【課題】ガラス材料の表面に形成された微細な凹凸を強固に固定して撥水性能を高めると共に、比較的簡易に製造することができる撥水性ガラス材料及びその製造方法を提供する。
【解決手段】オルガノシランを含有するシランカップリング剤をガラス材料表面に塗着するシランカップリング剤塗着工程と、シランカップリング剤が塗着されたガラス材料表面に改質物質を含む燃料ガスの火炎を吹き付けてガラス材料表面に改質物質を分散させる表面改質工程と、改質物質が分散されたガラス材料表面にフッ素樹脂ポリマーを含有する撥水剤を塗着する撥水剤塗着工程とを含む製造方法からなり、厚さ１．２ｍｍで波長３５０ｎｍ付近の透過率が７５％以上、波長３６０〜７００ｎｍの透過率が８０％以上を満たし、蒸留水の水滴の接触角が１２５°以上を満たすような表面を有する。 （もっと読む）

【課題】 光学的機能を有する部分に与えるダメージを最小限にしつつ、光学素子の高精度の組立を可能にし履歴等の情報管理を容易にする光学素子を提供すること。
【解決手段】 フランジ部分１１２は、環状の一部に情報マークＭ１１３を埋め込んだものとなっている。このマークＭ１１３は、対物レンズ本体１０１の光軸方向から観察することができるだけでなく、光軸方向に対して傾いた方向からも観察し易いものなっている。この情報マークＭ１１３は、平面的な広がりを有する矩形領域に形成されている。情報マークＭ１１３は、文字、記号、図形、模様等を含むもので、例えばコード化されされた１次元バーコード、２次元バーコード等とすることができる。情報マークＭ１１３は、レーザを利用してフランジ部分１１２の内部の所定深さに形成されたドット状の変性領域やドット状のクラック領域の集合体である。 （もっと読む）

【課題】表示品位の高い液晶カラーフィルタを印刷法にて製造する為の凹版を、感光性材料を用いて、技術的に容易に且つ安価に提供する。
【解決手段】（１）ガラスペーストをベース基板３１に均一に塗布する工程、（２）ガラスペーストを高温で焼成し、低融点ガラス層３２を形成する工程、（３）該低融点ガラス層３２の表面にフォトリソ工程にてエッチングマスク３４を形成する工程、（４）該低融点ガラス層３２をエッチング加工して所望のパターン形状３３の開口を形成する工程、（５）前記エッチングマスク３４を剥離する工程、上記工程により処理することを特徴とする凹版の製造方法。 （もっと読む）

【課題】表示品位の高い液晶カラーフィルターの印刷に使用する硝子凹版において、硝子のエッチングのマスク材に使用する金属膜の制御により、高精細のかつ印刷性の高い版深をもつ刷版を、技術的に容易に且つ安価に提供すること。
【解決手段】反転印刷用の凹版であって、この凹版に十分な印刷性を与える為に、硝子基板をウェットエッチングして形成する凹版において、マスキング層を制御することで硝子凹版の欠陥の発生を抑制する。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、微細で均一な深溝を形成する無機材料の加工方法及び加工装置を提供することである。
【解決手段】 （Ａ）パルスレーザー光をパルス毎の照射範囲の一部が重なりあうように照射することで無機材料基板に連続する亀裂を生じさせるとともに該亀裂の周辺部に変質領域を形成させる工程、及び（Ｂ）該変質領域をエッチング処理する工程を含む無機材料の加工方法である。 （もっと読む）

【課題】２０〜４０μｍ大の円形ガラスビードを利用して立体感を有するエッチング効果を得られるようにしたガラス板およびその紋様成型方法を提供する。
【解決手段】ガラス板の表面にガラスビードが混合されたシリコンオイルでシルクスクリーン印刷技法によりエッチング効果を得られるようにする紋様に印刷して、円形のガラスビードがガラス表面に蒸着されるようにした後、６００〜７５０℃の温度で加熱して円形ガラスビードがガラス表面に融着されるようにして、ガラスビードによりガラス表面がエッチングされたような効果を得られるようにしたものである。 （もっと読む）

【課題】マスクブランクス用ガラス基板表面における転写に影響のない領域の表面にレーザ光を照射させ、融解又は昇華させることにより、前記マスクブランクス用ガラス基板を識別するためのマーカとして用いられる凹部を形成するマーキング工程を備えるマスクブランク用ガラス基板の製造方法において、レーザ光照射による凹部の形成によって該凹部の表面に発生する微細な表面荒れに伴う諸問題を解消する。
【解決手段】 前記マーキング工程おけるレーザ照射中に、レーザ照射光周辺の雰囲気を介してレーザ照射部及びその周辺部に供給される物質であって、かつ、レーザ光照射による凹部の形成によって該凹部の表面に発生する微細な表面荒れを生じさせる原因物質を、レーザ照射部及びその周辺部から排除した状態とし、かつこの状態でレーザ光照射によるマーキングを実施する工程を備える。 （もっと読む）

【課題】 支持板上に設置されたワークに対し加熱が可能で、光源位置に制約を受けない光照射型熱板の提供。
【解決手段】 支持板１０上に設置されたワーク２を加熱可能な光照射型熱板１において、複数の光伝達媒体１００により光源１０１と光学的に接続されてる前記支持板１０と、前記支持板１０に接して配置され複数のヒーター１１０を含む熱板１１と、熱板１１内の適当な位置に配置される温度センサー１１２とで構成し、前記光源１０１を光コントローラ１０２で制御、前記ヒーター１１０を電力コントローラ１１１、ＣＰＵ１１３で制御する。 （もっと読む）

【課題】被覆ガラス層を部分的に除去することなく、表面平滑な凹凸パターンを形成することができ、生産性を向上させることができるセラミックス製品及びそのエッチング方法を提供すること。
【解決手段】セラミックス製品１は、セラミックス基材２と、セラミックス基材２の表面に形成した被覆ガラス層３とを備え、被覆ガラス層３に凹凸パターン７を形成してなる。凹凸パターン７は、被覆ガラス層３を構成する基礎ガラスに、五酸化バナジウムを３〜２０ｗｔ％含むエッチング用ガラスをエッチングし、８５０〜９５０℃の温度で加熱焼成して形成してある。凹凸パターン７における表面図柄の断面形状は、エッチング用ガラスをエッチングしたことにより、平坦状の模様中心部７１と、模様中心部７１の両脇に形成された凹部７２と、凹部７２の外側に隣接形成された凸部７３とを備えている。 （もっと読む）

【課題】図９に示すような「レーザ光照射による凹部の形成によって該凹部の表面に発生する表面荒れ」に伴う諸問題を解消する。
【解決手段】マスクブランクス用ガラス基板表面における転写に影響のない領域の基板表面にレーザ光を照射させて、融解又は昇華させることにより、前記マスクブランクス用ガラス基板を識別するためのマーカとして用いられる凹部を形成するマーキング工程を備えるマスクブランク用ガラス基板の製造方法であって、
レーザ光照射によってマーキングを行おうとする箇所及びその周辺の基板表面を、「レーザ光照射による凹部の形成によって該凹部の表面に発生する表面荒れ」（図９参照）を生じさせる原因物質を排除した表面状態とし、かつこの状態でレーザ光照射によるマーキングを実施する工程を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 均一な突起高さを有する表面凸部を非晶質材料の所望位置に形成することができるようにする非晶質材料の加工方法を提案する。
【解決手段】 非晶質材料の硬度よりも大きな硬度を有する微粒子を、前記非晶質材料の表面に部分的に衝突させて、高密度化された圧縮層を形成し、次いで該圧縮層と該圧縮層以外の非圧縮層とで除去能力の異なる処理剤を使用して前記非晶質材料の表層面を除去し、前記圧縮層を凸形状に加工することを特徴とする非晶質材料の加工方法である。 （もっと読む）

【課題】 所望の形状で、かつ、各凹部間で形状のばらつきが小さい凹部を有する凹部付き基板を提供すること、そのような凹部付き基板を効率良く製造することが可能な凹部付き基板の製造方法を提供すること、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタを提供すること。
【解決手段】 本発明の凹部付き基板の製造方法は、凹部を有する凹部付き基板の製造方法であって、基板上に、多数の初期孔を有するマスクを形成するマスク形成工程と、オーバーフローによってエッチング液を循環させつつ、エッチング液により、前記マスクが形成された基板をエッチングするエッチング工程とを有し、平面視したときの、形成すべき凹部の中心から、凹部の周縁部までの最大長さが２０μｍ未満であり、エッチング工程におけるエッチング液の循環速度が、５４ｃｍ／ｍｉｎ以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス材料薄板からなる基板の両面に、基板表面の垂直方向の同軸方向に少なくとも一対の隆起部を備えたガラス基板とその製造方法を提供することを主な目的とする。
【解決手段】熱処理により体積が増加するガラス材料の薄板からなり、その表裏両面に垂直な方向に同軸上に少なくとも一対の凸部を備えたことを特徴とするガラス基板。 （もっと読む）

【課題】 所望の形状で、かつ、各凹部間で形状のばらつきが小さい凹部を有する凹部付き基板を提供すること、そのような凹部付き基板を効率良く製造することが可能な凹部付き基板の製造方法を提供すること、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタを提供すること。
【解決手段】 平面視した際の幅が４０μｍ以上の多数の凹部を有する凹部付き基板の製造方法であって、ガラス基板上に、マスク形成用膜を形成する工程と、マスク形成用膜に初期孔を形成し、マスクを形成するマスク形成工程と、オーバーフローによってエッチング液を循環させて、マスクが形成されたガラス基板にエッチング液を供給し、エッチングを施すエッチング工程とを有し、エッチング液の循環速度が、５〜２８ｃｍ／ｍｉｎであることを特徴とする。マスクの平均厚さは、５〜５００ｎｍである。 （もっと読む）

【課題】 ガラス薄膜化時、表面から数μｍの厚さに到達した時点で、所定の膜厚に到達したことを検知する方法及び所定の膜厚までガラス基板を薄膜化する方法を提供する。
【解決手段】 電子線照射でガラス基板の一方の面の表面から所定の厚みまでポーラス構造を形成した後、基板の他方の面から薄膜化加工を行い、薄膜化加工表面がポーラス構造に到達したときの薄膜加工表面の変化により薄膜化加工表面がポーラス構造に到達したことを検知する方法、該検知方法を用いて基板を所定の膜厚まで薄膜化するガラス基板の薄膜化方法、及び、ガラス基板表面に付着した異物をガラス面側から分析するための薄膜化方法であって、電子線照射によりガラス基板の異物が付着した表面から所定の厚みまでポーラス構造を形成し、該検知方法を用いて所定の膜厚まで薄膜化した後、イオンエッチングにより異物のガラス基板に接する面が露出するまで薄膜化するガラス基板の薄膜化方法。 （もっと読む）

【課題】 端面部分の形状、両主表面の平行度及び板厚の均一性が良好な磁気ディスク用ガラス基板を低廉なコストにより提供し、廉価な磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを大量に提供する。
【解決手段】 円柱状ガラス母材３をその中心軸に対して垂直に切断処理してガラスディスクを作製する工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、円柱状ガラス母材３の側面部は、前記工程時に、砂目または梨地面となっている。 （もっと読む）

【課題】ブラスト法とエッチング法とを組合せてディスプレイパネルの隔壁を効率良く形成する。
【解決手段】パネル１の表面全面にわたって所定の厚さのエッチング用被膜２を設ける工程と、エッチング用被膜２の設けられた上面側に所定の厚さを有する感光性被膜３’を設けるとともに、この上面側に隔壁パターン５１、５５の形成されたマスターシート５を設置して感光性被膜３’を露光させて隔壁パターンの転写されたブラスト用マスキング被膜３を形成させる工程と、ブラスト用マスキング被膜３の上面側から所定のブラスト加工を施して所定の深さのキャビティ１１を形成させる工程と、所定の深さのキャビティ１１を有する半製品状態のものを所定のエッチング液４の満たされた槽４４内に浸してキャビティ１１の内面側をエッチング処理する工程と、エッチング用被膜２及びブラスト用マスキング被膜３の除去、並びにパネル１全体を乾燥させる工程と、からなる。 （もっと読む）

【課題】表面に高精度で微細パターンが形成された基板を得ることができ、かつプロセス条件や材料選択の自由度の大きな薄膜形成基板の製造方法を提供する。
【解決手段】表面に凹凸パターンを有する金型用基板１上に単層または多層の薄膜２を成膜する成膜工程と、この金型用基板１と加熱により軟化する材料からなる被転写基板３とを上記薄膜２を介して加熱加圧する加熱加圧工程と、少なくとも被転写基板３の一部が上記薄膜２により被覆された状態とするために金型用基板１を除去する基板除去工程とを含む方法からなる。 （もっと読む）

【課題】 曲面上にも高精度に製造可能で反射防止効果が良好で均一な反射防止構造体を備えるレンズ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 反射を抑制すべき光が入射する表面に、反射防止構造体を備える部材であって、反射防止構造体は、多角形を底面とするアスペクト比が１以上の錐形状を構造単位とし、各構造単位が、反射を抑制すべき光の波長以下のピッチで、底面同士が互いの辺を共有することなく互いの頂点を共有するようにアレイ状に配列されている。この部材は、Ｘ線に感光する材料からなる基板、もしくは表面にＸ線に感光するＸ線レジストからなる層が形成された基板のいずれかを準備する準備工程と、基板に、Ｘ線マスクを介してＸ線を露光して、Ｘ線マスクのパターンに応じたＸ線強度分布を形成する露光工程と、露光された基板を、現像して反射防止構造体を形成する現像工程とを含む製造方法により製造される。 （もっと読む）

【課題】 簡便な方法で多品種少量品や比較的幅の広い突起形状を作製すると共に、加工子工具の加工面の微小な凹凸の影響を受けずにガラス表面や薄膜表面に凸部を作製すること。
【解決手段】 ガラス基材１に対してエッチング液による化学的エッチング処理を行って、ガラス基材表面１ａに凸部２を作製する凸部作製方法であって、ガラス基材１に所定の圧力を局所的に付与してガラス基材表面１ａ及びその近傍に、エッチング液に対するエッチングレートが他の部分と異なる圧縮応力部３を形成する圧縮応力部形成工程と、該圧縮応力部形成工程後、ガラス基材１に対して化学的エッチング処理を行って、ガラス基材表面１ａに凸部２を形成する凸部形成工程とを備え、圧縮応力部形成工程の際に、所定の回転数で回転させた加工工具４をガラス基材１に押圧して上記圧力を付与する凸部作製方法を提供する。 （もっと読む）