【課題】シリコンマスクの作製を容易に行うことができるとともに作業性の向上を図ることができるガラス基板のエッチング方法を提供する。
【解決手段】シリコン基板をマスクとするガラス基板のドライエッチング方法において、ガラス基板１２の表面にシリコン基板１１を接合する工程と、ガラス基板１２上でシリコン基板１１からなるシリコンマスク１１Ｍを形成する工程と、シリコンマスク１１Ｍを介してガラス基板１２をエッチングする工程と、シリコンマスク１１Ｍをガラス基板１２から除去する工程とを有する。これにより、ガラス基板１２に対するシリコンマスク１１Ｍの作製を容易に行うことができるとともに、マスク形成後の接合作業を廃止できるので加工プロセスを簡素化でき、作業性の向上を図ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、電磁変換特性と記録ヘッドの浮上特性とを高いレベルで両立可能な磁気記録媒体を形成することができる、磁気記録媒体用基板を提供することである。
【解決手段】円板状の非磁性体からなり、表面に、周方向成分および径方向成分が連続的に変化する複数のテクスチャ痕を有し、上記連続的な変化の態様が少なくとも４種類存在し、それぞれの変化の態様によって得られた各テクスチャ痕自身によりクロスアングルが形成されていることにより、全体として基板上に少なくとも４種類のクロスアングルが形成されている。 （もっと読む）

【課題】 微細で直線的な凹部溝を形成することのできるガラス板の製造方法を提供する。
【解決手段】 マスキング処理されたガラス板ＧＬにエッチング液を接触させることで、ガラス板の非マスキング部分に凹部溝を形成する、微細溝を有するガラス板の製造方法である。傾斜状態に保持されたガラス板ＧＬの表面に沿って、エッチング液を流下させる化学研磨工程と、化学研磨工程を経たガラス板を除去液に浸漬する浸漬工程と、除去液から取り出したガラス板を洗浄液で洗浄する洗浄工程とを複数回繰り返す。 （もっと読む）

【課題】
ガラス板主表面にフッ酸をエッチャントとするエッチング法で溝を形成すると、溝とガラス表面の境にエッチピットが生じ、平滑な壁面を有する溝を形成できなかった。
【解決手段】
ガラス板表面を研削により所定厚みにし、その後精密研磨により研削面を平滑化するに際して、片面当たりの精密研磨取り代を２５μｍ以上として、研削により生じたガラス表面残留歪みを除去する。これによりガラス表面に最終的に残る歪みは、精密研磨のみになり、この歪みを除去するアニール温度をガラスの歪み点以下にすることができる。ガラス基板の平坦性を損なうことなく溝形成時にエッチピットが生じないガラス基板とすることができる。 （もっと読む）

【課題】生体外（インビトロ）環境下で細胞培養を行なうに際して、培養担体表面にある細胞の接着状態や機能に対して積極的な制御を与えることができる細胞培養担体、及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】細胞を固定して培養を行うための細胞固定用基板であって、表面に少なくとも１種類の微粒子を固定化した固体基板を有し、前記微粒子表面に細胞が接着、固定する細胞固定用基板。さらに、微粒子を誘電泳動力により固体基板表面にアレイ状に配列させる工程と、微粒子の固体基板上への配列化の後、この微粒子を前記固体基板表面に固定化する工程と、を有する細胞固定用基板の製造方法。 （もっと読む）

基板上の超親水性被膜は、防反射性及び防曇性であることができる。該被膜は、長期間にわたって防反射性及び防曇性を維持することができる。該被膜は、反対電荷の無機ナノ粒子を含むことができ、かつ有機ポリマーを実質的に含まなくてもよい。 （もっと読む）

【課題】流路などの表面に凹凸形状を安価にかつ高精度に形成することができ、微細凹凸構造のエッヂ部においても適切な加工形状が得られるガラス基板の加工方法を提供する。
【解決手段】本発明のガラス基板の加工方法は、ガラス基板の被加工面を研磨する第１工程Ｓ１と、前記被加工面にエッチングマスクを形成する第３工程Ｓ３及び第４工程Ｓ４と、湿式エッチング処理により前記ガラス基板の被加工面に前記微細凹凸構造をパターン形成する第５工程Ｓ５と、を有する。 （もっと読む）

【課題】耐久性、透光性に優れたガラス製マイクロレンズアレイを安価に大量生産できるガラス製マイクロレンズアレイの製造方法を提供する。
【解決手段】本ガラス製マイクロレンズアレイ製造方法は、破砕層がないように研磨されたガラス基板にレーザ光を照射して局所的に応力を与える工程と、応力が与えられたガラス基板に等方的なドライ・エッチングあるいは等方的なウエット・エッチングを施して、局所的に応力が存在する部分をレンズ状に成形する工程を有する。 （もっと読む）

【課題】エッチングマスクとなる膜を設けて変形が生じる薄いガラス基板に対して、フォトマスクが有する形状パターンに忠実なパターンをガラス基板に設けることができるガラス基板の加工方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板の上にガラス基板をエッチングするためのエッチングマスクとなる膜を設けるための膜形成工程と、分割パターンを前記膜に設けて該膜を複数に分割して第１のパターン膜とするための第１のパターン膜形成工程と、ガラス基板に形状加工するための形状パターンを第１のパターン膜にさらに設けて第２のパターン膜とする、フォトマスクを用いたフォトリソグラフィー処理及びエッチング処理を有する第２のパターン膜形成工程と、第２のパターン膜をエッチングマスクとしてガラス基板をエッチング処理するためのエッチング処理工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】「墨」によって毛筆等を用いて表面が装飾された味わい深いガラス製品であって、仮に該表面に手が触れた場合であっても、該着色剤が剥がれたり、それによって手が汚れてしまうことが無いガラス製品及びそのようなガラス製品の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス表面にサンドブラスト処理を施す行程S101と、コロイド溶液に「墨」を磨り込んでコロイド墨液を作る行程S105と、該コロイド墨液によって該サンドブラスト処理面に文字や装飾を施す行程S106と、該サンドブラスト処理面上のコロイド墨液を乾燥させる行程S107と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】成膜装置やプラズマ処理装置内でのパーティクルの発生を防止し、ハロゲン系ガスを用いたドライ洗浄におけるアルミニウムによる汚染を抑えることのできるガラス部材を提供する。
【解決手段】基材１０上に石英ガラス溶射による、幅５〜３００μｍ、高さ２〜２００μｍの、球状及び／又は釣鐘状の島状突起１２を設け、該突起１２に含まれるＡｌの濃度が２０〜１０００ｐｐｍ、Ｆｅの濃度が２ｐｐｍ以下であるガラス部材を提供する。 （もっと読む）

【課題】意匠性に優れ、安全で、かつ、滑り防止性、特に泥水が付着した際の滑り防止性に優れた床用硝子板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】強化硝子板の表面に粒径粗さ６０〜１３０メッシュの金鋼砂を圧縮空気により吹付け、表面張力を増大させる凹凸を設け、歩行時の滑り防止性に優れる表面とした。本発明の床用硝子タイルは、特に泥水が付着した際の歩行に対する滑り防止性に優れており、強化硝子板１の裏面側に、印刷層２を有する意匠フィルムが積層された層構成を有しており、前記強化硝子板の表面側には滑り防止効果を発揮させるために、ＪＩＳ Ｂ ０６０１に準ずる表面粗さが４０〜１０μｍの凹凸が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表面加工をすることなく石英ガラス表面を粗面化する。
【解決手段】合成シリカ粉２を粉砕して４０μｍ以下の粒度とし、寒天、水を加えてスラリーを形成し、このスラリーを石英ガラス板１の表面に塗布してコーティング層３を形成した。３０℃で乾燥させて水分を蒸発させ、乾燥後、脱脂及び焼結をおこなって合成シリカ粉２の突起が残った状態で石英ガラス板１に融着させて粗面化層４を形成した。酸水素火炎によって表面を焼き仕上げし、純度の高い粗面化層で被覆された石英ガラスを得た。 （もっと読む）

【課題】 無機粒子含有樹脂層の優れた表面平滑性と、基板への優れた転写性という２つの性能を兼ね備え、待機スジの発生の無いディスプレイパネル部材形成用転写フィルムを提供すること。アスペクト比・パターン形状に優れた部材を簡単な工程により形成することができるディスプレイパネル部材の形成方法を提供すること。
【解決手段】 無機粒子含有樹脂層の膜厚が１００〜３００μｍであり、ＪＩＳ Ｋ６２５１記載の方法に従って測定した無機粒子含有樹脂層の降伏点引張応力が５０〜３００ｇｆ／ｍｍ^２の範囲にあるディスプレイパネル部材形成用転写フィルムを提供する。 （もっと読む）

【課題】 誘電体材料基板や半導体材料基板などの加工対象物の内部にプラズマを生起させることなく、加工に使用するレーザ波長の回折限界値の半分以下の極めて微細な改質領域を形成すること。
【解決手段】 プラズマを全く生起しないようなレーザ強度でも、新たな損傷が生起されることに着目し、プラズマが生起するレーザ強度のしきい値よりも低い（例えば、１／１.５倍程度）レーザ強度を有するレーザ光１を、集光位置３において自己収束効果を生起させないように精密設計された照射光学系２０を用いて加工対象物１０に集光照射する。
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【課題】マイクロレンズの製法において、簡便な方法でレンズの真球度を向上させる。
【解決手段】石英基板１０の表面上に多数のレジスト層Ｓをホトリソグラフィ処理により形成した後、レジスト層Ｓに加熱リフロー処理を施して各レジスト層に凸球面状パターンを付与する。エッチング室内で黒鉛電極板１２上に基板１０を載置すると共に基板１０の周囲に酸素発生材としての石英板１４ａ〜１４ｄ，１６ａ〜１６ｄを配置する。このような状態でＣＦ_４をエッチングガスとする反応性イオンエッチング処理により各レジスト層の凸球面状パターンを基板１０の表面に転写してレンズを形成する。電極板１２の露出面積をＳ１、レジストパターンの基板１０への投影面積をＳ２、基板１０を含む酸素発生部の露出面積をＳ３としたとき、面積比（Ｓ１＋Ｓ２）／Ｓ３を７〜４５の範囲内の値に設定すると、真球度の良いレンズが得られる。 （もっと読む）

【課題】微細な鏡面溝を手軽に形成することができる鏡面溝形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の鏡面溝形成方法では、結晶化ガラス２０にレーザ１８を照射して照射箇所の結晶化ガラス２０を非晶質に変質させ、非晶質化した部分２２を剥離させて溝２１を形成する。この方法では、結晶化ガラス２０に変態応力と熱応力とが作用して非晶質化した部分２２が剥離し、溝２１が形成される。この方法は、大掛かりな装置を必要とせずに実施することができ、各種のマイクロ化学チップを短時間で、かつ、安価に製造することができる。
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【課題】フェムト秒レーザを用いた新しいメカニズムによる微細加工方法を提供する。
【解決手段】第１のガラス板３０２の上に第２のガラス板３０１を重ねて、第２のガラス板３０１の上面から超短パルスレーザを走査し、第１のガラス板３０２と第２のガラス板３０１との隙間でレーザの定在波が発生する箇所（１）（３）のガラス板３０２の上面及びガラス板３０１の下面を加工する。この方法では、ガラス板３０２とガラス板３０１との隙間でレーザの定在波が発生する箇所、即ち、干渉縞の箇所で加工が行われる。また、両者の隙間を４分の１波長分、シフトするだけで微細加工ができたりできなかったりの状況を創り出すことが可能である。
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【課題】破壊強度を高めつつ、基板表面上に形成される金属層との密着強度を高めることが可能な磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】円盤状の磁気記録媒体用ガラス基板１は、内部に非化学強化層（引張り応力層）２が形成され、内周端面１ｃに化学強化層３ｃ（圧縮応力層）が形成され、外周端面１ｄに化学強化層３ｄが形成されている。主表面（上面１ａ及び下面１ｂ）には化学強化層は形成されていない。このように基板の端面に化学強化層が形成されていることで、基板内部における引張り応力と圧縮応力とのバランスがとれるため、ガラス基板の破壊強度を高めることができる。また、上面１ａ及び下面１ｂには化学強化層が形成されていないため、上面１ａ又は下面１ｂの上に形成されるニッケル合金層とガラス基板との密着強度を高めることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法で多品種少量品や比較的幅の広い又は複雑な突起形状を高精度に形成することができ、圧子加工面の微小な凹凸の影響を受けずにガラス基材表面や薄膜表面に凸部を形成すること。
【解決手段】ガラス基材１に外力を印加して圧縮応力部２を形成し、エッチング液による化学的エッチング処理を行ってガラス基材表面１ａに凸部３を形成する方法であって、圧縮応力部の形成が、加工工具４をガラス基材に対して第１の方向（Ｘ方向）に繰り返し掃引し、且つ、加工工具の掃引位置を、第１の方向と直交する第２の方向（Ｙ方向）に隣接して形成される圧縮応力部の一部が重なるように制御して行う、表面に凸部を有するガラス基材の製造方法を提供する。 （もっと読む）