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Fターム[4G047JB01]の内容

重金属無機化合物 (11,210) | 材料のマクロ、ミクロ構造、物性の特定 (138) | 物性、不純物量の特定 (10)

Fターム[4G047JB01]に分類される特許

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【課題】ハロゲン元素を含む原料を供給するMBE法又はMOCVD法により、基板がエッチングされることなく、また、基板の種類に依存せず、薄膜を基板上に成長させることができる薄膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】ハロゲン元素を含む原料を供給するMBE法又はMOCVD法により、薄膜を基板上に成長させる薄膜製造方法であって、前記薄膜を成長させるとき、前記薄膜を構成する原料とともに、Ga、B、Al、In、Tl、F、Cl、Br、及びIから成る群から選ばれる1種以上を供給することを特徴とする薄膜製造方法。 (もっと読む)


【課題】ベッド層をMOD法により形成することによりIBAD層の配向性を向上させる。
【解決手段】電解研磨基板1上に、MOD−CZO層2、IBS−GZO3、IBAD−MgO層4、LMO層5、PLD−CeO層6及びPLD−GdBCO超電導層8を順次成膜した超電導線材10において、CeO層はΔφ=4.1deg.と機械研磨基板の場合と同程度の配向性を示し、GdBCO超電導層はIc=249A(Jc〜5MA/cm)と機械研磨基板を用いた場合と同程度のIc値を示す。 (もっと読む)


【課題】ベッド層をMOD法により形成することによりIBAD層の配向性を向上させる。
【解決手段】電解研磨基板1上に、酸素雰囲気中でMOD−CZO層2、IBS−GZO3、IBAD−MgO層4、LMO層5、PLD−CeO層6及びPLD−GdBCO超電導層8を順次成膜した超電導線材10において、CeO層はΔφ=4.2deg.と機械研磨基板の場合と同程度の配向性を示し、GdBCO超電導層はIc=243A(Jc〜5MA/cm)と機械研磨基板を用いた場合と同程度のIc値を示す。 (もっと読む)


【課題】有機酸塩法により、粒子径が小さく、しかも粒度が揃った酸化物微粒子粉末が得られる酸化物微粒子粉末の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の酸化物微粒子粉末の製造方法は、金属錯体ゲルの乾燥粉を、第1の雰囲気下で熱処理して焼成粉を得る第1工程と、焼成粉を、第1の雰囲気よりも酸素濃度が高い第2の雰囲気下で熱処理して酸化物微粒子粉末を得る第2工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】SiC単独添加したMgB超電導体あるいはベンゼン等の芳香族炭化水素単独添加したMgB超電導体の臨界電流密度(Jc)よりも高い臨界電流密度(Jc)を有するMgB超電導体の製造方法およびMgB超電導体を提供する。
【解決手段】Mg粉末またはMgH粉末とB粉末との混合物を加圧成形して熱処理するMgB超伝導体の製造方法において、混合物に芳香族炭化水素とSiCを添加する。芳香族炭化水素は、エチルトルエンであり、SiCは平均粒径が10〜30nmであることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ペロブスカイト型銅酸化物において、100Kを超える高温超電導体が見出され
ているが、まだ、室温超伝導体は見出されていない。
【解決手段】化学式LaFeOPh(Phは、P、As及びSbのうちの少なくとも1種
)で示され、ZrCuSiAs型(空間群P4/nmm)の結晶構造を有する化合物で超
伝導転移を見出した。LaFeOPhは、一般化学式LnMOPn(Mは遷移金属)で示
される遷移金属イオンを骨格構造に有する層状構造化合物群の一員である。ここで、Ln
は、Y及び希土類金属元素(La,Ce,Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,
Ho,Er,Tm、Yb,Lu)の少なくとも一種であり、Mは,遷移金属元素(Fe,
Ru,Os)の少なくとも一種であり、Pnは、プニクタイド元素(N,P,As,Sb
)の少なくとも一種である。この化合物はFイオンの添加などにより、キャリア数を変化
させ、転移温度を制御できる。 (もっと読む)


【課題】電流がより流れやすいBi2223超電導線材とし、臨界電流値を向上する超電導線材を提供する。
【解決手段】超電導線材10は、Bi2223相よりなる超電導結晶を含む超電導線材であって、a−b面に平行な断面におけるBi2223相よりなる超電導結晶の平均粒径が20μm以上であり、21.1μm以上とすることが好ましい。また、Bi2223相よりなる超電導結晶のXRDロッキングカーブで測定された(0.0.24)ピークのFWHMが18°以下である。また、Bi2212相よりなる超電導結晶をさらに含み、X線回折によりθ/2θスキャン法で測定されるBi2223相およびBi2212相のピーク強度において、Bi2223(0.0.14)/(Bi2223(0.0.14)+Bi2212(0.0.12))により求められる値が0.95以上である。 (もっと読む)


前駆体フィルムを形成するために基材の上に前駆体溶液を堆積させる工程を含む厚膜フィルムの製造方法に関する。前駆体溶液は、1種以上の溶媒に希土類元素の塩、アルカリ土類金属の塩、遷移金属の塩を含む希土類−アルカリ土類金属−遷移金属酸化物の前駆体成分を含有する溶液であって、前記塩の少なくとも1種がフッ素含有塩であり、遷移金属のアルカリ土類金属に対する比率が1.5以上であることを特徴とする。前駆体溶液は、希土類−アルカリ土類金属−遷移金属酸化物超伝導体フィルムを形成するために処理される。
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【課題】複数のLn系超電導体の原料溶液を混合することによって得られる混合超電導体膜の格子定数を調整することができ、基板上に厚膜を形成したときにc軸配向粒子を高い比率で含み、高い特性を示す酸化物超電導体を提供することにある。
【解決手段】主成分が一般式LnBa2Cu37-x(ここで、LnはGd,Tb,Dy,Ho,Er,TmおよびYからなる群より選択される2種以上であり、各々の元素の含有率は10〜90モル%である)で表され、モル比で銅の10-2〜10-6のフッ素を含む酸化物超電導体。 (もっと読む)


ドープされたiX−Ba−Cu−O材料を製造する方法であって、この方法は、
a)X−Ba−L−O又はX−Ba−Cu−L−O材料をX−1−Ba−Cu−O材料と混合するステップと、
b)この混合物を結晶化するステップとを含み、
ただし、1各Xは希土類(IIIB族)元素、イットリウム、希土類元素の組み合わせ又はイットリウムと希土類元素との組み合わせから個別に選択され、各LはU、Nb、Ta、Mo、W、Zr、Hf、Ag、Pt、Ru及びSnから選択される、ドープされたiX−Ba−Cu−O材料を製造する方法。本発明はさらに、本発明の方法によって製造されるドープされた材料を提供する。
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