【課題】 モールド欠陥の発生を抑制できるインプリント用モールドを提供すること。
【解決手段】 基板と、前記基板上に設けられ、転写するべきパターンに対応した凹凸パターンと、不純物が添加されていない溶融石英よりも不活性ガスに対する透過性が高いガス透過性領域とを具備してなり、前記不活性ガスに対する透過性は、被処理基板上に塗布されたインプリント剤に前記凹凸パターンを接触させた場合に、前記凹凸パターンとは反対側の面から前記基板内に前記不活性ガスを取り込む性質であり、前記ガス透過性領域は、前記凹凸パターンが形成された面と反対側の面から、前記凹凸パターンが形成された面に向かって、前記不活性ガスに対する透過性が異なる複数の領域を具備することを特徴とするインプリント用モールド。 （もっと読む）

【課題】耐久性が高く優れた離型性を具備したナノインプリント用のモールドと、このようなモールドを簡便に製造するための製造方法を提供する。
【解決手段】ナノインプリント用モールド１を、基材２と、基材２の一方の面２ａを被覆する樹脂層３と、この樹脂層３の面３ａに位置する凹部４とを備えたものとし、樹脂層３を表面の水接触角８０°以上、ＨＶ硬度４００以上とし、このようなナノインプリント用モールド１は、塗布工程にて、基材２の一方の面２ａに少なくともオルガノポリシロキサンと光触媒とを含有してなる塗布液を塗布して濡れ性変化樹脂材料層３′を形成し、乾燥工程にて、濡れ性変化樹脂材料層３′とマスターモールド１１を圧着し、その状態で濡れ性変化樹脂材料層３′に乾燥処理を施して樹脂層３を形成し、剥離工程にて、樹脂層３とマスターモールド１１とを離間することで形成する。 （もっと読む）

【課題】裏側に研削で凹部を形成した場合にマスクブランク用基板の内部に残留する応力を低減し、マスクブランク用基板の表側の平坦度を高く維持する。
【解決手段】インプリントモールドを作製するためのマスクブランクに用いられるマスクブランク用基板を製造する方法である。この製造方法は、対向する第１の主表面ＳＦ１及び第２の主表面ＳＦ２を備える基板１１を準備する工程と、第１の主表面ＳＦ１に小孔ＳＣＶを形成する小孔形成工程と、小孔ＳＣＶの底面ｂｆ１近傍の側壁ｓｄ１を切削して小孔ＳＣＶの底面ｂｆ１を広げる底面拡大工程と、広げられた底面ｂｆ２の上にある小孔の側壁ｓｄ１を除去する側壁除去工程とを備える。底面拡大工程と側壁除去工程とを交互に実施することにより、第１の主表面ＳＦ１に所定の大きさを有する凹部ＣＶを形成する。 （もっと読む）

【課題】精度よく位置合わせを行うことができるインプリントマスク、その製造方法、及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】インプリントマスク１は、石英板１０からなり、石英版１０の上面の一部に複数の凹部１１が形成されており、前記石英板１０における前記凹部１１間の部分が凸部１２となっている。そして、凸部１２、すなわち、凹部１１間の部分には不純物としてガリウム（Ｇａ）が含有されている。このガリウムは、上方からイオン注入されて導入されたものである。これにより、凸部１２内には、ガリウム拡散層１６が形成される。 （もっと読む）

【課題】裏側に研削で凹部を形成した場合にマスクブランク用基板の内部に残留する応力を軽減し、マスクブランク用基板の表側の平坦度を高く維持する。
【解決手段】インプリントモールドを作製するためのマスクブランクに用いられるマスクブランク用基板の製造方法である。この製造方法は、対向する第１の主表面ＳＦ１及び第２の主表面ＳＦ２を備える基板１１を準備する工程と、第１の主表面ＳＦ１における所定の領域を第２の主表面ＳＦ２の方向に研削して、凹部ＳＣＶを形成する研削工程と、凹部ＳＣＶの底面ｂｆ１に対し、第２の主表面ＳＦ２の方向に所定量のエッチングをさらに行い、所定深さの凹部ＣＶを形成するエッチング工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】生産性が高く、テンプレートに欠陥が生じた場合に、欠陥の種類に応じて最適な歩留まりの管理を行うことができるインプリント方法、インプリント装置及びプログラムを提供する。
【解決手段】実施の形態のインプリント方法によれば、テンプレートに形成された凹凸パターンを基板上のインプリント材料に接触させて凹凸パターンをインプリント材料に転写する工程と、転写する工程の後にテンプレート又はインプリント材料に形成された凹凸パターンを撮像する工程とを複数回行う。次に、複数回の撮像する工程によって得られた複数の画像の経時的な変化に基づいて、テンプレートの欠陥の種類を判定する。 （もっと読む）

【課題】均一性の高い離型層をテンプレート表面に形成する。
【解決手段】本実施形態によれば、テンプレートの表面処理方法は、凹凸を有するパターン面を備えたテンプレートの表面を水酸化するか又は前記表面に水を吸着させて、前記表面にＯＨ基を分布させる工程と、前記ＯＨ基が分布したテンプレート表面にカップリング剤を結合させる工程と、を備える。これらの処理は、アミンが所定濃度以下に管理された環境で行われる。 （もっと読む）

【課題】ソフトリソグラフィー又はインプリントリソグラフィーを用いる分離微小構造及
び分離ナノ構造の作製方法を提供すること。
【解決手段】本開示の主題は、フッ化エラストマー系材料の使用、詳細には、マイクロス
ケール及びナノスケールの複製成形、及びエラストマー型を用いて再現性の高い形状生成
するための有機材料の第１のナノ接触成形など、高解像度のソフトリソグラフィー又はイ
ンプリントリソグラフィー用途におけるパーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）系材料の
使用を記載する。したがって、本開示の主題は、ソフトリソグラフィー又はインプリント
リソグラフィー技術を用いて任意の形状の自立分離ナノ構造を製造する方法を記載する。 （もっと読む）

【課題】離型性に優れる原版シートを簡便に製造できる原版シートの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の原版シートの製造方法は、加熱収縮性樹脂フィルムの片面または両面に、表面が平滑な樹脂製の硬質層を形成して、積層シートを得る硬質層形成工程と、前記積層シートを加熱収縮させることにより、硬質層を折り畳むように変形させて、硬質層の表面に凹凸パターンが形成された凹凸パターン形成シートを作製する凹凸パターン形成シート作製工程と、前記凹凸パターン形成シートに形成された凹凸パターンの表面に、金属または金属化合物からなる金属含有層を形成する金属含有層形成工程と、前記金属含有層の露出面に、フッ素系離型剤を含有する離型剤層を形成する離型剤層形成工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】基材との密着性に優れ、転写材樹脂との離型性に優れ、且つ樹脂モールド自体の耐久性に優れた、転写材樹脂への繰り返し転写に耐えうる樹脂モールドを提供すること。
【解決手段】本発明の樹脂モールドは、表面に微細凹凸構造を有する樹脂モールドであって、樹脂モールド表面部のフッ素元素濃度（Ｅｓ）が、樹脂モールドを構成する樹脂中の平均フッ素元素濃度（Ｅｂ）以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表面に微細パターンが形成された熱可塑性樹脂材を熱インプリント法によって効率よく作製できる技術を提供する。
【解決手段】ガラス転移点以上の温度に加温した熱可塑性樹脂材の表面に微細な凹凸パターン形成を行うための耐熱性と強度を併せ持つモールドであって、アルミニウム材の陽極酸化によって形成される表面に規則的なホールアレー構造を有する陽極酸化ポーラスアルミナ層を有することを特徴とする熱インプリント用モールド、およびその製造方法、並びにそのモールドを用いた樹脂材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、パターン部の凹部における樹脂の充填性および離型性が良好なナノインプリントモールドを得ることを主目的とする。
【解決手段】本発明は、凸部および凹部を有するパターン部、ならびに上記凸部の頂部に形成された金属膜を備えるモールド部材を準備し、第一離型剤を用いて、上記凹部の側壁部および底部、ならびに上記金属膜の表面に第一離型層を形成する第一離型層形成工程と、上記第一離型層を表面上に有する上記金属膜を剥離する金属膜剥離工程と、上記金属膜を剥離することにより露出した上記凸部の頂部に、第二離型剤を用いて、上記第一離型層よりも撥液性の高い第二離型層を形成する第二離型層形成工程と、を有することを特徴とするナノインプリントモールドの製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】インプリント装置の構成の複雑化を抑えながらインプリント処理のスループットおよび／または収率を向上させる。
【解決手段】インプリント装置は、基板に樹脂を塗布し該樹脂に型を押し付けた状態で該樹脂を硬化させる。前記型は、ポーラス層を有する。前記インプリント装置は、前記型を保持するチャックと、前記チャックによって保持された前記型の前記ポーラス層から気体が排出されるように前記ポーラス層に気体を供給する供給部とを備える。 （もっと読む）

【課題】ナノサイズの微細構造を有する金型を効率的に製造することができる金型製造装置を提供する。
【解決手段】前記無機薄膜５上にアミノ基、メルカプト基、チオール基、ジスルフィド基、シアノ基、ハロゲン基、スルフォン酸基の１つ以上を含む官能基を有するシランカップリング剤を含有する自己組織化膜４０を形成する自己組織化膜形成部２と、前記自己組織化膜４０の表面を洗浄する洗浄部３と、前記自己組織化膜４０上に通電層４１を形成する通電層形成部４とを備え、前記自己組織化膜形成部２、洗浄部３、および通電層形成部４は不活性ガス雰囲気に保持されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ナノサイズの微細構造を有する金型を容易に製造することができる金型製造方法およびその方法により形成された金型を提供する。
【解決手段】微細構造を有した無機薄膜１上にアミノ基、メルカプト基、チオール基、ジスルフィド基、シアノ基、ハロゲン基、スルフォン酸基の１つ以上を含む官能基を有するシランカップリング剤から構成された自己組織化膜２を形成するステップと、前記自己組織化膜２上に通電層３を形成する通電層形成ステップと、前記通電層３上に電解めっきにより金属膜４を形成するステップとを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】テンプレートを用いて基板上に所定のパターンが形成されるように、当該テンプレートの表面に離型剤を適切に成膜する。
【解決手段】成膜ユニットは、テンプレートＴの転写パターンＣの凸部Ｃ_１上面のみに離型剤Ｓを成膜する離型剤供給部１１２を有している。離型剤供給部１１２は、支持部材１２０を有している。支持部材１２０には、凸部Ｃ_１上面に当接して、当該凸部Ｃ_１上面に離型剤Ｓを塗布する第１のローラ１２１と、第１のローラ１２１と同軸方向に延伸し、当該第１のローラ１２１と当接する第２のローラ１２２と、第２のローラ１２２の表面に液体状の離型剤Ｓを供給する離型剤ノズル１２３と、凸部Ｃ_１上面に塗布された離型剤Ｓに気体を供給し、当該離型剤Ｓを乾燥させる乾燥ノズル１２４と、が支持されている。 （もっと読む）

【課題】ゾルゲル法により硬化性物質を硬化して得られる、表面に微細構造が寸法精度よく形成された硬化物質を含む微細構造体を、生産性よく、大面積で製造する方法の提供。
【解決手段】ゾルゲル法により硬化性物質を硬化して得られる、表面に微細構造が形成された硬化物質を含む微細構造体の製造方法において、前記硬化性物質を含む溶液が、式Ｓｉ（Ｘ^１）_４で表される４官能シラン、式ＲＳｉ（Ｘ^２）_３で表される３官能シラン、含フッ素界面活性剤、有機溶剤、および水を含み、かつ、前記４官能シランに対する前記３官能シランのモル比が、０．０３〜１である。Ｘ^１、Ｘ^２はそれぞれ独立に、炭素数１〜６のアルコキシ基、Ｒは炭素数が１〜１０の置換または非置換の１価有機基（ただし、ケイ素原子と結合する原子は炭素原子である）。 （もっと読む）

【課題】樹脂製のナノインプリント用の型であり、容易に離型可能でその表面が親水化処理された場合にも表面の微細形状の精度が良好な樹脂型を提供する。
【解決手段】樹脂成分（ａ）を含む材料からなる樹脂型であって、樹脂成分（ａ）を、平滑面を有する基材の前記平滑面上に塗布して、乾燥などにより平滑面を有する樹脂層（Ａ）を形成した後、形成した樹脂層（Ａ）の平滑面上に３μＬの水を配置して、ＪＩＳＲ３２５７に準拠して測定される静的接触角（Ｘ１）が、下記条件（１）を満たす樹脂型。条件（１）：転写対象を構成する材料のうちの樹脂成分（ｂ）を、平滑面を有する基材の平滑面上に塗布して、乾燥などにより平滑面を有する樹脂層１１を形成した後、形成した樹脂層１１の平滑面上に３μＬの水１３を配置して、ＪＩＳＲ３２５７に準拠して測定される静的接触角（Ｙ１）と静的接触角（Ｘ１）との差の絶対値Θが２０°〜６０°である。 （もっと読む）

【課題】モールドと樹脂との離型性に優れ、樹脂のパターン欠陥を生じないもしくは低減させたナノインプリント方法、およびそれに用いるモールドを提供する。
【解決手段】凹凸パターン１２を表面に有するモールド１１を、被加工基板１４上の光硬化性樹脂１５に押し付けると共に、前記モールド１１を介して前記光硬化性樹脂１５を感光させる光を照射することによって前記光硬化性樹脂１５を硬化させて前記凹凸パターン１２を転写するナノインプリント方法であって、前記モールド１１表面の表面自由エネルギーと、前記硬化した後の光硬化性樹脂１５表面の表面自由エネルギーとの少なくとも一方の表面自由エネルギーが、５ｍＪ／ｍ²以上で３０ｍＪ／ｍ²以下である。 （もっと読む）

【課題】２つの連続するチップ間の距離を最小化する、所定波長によって支援されるナノインプリントリソグラフィー用のモールドを設計する。
【解決手段】本発明は、所定波長によって支援されるナノインプリントリソグラフィー用のモールドに関する。このモールドは、第１材料製の層を備え、この層は、第１面上に第２の剛体材料製の層を含み、第１面と反対側の面上に第３の剛体材料製の層を含み、第２の剛体材料製の層は、層内にマイクロメートルオーダー又はナノメートルオーダーのパターンを有するｎ個の構造ゾーン（ｎ≧１）が形成され、第３の剛体材料製の層は、層内に、ｎ個の構造ゾーンに対向するｎ個のくぼみが形成され、ｎ個のくぼみは第４材料で充填され、これによりｎ個の部分領域が形成され、所定波長λ_detにおける第３材料の層の透過率は、ｎ個の部分領域いずれの透過率よりも低く、第１、第２、及び第３材料の層の所定波長λ_detにおける透過率は、これらの層を通る所定波長λ_detの光の透過率が、ｎ個の部分領域の任意の１つ、第１材料製の層、及び第２材料製の層を通る光の透過率よりも小さいような透過率である。
本発明は、こうしたモールドを製造する２つの方法にも関する。 （もっと読む）