【課題】アクリル樹脂フィルムを巻き取ったロール状物品とした場合であってもブロッキング性が良好であり、且つ微細構造を有する金型からの高温での離型性に優れたアクリル樹脂フィルム、その製造方法及びそれを使用した再帰反射シートを提供する。
【解決手段】ＡＳＴＭ Ｄ６４８に従って特定条件で熱変形温度（ＨＤＴ）を測定した後の試験片の熱変形量が０．２５ｍｍとなるときのＨＤＴが８０〜１３０℃であるアクリル樹脂（Ａ）１００質量部及び界面活性剤（Ｂ）０．１〜３．８質量部を含有するアクリル樹脂組成物（Ｃ）から得られるアクリル樹脂フィルム、そのアクリル樹脂フィルムの表面に微細構造を有する金型を熱プレスした後に金型からアクリル樹脂フィルムを剥離する、表面に微細構造を有するアクリル樹脂フィルムの製造方法及び表面に微細構造を有するアクリル樹脂フィルムを使用した再帰反射シート。 （もっと読む）

【課題】ガラス・金属との密着性が高い硬化膜が求められている。また、たとえば、半導体集積回路に形成された硬化膜であって、加熱されても、基板界面での膨れや剥離を防ぐことができる硬化膜が求められている。たとえば、半導体集積回路の製造における保護膜の形成にかかる手間や時間を短縮し、消耗品も削減することが求められている。
【解決手段】リン酸エステルを有する化合物（Ａ）と、シランカップリング剤（Ｂ）と、ヒドロキシ基を有するラジカル重合性モノマー（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）と、ヒドロキシ基を有するラジカル重合性モノマー（Ｃ）以外のラジカル重合性モノマー（Ｅ）と、界面活性剤(Ｆ)を含む光ナノインプリント用硬化性組成物により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】インプリント法により、エッチング耐性に優れた高精細なパターンを量産性良く形成する。
【解決手段】基板１０上に、重合性化合物２１と、光又は電子線Ｌ１により活性化する重合開始剤Ｉと、フッ素を含む重合性界面活性剤２２とを含むレジスト組成物２０が複数の液滴として離散的に配置されてなるレジスト層２０ｍを形成し、レジスト層２０ｍに、表面に所定の凹凸パターンを有する鋳型３０の凹凸表面を圧接し、レジスト層２０ｍに光又は電子線Ｌ１を照射してレジスト層２０ｍを硬化させ、鋳型３０をレジスト層４０から剥離する。 （もっと読む）

【課題】インプリント法により、エッチング耐性に優れた高精細なパターンを量産性良く形成する。
【解決手段】基板１０上に、重合により架橋して三次元構造を有する重合体となる多官能単量体を含む重合性化合物２１と、光又は電子線により活性化する重合開始剤Iとを含むレジスト組成物２０からなる（不可避不純物を含んでもよい）レジスト層２０ｍを形成し、レジスト層２０ｍに、表面に所定の凹凸パターンを有する鋳型３０の凹凸表面を圧接し、レジスト層２０ｍに光Ｌ１を照射してレジスト層２０ｍを硬化させ、レジスト層２０ｍの温度が４０℃以上となる条件で鋳型３０をレジスト層２０ｍから剥離する。 （もっと読む）

【課題】光反応性化合物、特に光開始剤、及びアクリレート又はエポキシド等の重合性単官能及び多官能モノマー、を含む硬化性材料を提供する。
【解決手段】本願の材料は、硬化の際前記化合物に共有結合する能力を有する官能基によって完全に又は部分的に終端された、フッ素系界面活性剤を含んでもよい。硬化性化合物は、純粋なアクリレートベースの、又は、アクリレート、エポキシド、又はビニルエーテル等、様々なタイプのモノマーのハイブリッドのどちらかである。重合性モノマーは、フリーラジカル光開始剤又はカチオン性光開始剤等、様々なタイプの光開始剤で硬化されてよく、最終的にアクリレート及びエポキシド等様々なタイプのモノマーの相互貫入ネットワークを含むハイブリッドレジストを形成する。アクリレート／エポキシドハイブリッド系はナノインプリントリソグラフィープロセスの高い忠実度という観点で、改良された複製性能を示した。 （もっと読む）

【課題】パターン精度および基板密着性に優れ、かつ、耐熱性に優れたナノインプリント用組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性単量体および（Ｂ）光重合開始剤を含む硬化性組成物であって、該硬化性組成物を平均厚さが０．５μｍ以上３０μｍ未満の範囲のいずれかとなる硬化膜としたとき、波長３６５ｎｍの光線の透過率が８０％以下となる、光ナノインプリント用硬化性組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】 表示装置に用いても表示ムラの発生しない微細パターンを提供可能なナノインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性単量体および（Ｂ）光重合開始剤を含有し、硬化後の鉛筆硬度が２Ｈ以上である、ナノインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】硬化性が良好であり、経時保存安定性に優れ、特に硬化後のパターン精度低下抑制の観点で経時保存安定性に優れたナノインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性単量体、（Ｂ）光重合開始剤、および（Ｃ）重合禁止剤を含み、かつ、該重合禁止剤の添加量が該重合性単量体に対して重量で３００ｐｐｍ〜５％であることを特徴とするナノインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】スピン塗布やスリット塗布に適していて、微細なパターン形成が可能であり、光硬化後の基板に対する密着性が高くて、レジストの剥離が容易であるナノインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】１官能重合性化合物８７質量％以上と、光重合開始剤とを含むナノインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】基材密着性、モールド剥離性およびエッチング耐性に優れるナノインプリント用組成物を提供する。
【解決手段】多環芳香族構造を有する繰り返し単位（ａ）を含む樹脂を含有することを特徴とするナノインプリント用組成物。（ａ）が下記一般式で表されることを特徴とする。


［式中、Ｒ1は水素原子、置換していてもよいアルキル基またはハロゲン原子を表し、Ｘは単結合または有機連結基を表し、Ｌは置換基を有していてもよい多環芳香族基を表す。］ （もっと読む）

【課題】パターン精度、硬さ等に優れたスペーサーおよびリブ体を同時に形成可能な画像形成方法を提供する。
【解決手段】乾燥後の実質的に溶剤を含まない状態において、（Ａ）反応性の異なる２種類以上の硬化性官能基を同一分子内に有し、かつ、該硬化性官能基の少なくとも１つがα，β−不飽和エステル基である単量体と、（Ｂ）界面活性剤とを含み、かつ、粘度が３〜５０ｍＰａ・ｓの範囲である組成物を用いることを特徴とし、さらに、下記（１）〜（６）の工程を含む画像形成方法。
（１）基板上に前記組成物からなる感光性樹脂層を設ける工程
（２）必要に応じ、感光性樹脂層に、５０〜１５０℃の熱処理を実施し溶剤を除去する工程
（３）少なくとも２種類の形状の異なる凹凸表面を有する型の凹凸表面と、前記感光性樹脂層とを接するように圧着させる工程
（４）感光性樹脂層を光照射する工程
（５）前記凹凸表面を有する型を感光性樹脂層から剥離する工程
（６）必要に応じ、凹凸表面を有する型から剥離した感光性樹脂層を、１６０〜２５０℃で熱処理する工程 （もっと読む）

【課題】親モールドの破損が抑えられ、微細パターンの転写精度が高く、転写の際の圧力を低くでき、かつ硬化性樹脂の使用量が抑えられる、微細パターンを有する物品の製造装置および製造方法を提供する。
【解決手段】親モールド１００の表面に形成された微細パターンを一旦、転写基材１０４に転写して反転パターンを有するレプリカモールドを製造し、ついでレプリカモールドの表面に形成された反転パターンを物品本体１０２の表面に転写して微細パターンを有する物品を製造するに際し、親モールド１００の微細パターンが形成された表面に、第１の供給手段１７から第１の硬化性樹脂を供給し、該第１の硬化性樹脂を、親モールド１００の微細パターンの転写基材１０４への転写に用いる。 （もっと読む）

【課題】パターン転写精度、硬化膜の機械特性（弾性回復率）、および、硬化物の硬度に優れたナノインプリント用硬化性組成物、並びに、これを用いた硬化物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】シルセスキオキサン化合物と、無機微粒子と、を少なくとも含み、更に必要に応じて、エチレン性不飽和結合含有基を１個以上有する重合性不飽和単量体、および重合開始剤を含む組成物を重合することを特徴とするナノインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】ブロック共重合体を利用した半導体素子の微細パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】基板上に複数の反復単位を有するブロック共重合体を含むコーティング層を形成するステップと、複数のリッジ及び溝からなる第１パターンが形成されたモールドを利用して、コーティング層に第１パターンを転写するステップと、モールドの溝内にコーティング層が充填された状態で、コーティング層内のブロック共重合体の反復単位を相分離によって再配列させ、モールドのリッジ及び溝によってガイドされる方向に沿って配向された複数のポリマーブロックからなる自己組立構造を形成するステップと、複数のポリマーブロックのうちの一部のポリマーブロックを除去して、残りの一部のポリマーブロックからなる自己組立微細パターンを形成するステップと、を有する。 （もっと読む）

テンプレートが、表面活性剤に富んだ区域と表面活性剤の減少した区域とを形成するように処理される。表面活性剤に富んだ区域のところの接触角は、表面活性剤の減少した区域の接触角より大きい、小さい、あるいは実質的に同様であることができる。
（もっと読む）

【課題】新規な光硬化性に優れた光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物、それを用いた硬化物作成方法、および、硬化物を提供する。
【解決手段】少なくとも（ａ）重合性不飽和単量体、（ｂ）光重合開始剤、（ｃ）熱硬化性高分子を含み、かつ、塗布可能である、光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物、ならびに、光および熱によって硬化させる硬化物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】光硬化性、密着性、離型性、残膜性、パターン形状、塗布性（Ｉ）、塗布性（ＩＩ）、エッチング適性のいずれにも優れた組成物を提供する。
【解決手段】重合性不飽和単量体を８８〜９９質量％と、光重合開始剤０．１〜１１質量％と、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびフッ素・シリコーン系界面活性剤の少なくとも１種０．００１〜５質量％とを含み、前記重合性不飽和単量体として、分子内にエチレン性不飽和結合を有する部位とヘテロ原子の少なくとも１種を有する部位を含有する１官能重合性不飽和単量体の１種を前記重合性不飽和単量体中１０質量％以上含むことを特徴とする光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物を採用した。 （もっと読む）

【課題】モールドへの付着性が良好な組成物を提供する。
【解決手段】
（ａ）Ｑ−ｅスキームにおける極性因子（ｅ値）が正である重合性化合物を１０質量％以上および前記ｅ値が負である重合性化合物を１０質量％以上含む重合性化合物を合計８８〜９９質量％と、
（ｂ）光重合開始剤０．１〜１０質量％と、
（ｃ）界面活性剤の少なくとも１種０．０００５〜５．０質量％と、
を含む光ナノインプリントリソグラフィ用光硬化性組成物。 （もっと読む）