【課題】非パターン領域からの光漏れや被加工物への異物の付着が防止され、種々のインプリント装置において安定した使用が可能な光インプリント用モールドを提供する。
【解決手段】光インプリント用モールドを、透明な基材（２）と、この基材（２）の表面（２ａ）側に形成された凹凸パターン（３ａ）と、遮光部（６）とを有するものとし、凹凸パターン（３ａ）が形成されたパターン領域（３）を含む所望の光透過領域（５）を画定するように遮光部（６）を配設し、かつ、遮光部（６）を非パターン領域（４）の基材（２）の内部に位置させる。 （もっと読む）

【課題】シランカップリング剤の凝集を抑え、離型層の耐久性が高いインプリント用モールド構造体及びその製造方法、並びに、該インプリント用モールド構造体を用いたインプリント方法及び磁気記録媒体の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のインプリント用モールド構造体は、凹凸面上に、シランカップリング剤（Ａ成分）と、末端に極性基を有する化合物を有する添加剤（Ｂ成分）とを含む離型層を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】三次元のパターンを持つことができる密集する構造を形成する。
【解決手段】本発明は、三次元のナノインプリント装置であって、少なくとも、ａ）表面（Ｘ，Ｙ）を持つ基板（２）と、ｂ）この基板上に、２個ずつの平行な複数のナノトレンチ（６）であって、それぞれのナノトレンチが側壁によって規定され、そして基板に垂直な方向に、側壁の最上部に対して測られたそれぞれ深さｈ１とｈ２＞ｈ１の、少なくとも１つの第１および１つの第２のレベルを有する複数のナノトレンチと、を有し、ｃ）ナノトレンチの最後の深さレベル（ｈ１）における底は第１のタイプの材料に存在し、側壁は第２のタイプの材料に存在し、第１のタイプの材料は、ナノトレンチの壁を形成する第２のタイプの材料に対して選択的にエッチングされることが可能であることを特徴とする装置に関する。 （もっと読む）

【課題】Ｓｉ原盤の凹凸形状に成膜した複版を凸部に欠けが生じることなく剥離し得るモールドおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】表面に微細な凹凸パターンを有するモールド１０の製造方法において、凹凸パターンを有するＳｉ原盤２６の表面に、イオン化傾向が水素よりも小さい金属、例えば、Ｐｔ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ａｕ、ＲｕおよびＰｄから選ばれる少なくとも一種の金属を含む金属膜からなる剥離層１６を形成する剥離層形成工程と、剥離層１６の形成後にモールドを構成する金属基板１２を電鋳形成する電鋳工程と、電鋳工程の後、剥離層１６と金属基板１２とを備える複版をＳｉ原盤２６から剥離する剥離工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】薄膜にスタンパを押し当てて凹凸パターンを形成した場合に、基板表面の隣接する凸部間に実質的に残膜が存在しない凹凸パターン形成方法を提供すること。
【解決手段】基板表面に形成され、硬化性材料を主成分として含む薄膜に、弾性材料から構成される凹凸型が設けられたスタンパを押し当てた状態で、加熱及び／又は光照射を付与することにより、前記基板表面に凹凸パターンを形成する凹凸パターン形成工程を含み、且つ、下式（１）を満たす凹凸パターン形成方法。
・式（１） Ｈ（薄膜）＜Ｈ（凹凸型）＜Ｈ（凸部）
〔式（１）中、Ｈ（薄膜）は、上記凹凸パターン形成工程実施前の上記薄膜の硬度、Ｈ（凹凸型）は上記凹凸型の硬度、Ｈ（凸部）は、上記凹凸パターン形成工程実施後の上記凹凸パターンを構成する凸部の硬度を表す。〕 （もっと読む）

【課題】本発明は、複数回の転写加工成型を好適に行なうことの出来る針状体製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】針状体形状が形成された針状体原版の針状体形状形成側に充填材料を充填する工程と、前記充填材料を硬化させる工程と、硬化させた前記充填材料を前記針状体原版から剥離して針状体用複製版を得る工程と、前記針状体用複製版の針状形状形成側に電離放射線を照射する工程と、を有することを特徴とする針状体用複製版の製造方法であり、さらに、該複製版を使用して針状体を複製する針状体製造方法である。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリント装置におけるインプリント時のレジスト層の残渣を無くして、微細なパターンの形成、高密度なビットパターンド媒体を製作する。
【解決手段】レジストの表面に微小な凹凸パターンを有するモールド４１を押し当てることによって、モールド４１上の突起部４７で凹凸をレジストの表面に転写するナノインプリント装置において、モールド４１の突起部４７の頂面に連続する溝部４８を設けておき、モールド４１をレジストに押し当てる時に、レジストの一部がこの溝部４８内に収容されるようにして、レジスタの残渣が少なくなるようにしたナノインプリント装置である。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、樹脂スタンパの連続転写性を向上させ、高精度で連続転写が可能な微細構造体層を有する微細パターン転写用スタンパ及びその製造方法を提供することにある。
【解決手段】本発明は、支持基材１上に微細構造体層２を有する微細パターン転写用スタンパ３において、前記微細構造体層２は、複数の重合性官能基（ビニル基、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基及び（メタ）アクリル基から選ばれる官能基）を有するシルセスキオキサン誘導体を主成分とする樹脂組成物の重合体であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】二酸化炭素気体の高圧を維持しながら駆動させるための複雑な駆動装置を用いずに、短時間で、樹脂成形体表面に微細な凹凸パターンが形成された金型転写面を高精度に転写できる樹脂成形品を製造する製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】減圧弁１２を開放することによって、密閉容器４内の圧力を大気圧まで減圧させる。この時、樹脂成形体１０１中に含浸された二酸化炭素気体Ｇが金型２を透過して樹脂成形体１０１中から吸引、排出されると共に、この吸引力によって二酸化炭素気体で可塑化された樹脂成形体１０１の表層部が、金型２の方向に吸引されて、金型２の転写面３に形成されたマイクロレンズアレイのパターン形状が高精度で樹脂成形体１０１の表面に転写される。樹脂成形体１０１から二酸化炭素気体Ｇが放出されるため、マイクロレンズアレイのパターン形状が転写された状態で樹脂成形体１０１が固化する。 （もっと読む）

【課題】微細構造の破損または基板に傷を付けにくく、容易に離型が可能であり、高品質の情報記録媒体基板を作製できる、情報記録媒体基板の製造方法を提供する。
【解決手段】情報記録媒体基板の製造方法は、基板基材２上に形成される成形材料３に、凹凸構造１ａを有するモールド１を押し付けて凹凸構造を成形材料３に転写する工程と、モールド１を押し付けた状態で、成形材料３を固化させる工程と、固化した成形材料３から、モールド１を離型する工程とを備え、モールド１を離型する工程は、成形材料３が固化した状態において液体である浸漬用物質４に、成形材料３およびモールド１を浸漬させた状態で行う。 （もっと読む）

【課題】効率的に凹凸シートを製造でき、製造時のエネルギー消費量の低減を図ることもできる凹凸シートの製造装置及び製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の凹凸シートの製造装置は、周面が凹凸形状となっている第１のロール１１と、該ロール１１の凹凸形状と噛み合い形状の凹凸形状を周面に有する第２のロール１２とを備え、第１のロール１１の凹部１５内に係止材１６が配設されている。本発明の凹凸シートの製造方法は、第１のロール１１と第２のロール１２との噛み合わせ部に第１のシート状物１を噛み込ませて第１のシート状物１を凹凸賦形し、噛み込み時に第１のロール１１の凹部１５内に押し込まれた第１のシート状物１１の一部を該凹部１５内の係止材１６に係止させて、第１のロール１１の周面に凹凸賦形された状態のまま保持しつつ、第２のシート状物２を、第１のロール１１における凸部上に位置する第１のシート状物１と接合する。 （もっと読む）

【課題】基材よりはみ出した被転写材を基材側から取り去る転写型を提供する。
【解決手段】表面に穴を中心に同心円状の複数の凹凸構造１１０を備えた円環領域１０３と円環領域１０３を囲む外部領域１０４及び円領域１０５とを有し、円環領域１０３と、円環領域１０３と同一の大きさであって中心に穴を有する円盤状の基材００１との間に配置された被転写材を挟み押圧することで、被転写材に凹凸構造１１０を転写する転写型１００であって、円環領域１０３、外部領域１０４、及び円領域１０５のそれぞれは、被転写材を円環領域１０３から離型させた時点で外部領域１０４及び円領域１０５に被転写材が接着している離型性を有する。 （もっと読む）

【課題】被転写基板の局所的な突起に追従して微細パターンの転写不良領域を縮減することができると共に、微細構造体の破損を防止することができるインプリント装置を提供する。
【解決手段】微細構造体１１１を有するヘッド部１０１が、微細な凹凸形状が形成された微細パターン形成層１０２と、微細パターン形成層１０２の凹凸形状が形成された面の反対側の面に配置された樹脂層１０４と、樹脂層１０４の微細パターン形成層１０２に接する面と反対側の面に配置された第一加圧基材１０６と、第一加圧基材１０６の樹脂層１０４と反対側の面に配置された第二加圧基材１０８とを有するインプリント装置であって、樹脂層１０４の弾性率が微細パターン形成層１０２の弾性率よりも小さく、第一加圧基材１０６の弾性率が、樹脂層１０４の弾性率よりも小さいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、凹凸パターン部へのチッピング等の付着や腐食の少ないパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】本発明は、表面に凹凸パターン部を有する被加工体を用意し、少なくとも上記凹凸パターン部上に、窒化クロムを含むクロム系材料を主成分とする保護層を形成する保護層形成工程と、上記保護層により保護された凹凸パターン部以外の、上記被加工体の部分を加工する加工工程と、を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 微細加工及び経済性に優れた光硬化型のナノインプリント加工装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、凹凸パターンが形成されたモールドにレジストを塗布し、基板と前記レジストとを接触させ、前記レジストを硬化することによって前記パターンの転写されたレジストを基板に転写する加工装置であって、前記レジストを前記基板に接触させる前に、前記凹凸パターンにレジストを侵入させる手段を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 剥離工程における基板表面に塗布された樹脂のムラ及びゴミの付着をなくすこ
とができる剥離方法を提供することにある。
【解決手段】 凹凸形状を有したモールド１と、モールド１の面積と同じ面積の基板２、
若しくはモールド１の面積より小さい基板２の上に塗布され、モールド１と貼り合わされ
た樹脂とを剥離する方法であって、モールド１に圧力を加えることによって、モールド１
を撓ませ、基板２の外周より半径方向にモールド１から樹脂を剥離する。 （もっと読む）

【課題】 ナノインプリント工程を用いて３次元微細パターンや多段パターンを成形する方法とこのようなパターンを成形するためのモールドの製作方法を提供する。
【解決手段】 紫外線を遮断できる遮断膜がパターニングされている基板上にモールド用ポリマーをパターニングすることによって、ナノインプリント工程を適用する上で難が多かった多段インプリント用のモールドを１段形態に容易に製作し、製作された１段形態のモールドを用いて、複雑な工程を数回行うことなく容易に多段形態のパターンを成形することによって、大面積微細パターンの成形、平板ディスプレイに使われる大面積パターンの成形、さらには半導体工程の数十ナノパターンに適用し、工程コスト低減、工程時間短縮及び製造収率向上に寄与できる工程方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 ナノインプリントと乾式エッチング工程とを用いて多様な形態のナノインプリント用のレプリカモールドを製作する方法と製作されたナノインプリント用のレプリカモールドでナノインプリント工程を用いて多段パターンや微細パターンを成形する方法を提供する。
【解決手段】 金属パターンがパターニングされている基板のモールド用レジンをナノインプリントと乾式エッチング工程とを用いて、ナノインプリント工程を適用する上で難が多かった様々な形態のモールドを容易に製作し、複雑な工程を数回行うことなく、製作されたモールドでナノインプリント工程を用いてナノ級パターンや複雑な３次元形状の微細パターンの成形を可能にする工程方法を提供する。これにより、大面積微細パターンの成形及び半導体工程の数十ナノパターンへの適用が可能になり、工程費用の低減、工程時間の短縮及び製造収率の向上が図られる。 （もっと読む）

【課題】型の一方の面に形成されている微細パターンが被成型品に転写されない現象が発生することを防止できる微細パターン転写用型を提供する。
【解決手段】被成型品１１に転写するための微細パターンＰを一方の面２１ａに形成し、且つ、一方の面２１ａと反対側の他方の面２１ｂを平坦に形成した型２１と、微細パターンＰを被成型品１１に転写するときに被成型品１１から受ける反力によって型２１に生じる第１の反りに対して相殺する方向の第２の反りを型２１に予め付与するために、型２１の他方の面２１ｂ上に加熱した状態で接着した後に冷却して収縮により型２１と共に湾曲させた反り補正板２２と、を一体的に備えたことを特徴とする微細パターン転写用型２０を提供する。 （もっと読む）

テンプレート、およびリソグラフィを目的とした、ナノ構造を用いてナノスケールで高アスペクト比テンプレート、スタンプおよびインプリンティングを製造する方法、ならびに材料および製品に穿孔するためのテンプレートの使用。
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