【課題】マグネシウム／アルミニウムスピネルからなる透光性セラミックスにおいて、紫外線励起により発光しない透光性セラミックスを提供する。
【解決手段】不可避不純物としてのＣｒの含有量を４３０ｐｐｍ以下に調製してなる透光性セラミックスを提案する。このような透光性セラミックスであれば、屈折率が高く、複屈折がなく、しかも紫外線励起により発光することがないから、紫外線を透過させる用途に用いる光学レンズ、例えば半導体露光装置に用いるレンズ材料として好適である。 （もっと読む）

【課題】二酸化チタンを主成分とした高屈折率の薄膜をＤＣスパッタリング法で形成する際に、従来有していた成膜速度が極めて遅く生産性が非常に悪いという欠点を解消しようとするスパッタリングターゲット。
【解決手段】主成分がＴｉＯ_X （１＜Ｘ＜２）で、かつ、室温での比抵抗が０．６５Ωｃｍ以下であり、二酸化チタン粉末を非酸化雰囲気でホットプレスして焼結することにより形成される酸化物焼結体スパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】着色ジルコニア焼結体において、着色及び焼結体強度にばらつきがなく、製造工程の色移りの汚染を気にすることがなく、なおかつ均一な着色、強度のジルコニアを提供し得る着色ジルコニア用粉末、及びそれを用いたジルコニア焼結体の提供。
【解決手段】 着色剤としてＦｅ−Ｙ複合酸化物を用いたジルコニア粉末を用いた場合、焼結体製造工程における色移りの問題がなく、最終的な焼結体の着色が均一であり、なおかつ強度の低下がない。用いるジルコニア粉末としてはＹ_２Ｏ_３を１．５〜６．０ｗｔ％、Ａｌ_２Ｏ_３を０．０〜１．０ｗｔ％を含んでなるジルコニア粉末、着色剤としてはＦｅ−Ｙ複合酸化物の含有量が０．０１〜１０ｗｔ％を用いることが好ましい。Ｆｅ−Ｙ複合酸化物としてはＦｅＹＯ_３であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】導電性が高い透明導電膜を提供する。
【解決手段】Ｇａ、ＴｉおよびＯから実質的になる透明導電膜。ＧａおよびＴｉの合計量（モル）に対し、Ｔｉの量（モル）が０．０２以上０．９８以下である前記の透明導電膜。Ｇａ、ＴｉおよびＯから実質的になる焼結体。ＧａおよびＴｉの合計量（モル）に対し、Ｔｉの量（モル）が０．０２以上０．９８以下である前記の焼結体。チタンを含有する粉末と、ガリウムを含有する粉末とを混合して得られる混合物を成形して成形体を得、該成形体を焼結することにより得られる前記の焼結体。前記の焼結体をターゲットとして、パルス・レーザー蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法およびＥＢ蒸着法から選ばれる方法により成膜する透明導電膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】光記録媒体の保護膜を形成するための高強度スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】モル％で、酸化ジルコニウムまたは酸化ハフニウム：１０〜7０％、二酸化ケイ素：５０％以下（０％を含まず）を含有し、必要に応じて酸化イットリウム：０．１〜８．４％を含有し、残部：酸化アルミニウム、酸化ランタンまたは酸化インジウムおよび不可避不純物からなる組成を有する光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲットにおいて、ターゲット素地中にＡｌ_６Ｓｉ_２Ｏ_１３、Ｌａ_２ＳｉＯ_５またはＩｎ_２Ｓｉ_２Ｏ_７の組成を有する複合酸化物相が生成している組織を有する高強度光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲット。 （もっと読む）

本発明は、スパッタ材料がＮｂ₂Ｏ₅ １５〜６０mol％を含有する、ＴｉＯ₂をベースとするスパッタ材料を含有するスパッタターゲットに関する。さらに、次の工程：・ＴｉＯ₂粉末及びＮｂ₂Ｏ₅粉末を液状スリップ中で混合する工程 ・このスリップを噴霧造粒してＴｉＯ₂：Ｎｂ₂Ｏ₅混合酸化物グラニュールにする工程 ・このグラニュールをスパッタターゲット基体上へプラズマ溶射する工程を有するスパッタターゲットの製造方法に関する。
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【課題】各種電子機器、情報機器のディスプレイなどに使用される無機エレクトロルミネッセンス素子（以下、無機ＥＬ素子という）を構成する酸化ジルコニウム系バリア膜を提供する。
【解決手段】酸化イットリウム：１〜１２モル％を含有し、さらに必要に応じて二酸化珪素：１〜５０モル％および／または酸化アルミニウム：１〜５０モル％を二酸化珪素＋酸化アルミニウム≦６６モル％含有し、残部が酸化ジルコニウムおよび不可避不純物からなる組成を有する無機ＥＬ素子用酸化ジルコニウム系バリア膜。 （もっと読む）

【課題】 酸化チタン系薄膜の成膜において、スパッタリング中における、異常放電の発生、クラックや割れの発生を抑制しうるスパッタリングターゲット、およびその原料となる酸化チタン系焼結体を提供する。
【解決手段】 比表面積が１〜１５ｍ²／ｇの原料粉を混合、粉砕した後に、スラリーを急速乾燥造粒し、得られた造粒物を８００〜１２００℃にて３０分間〜５時間、９．８ＰＭａ以上の焼結条件で焼結させることにより、元素周期表上５Ａ族元素、６Ａ族元素の少なくとも一種からなる金属Ｍを、原子比でＭ／（Ｔｉ＋Ｍ）が０．００２〜０．１５の割合となるように含み、かつ、Ｍ_xＯ_yで表される酸化物が存在せず、相対密度で９５％以上、比抵抗が５０Ωｃｍ以下であり、平均結晶粒径が５μｍ以下である酸化チタン系焼結体を得る。 （もっと読む）

【課題】従来の透明性を有するジルコニアの多結晶質焼結体はチタニアなどの添加物が必要であったが、それらの添加物を含有する焼結体では、プラズマ耐性、屈折率、強度等に問題があった。
【解決手段】安定化剤としてイットリア主成分とするジルコニア粉末を常圧焼結した密度９５％以上の一次焼結体を温度１６００〜１９００℃、圧力５０ＭＰａ以上で半密閉状態の容器内に設置してＨＩＰ処理（二次焼結）し、必要に応じて酸化雰囲気中で加熱処理することにより、直線透過率が５０％以上の高い透明性を有するジルコニアの多結晶質焼結体を製造する。 （もっと読む）

【課題】オプトセラミックから成る光学素子の提供。
【解決手段】屈折性、透過性あるいは回析性を有する光学素子が、下記式、（１−ｍ）｛ｚ１［ＺｒＯ_２］ｚ２［ＨｆＯ_２］（１−ｚ１−ｚ２）［Ｘ_２Ｏ_３］｝ｍ［Ａ］または（１−ｍ）｛ｚ１［ＺｒＯ_２］ｚ２［ＨｆＯ_２］（１−ｚ１−ｚ２）［ＭＯ］｝ｍ［Ａ］、で表され、 式中、ｚ１＋ｚ２は０．９２以下、好ましくは０．９０以下の数であり、ｚ１、ｚ２及びｍは０またはそれ以上の数であり、及びｍは０．１０未満、好ましくは０．０６未満、最も好ましくは０または０の近似値であり、ＸはＹ、Ｓｃ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ及びＬｕから選択され、ＭはＣａ及びＭｇから選択され、及びＡは特にＳｉＯ_２、Ｎａ_２ＯあるいはＴｉＯ_２から選択される１または２種以上の付加成分である、で表すことができる微結晶がＺｒＯ_２型の立方晶結晶構造を持つ。 （もっと読む）

【課題】１ミクロンより小さな平均粒径を有するマルチカチオンセラミックの製造方法を提供する。
【解決手段】第１のカチオンを含む第１の材料および第２のカチオンを含む第２の材料を含む混合物を形成する。第１のカチオンおよび第２のカチオンが互いに異なり、第１の材料および第２の材料の各々はナノパウダである。混合物からなま地を形成し、第１のカチオンおよび第２のカチオンを含む緻密なマルチカチオンセラミック材料を形成する。この緻密なマルチカチオンセラミック材料は、第１のカチオンおよび第２のカチオンを含む主要相を含み、それは第１の材料および第２の材料と異なる。このマルチカチオンセラミック材料は高密度および高インライン透過率を有する。 （もっと読む）

【課題】硬化性スラリーを用いた、基材上へのセラミック微細構造体の形成方法の提供。
【解決手段】セラミックの微細構造体の製造方法であって、微細構造化表面を有する型を準備する工程、微細構造化表面と基材表面の間に、スラリーが前記型の微細構造化表面を実質的に充填するようにスラリーを充填する工程、放射線硬化、電子線硬化、熱硬化、または、溶融状態からの冷却により前記スラリーを固化して、前記基材に付着する未加工状態の材料を形成する工程、ここで、前記スラリーは、セラミック粉末と、バインダーと、前記バインダーが固化したときに、このバインダーから相分離する希釈剤を含んでいる、
および、前記型を除去する工程を含む、方法。この方法の実施態様として、前記希釈剤（ｃ）の前記消失性結合剤（ｂ）に対する成分比が１：３以上である。又、バインダーが、アクリレートおよびエポキシ樹脂からなる材料から選択される。バインダーが、アクリレートである。 （もっと読む）

【課題】 透光性材料を空間充填率が高く、光学散乱の少ない光透過率に優れたものとする。
【解決手段】 液相合成により粒子を合成後、この粒子を乾燥させることなく、溶液を入れ替えて、ここに、Al₂O₃、イットリウム酸化物、シリコン酸化物、イットリウム・シリコン複合酸化物、アルミニウム・シリコン複合酸化物あるいは前記粒子の融点と比較して低い融点をもつガーネット構造を有する化合物群から選ばれる少なくとも一種類以上からなる粒界相の組成を含む溶液あるいは沈殿を含む液を導入する。粒子の表面に粒界相の組成を含む溶液あるいは沈殿を含む液を付着成長させて活性化微粒子を調整し、この活性化微粒子を溶液中で３次元配列させて成型体とし、この成型体を焼結させる。 （もっと読む）

【課題】 偏光性が小さく、高熱伝導性で安価なスピネル焼結体を提供する。また、有用な発光装置用の光透過窓および光透過レンズを提供する。
【解決手段】 本発明のスピネル焼結体は、偏光方向が平行である２枚の偏光板に挟まれた配置での光透過量を、偏光方向が直交する２枚の偏光板に挟まれた配置での光透過量で除した商をコントラスト値とするとき、白色光によるコントラスト値が３００以上であることを特徴とし、コントラスト値は、１０００以上のものが好ましい。この焼結体は、組成が、ＭｇＯ・ｎＡｌ₂Ｏ₃であり、ｎが、１．０５〜１.３０であるものが好ましく、ｎは、１．０７〜１．１２５であるものがより好ましい。 （もっと読む）

本発明は、酸化チタンと、酸化ガドリニウムおよび／または酸化ジスプロシウムとを含む、高屈折率光学層を製造するための蒸着材料、その調製方法、およびその使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、球形の二成分および多成分混合酸化物粉末を高温壁反応器において製造するための新規な方法に関する。限定された塩または固体濃度を有する水性の、または有機塩溶液または懸濁液を、発熱分解反応を有する界面活性剤および／または無機塩の形態での添加剤と組み合わせて用いることにより、密集した球形の粒子形態を得ることができ、ここで平均粒度は、５ｎｍ〜＜１０μｍの範囲内である。
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【課題】 ランタンで修飾されたチタン酸ジルコニウム鉛（ＰＬＺＴ）の層を形成する方法等を提供する。
【解決手段】 ＰＬＺＴの層を形成する方法は、（ａ）材料の層を形成するために、鉛の原子、ランタンの原子、ジルコニウムの原子、チタンの原子、及び一つ以上のジオールの化合物を含む溶液で基体を被覆するステップ、（ｂ）第一の時間周期の間に室温より上の且つ４００℃以下の温度まで該材料の層を加熱するステップ、及び（ｃ）その後、続いて第二の時間周期の間に酸素が豊富な雰囲気で５００℃以上の温度まで該材料の層を加熱するステップを含む。 （もっと読む）

本発明は、金属間酸化物系透明セラミック材料を調製するための方法であって、（Ａ）金属間酸化物の異なる金属カチオンの有機塩の均質な混合物を含有する粒子（ｐ₀）を酸化焼成することにより該金属間酸化物に基づく粒子（ｐ）を合成する工程、（Ｂ）こうして得られた粒子（ｐ）からフィルタープレス法を用いて成形物（Ｍ）を生成する工程、及び（Ｃ）該成形物（Ｍ）を熱処理（焼結）する工程を含む方法に関する。本発明はまた、本方法によって得られた透明酸化物に基づく材料、特にはネオジムなどのランタニドをドープしたＹ₃Ａｌ₅Ｏ₁₂（ＹＡＧ）に基づく透明セラミック材料、及び当該材料の特にはレーザー増幅のための使用に関する。 （もっと読む）

一般式：Ｂａ｛Ｔｉ_ｘ１Ｍ_ｘ２（Ｍｇ_１−ｔＺｎ_ｔ）_ｙ（Ｔａ_１−ｕＮｂ_ｕ）_ｚ｝_ｖＯ_ｗ（ただし、Ｍは、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種であり、ｘ１＋ｘ２＋ｙ＋ｚ＝１であって、０．０１５≦ｘ１＋ｘ２≦０．９０、０＜ｘ１≦０．９０、０≦ｘ２≦０．６０、１．６０≦ｚ／ｙ≦２．４０、１．００≦ｖ≦１．０５、０＜ｔ＜１、および０≦ｕ≦１の各条件を満足し、ｗは電気的中性を保つための正の数である。）で表される組成を主成分とする、透光性セラミック。この透光性セラミックは、直線透過率が広い波長帯域にわたり高く、
屈折率が高く、屈折率およびアッベ数の調整範囲が広く、複屈折がないため、これを用いて構成されたレンズ（２）は、小型化および薄型化が要求される、たとえば光ピックアップ（９）等に有利に適用できる。 （もっと読む）