）