【課題】より高強度でかつ軽量である強化ガラス板について、その製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス板を化学強化する化学強化工程と、前記化学強化工程後に、前記ガラス板の表面を、平均粒径が８０ｎｍ以下のコロイダルシリカを含むスラリーを用いて研磨する強化後研磨工程と、を含む、強化ガラス板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】光学特性に優れた偏光素子を簡便に製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明の偏光素子の製造方法は、ガラス基板上に、金属ハロゲン化物の島状膜を形成する工程と、前記ガラス基板を加熱延伸することで前記島状膜を伸長させ、前記金属ハロゲン化物の針状粒子を形成する工程と、前記針状粒子の前記金属ハロゲン化物を還元することで金属からなる針状金属粒子を形成する工程と、を有し、前記金属ハロゲン化物は反応性物理蒸着法により前記ガラス基板上に堆積されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】切断したガラス板の切断端面のクラックを、ガラス板が割れないようにしながら除去する。
【解決手段】ガラス端部処理装置１のプラズマ生成部１０の流路１５に処理ガスを流すとともに、流路１５内でプラズマを生成して、処理ガスにガラス板９に対するエッチング能又は溶解能を付与する。この処理ガスを処理部２０へ送り、ガラス板９の端部９ｆに接触させる。 （もっと読む）

【課題】工程のスループットに優れ、ナノメーターオーダーのパターンを簡便に形成できる方法を提供する。
【解決手段】ポリスチレン誘導体とシルセスキオキサンを含むポリメタクリレート誘導体とを有するコポリマーを含有するパターン形成材料からなる膜を形成する工程と、前記膜中にミクロ相分離構造を形成する工程と、前記シルセスキオキサンを含むポリマー鎖の相をマスクとして前記基板をエッチングして前記基板にミクロ相分離構造のパターンを転写する工程とを具備したことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】エッチング加工における加工形状の誤差を低減する。
【解決手段】石英ガラス２４にプラズマジェットガン１からプラズマジェット３１を照射し、表面加工する工程において、プラズマジェット３１と石英ガラス２４との反応による発光部３２をＣＣＤビデオカメラ２７で撮像する。発光部３２の波長４４０ｎｍのスペクトルを検出し、その発光強度分布から求めた除去形状と目標除去形状との差を縮小するように、プラズマジェット３１と石英ガラス２４との相対位置、除去量及び除去径を制御する。 （もっと読む）

【課題】シリコンマスクの作製を容易に行うことができるとともに作業性の向上を図ることができるガラス基板のエッチング方法を提供する。
【解決手段】シリコン基板をマスクとするガラス基板のドライエッチング方法において、ガラス基板１２の表面にシリコン基板１１を接合する工程と、ガラス基板１２上でシリコン基板１１からなるシリコンマスク１１Ｍを形成する工程と、シリコンマスク１１Ｍを介してガラス基板１２をエッチングする工程と、シリコンマスク１１Ｍをガラス基板１２から除去する工程とを有する。これにより、ガラス基板１２に対するシリコンマスク１１Ｍの作製を容易に行うことができるとともに、マスク形成後の接合作業を廃止できるので加工プロセスを簡素化でき、作業性の向上を図ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 酸化ニオブの結晶、ニオブ酸塩の結晶及び／又はこれらの固溶体を含む結晶相を含有するガラスセラミックスが提供される。このガラスセラミックスは、酸化物換算組成の全物質量に対して、モル％でＮｂ_２Ｏ_５成分を５〜５０％含有してもよく、さらにＲｎ_２Ｏ及び／又はＲＯ成分（Ｒｎは、Ｌｉ、Ｎａ、及びＫから選ばれる１種以上、並びにＲはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ及びＺｎから選ばれる１種以上を意味する）５〜４０％を含有してもよい。 （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性と可視光応答性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 酸化チタン（ＴｉＯ_２）及び／又はこの固溶体を含む結晶相を含有するガラスセラミックスが提供される。このガラスセラミックスは、酸化物換算組成のガラスセラミックス全物質量に対して、モル％でＴｉＯ_２成分を１５．０％以上８８．９％以下、及びＰ_２Ｏ_５成分を１１．０％以上８４．９％以下含有し、Ｍ_ｘＯ_ｙ成分（式中、ＭはＶ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉからなる群より選択される１種以上とし、ｘ及びｙはそれぞれｘ：ｙ＝２：（Ｍの価数）を満たす最小の自然数とする）を合計で０．０１〜１０．０％含有する。 （もっと読む）

【課題】ガラスパイプの内面を長手方向で均一にエッチングし、長手方向における偏肉が極力抑えられたガラスパイプを製造することが可能なガラスパイプの製造方法を提供する。
【解決手段】製品となるガラスパイプＧよりも内径の大きなダミーパイプＤが両端に接続されたガラスパイプＧの内側にエッチングガスを導入しながらガラスパイプＧに対して熱源１０を長手方向へ相対移動させてガラスパイプＧをエッチングガスの流入側Ｇａから排出側Ｇｂへ向かって加熱し、ガラスパイプＧの内面をエッチングするガラスパイプＧの製造方法であって、エッチングガスの流入側Ｇａにおける熱源１０の相対移動速度をエッチングガスの排出側Ｇｂより速くする。 （もっと読む）

【課題】光分解による自己浄化能を有し、超親水又は超撥水反射防止能を有する機能性表面の製造方法を提供する。
【解決手段】下記、ａ）〜ｅ）の段階を含む方法により機能性表面を製造する。ａ）透明基材の一表面に球形状を有する複数個のビーズを単一層で配列する段階Ｓ１０，７０、ｂ）前記複数個のビーズをエッチングして各ビーズ間の一定の離隔距離を形成する段階Ｓ２０，８０、ｃ）前記一定の離隔距離を有する複数個のビーズをエッチングマスクとして前記基材をエッチングし、前記基材の一表面に表面凸凹を形成する段階Ｓ３０，９０、ｄ）前記基材の一表面から前記複数個のビーズを除去する段階Ｓ４０，１００、ｅ）前記表面凸凹が形成された基材の一表面に光触媒、又は表面張力が１８〜２８Ｎ／ｍ範囲内の値を有する化合物層を形成する段階Ｓ５０，１１０ （もっと読む）

本発明は、ａ）窓ガラスをエッチングし、ｂ）エッチングされた窓ガラスを５００℃から８００℃の温度に加熱し、およびｃ）加熱されエッチングされた窓ガラスを、冷風ジェットを使用して３０秒から１５０秒以内に２５℃から７０℃の温度に冷却する、反射低減窓ガラス（３）を製造する方法に関する。
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【解決手段】ウェットエッチングによって合成石英ガラス基板へ微細加工を行う加工方法において、合成石英ガラス基板の被エッチング部以外のマスキング保護部に少なくとも１種類以上の有機皮膜層を形成し、その上にフォトレジスト膜を積層することを特徴とする合成石英ガラス基板の微細加工方法。
【効果】本発明によれば、数十ｎｍ〜数百μｍレベルの微細形状の形成を必要とするＭＥＭＳ、μ−ＴＡＳ、バイオ等の分野において、合成石英のウェットエッチングの保護膜を低コスト、短時間で作製することができる。また、金属膜や金属酸化物膜を形成する場合、膜自身に生じる内部応力の影響を考えなくともよいため、煩雑な成膜条件の検討が必要なく、かつ、金属・金属酸化物膜を形成した場合と比べて同等以上の寸法公差が得られる。 （もっと読む）

【課題】端面において極端に突出する部分がなく、しかも機械的強度が高いガラス基材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のガラス基材は、板状のガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなり、一対の主表面及び端面を持つガラス基材であって、断面視において、それぞれの主表面と前記端面とで構成される２つのエッジ部を結ぶ第１仮想線に対する、前記端面において最も突出する頂部からの最短距離Ｌと、前記ガラス基材の厚さＤとの関係がＬ≦Ｄ／２を満足することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】主表面と、端面とで構成されるエッジ部が鋭利な形状とならず、しかも機械的強度が高いガラス基材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のガラス基材は、板状のガラス基板の主表面に、前記主表面側が最も重合度が小さくなるように厚さ方向に重合度勾配を持つレジストパターンを形成し、前記レジストパターンをマスクとして、前記ガラス基板のエッチングが可能なエッチャントで前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜くと共に、前記主表面と端面とで構成されるエッジ部を、ＵＬ−１４３９に準拠するシャープエッジテストで全層が切断されないエッジにすることにより得られる。 （もっと読む）

【課題】鏡面板ガラスの主表面を微細な固定砥粒で研磨する際に、研磨開始時から高加工レートを実現でき、加工時間を短縮すること。
【解決手段】主表面が鏡面となっている鏡面板ガラス３を、固定砥粒であるダイヤモンドシート１０を用いて必要な平坦度及び表面粗さに加工するガラス基板の製造方法である。前処理としてダイヤモンドシート１０が研磨作用する程度まで鏡面板ガラス３表面を機械的方法又は化学的方法で粗面化する。その後、ダイヤモンドシート１０を用いて鏡面板ガラス３表面を加工して所望の板厚及び平坦度に加工する。 （もっと読む）

【目的】本発明は、本発明は、任意の位置に不透明部と透明平滑部とを表面に有する石英ガラス部材を製造するためのエッチング方法を提供することを目的とする。
【構成】石英ガラス部材のエッチング方法において、石英ガラス部材の外表面の少なくとも一部に熱収縮性樹脂を被せ、熱収縮させたのち、フッ化水素を主成分とするエッチング液で処理することを特徴とする石英ガラス部材のエッチング方法。 （もっと読む）

【課題】ガラスに微小な孔や溝を容易かつ安価に形成できる加工方法を提供する。
【解決手段】工程（ｉ）では、波長λのレーザパルス１１をレンズで集光してガラス板１２に照射することによって、そのガラス板１２のうちレーザパルス１１が照射された部分に変質部１３を形成する。次に、工程（ii）では、そのガラス板１２に対するエッチングレートよりも変質部１３に対するエッチングレートが大きいエッチング液を用いて少なくとも変質部１３をエッチングすることによりガラス板１２に孔を形成する。上記レーザパルス１１のパルス幅は、１ｎｓ〜２００ｎｓの範囲にある。波長λは５３５ｎｍ以下、波長λにおけるガラス板１２の吸収係数は５０ｃｍ^-1以下である。レンズの焦点距離Ｌ（ｍｍ）をレンズに入射する際のレーザパルス１１のビーム径Ｄ（ｍｍ）で除した値は、７以上である。 （もっと読む）

【課題】シリコンマスクの作製を容易に行うことができるとともに作業性の向上を図ることができるガラス基板のエッチング方法を提供する。
【解決手段】シリコン基板をマスクとするガラス基板のドライエッチング方法において、ガラス基板１２の表面にシリコン基板１１を接合する工程と、ガラス基板１２上でシリコン基板１１からなるシリコンマスク１１Ｍを形成する工程と、シリコンマスク１１Ｍを介してガラス基板１２をエッチングする工程と、シリコンマスク１１Ｍをガラス基板１２から除去する工程とを有する。これにより、ガラス基板１２に対するシリコンマスク１１Ｍの作製を容易に行うことができるとともに、マスク形成後の接合作業を廃止できるので加工プロセスを簡素化でき、作業性の向上を図ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ガラス材に生じた反り等の変形量を低減する。
【解決手段】ガラス基板１０，２０，３０の両面にドライフィルムを施し、各ガラス基板１０，２０，３０について一方のドライフィルムに所定パターンの開口を露光・現像により形成する。次に、サンドブラスト法によってその開口パターンに沿った溝をガラス基板１０，２０，３０に施す。次に、ドライフィルムを貼り付けた状態でガラス基板１０，２０，３０をドライエッチング装置１００のステージ１０６に載置し、溝の壁面部分をドライエッチングする。次に、溝に触媒を担持し、ガラス基板１０，２０，３０を接合する。 （もっと読む）

【課題】機械強度、美観および清掃性を損なうことなく、照明等から発生する光を適切に散乱する調理器用トッププレートを提供することを課題とする。また、これらの特性が付与された調理器用トッププレートを容易に作製することができる調理器用トッププレートの製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】結晶化ガラスを基材とする調理器用トッププレートにおいて、少なくとも結晶化ガラスの一方の表面に粗面を形成し、その粗面の平均表面粗さ（Ｒａ）を０．１〜２０μｍとする。また、結晶化ガラスを基材とする調理器用トッププレートの製造方法において、サンドブラスト法を用いて、少なくとも結晶化ガラスの一方の表面を切削した後、フッ酸含有溶液を用いて、切削した部位をエッチングする。 （もっと読む）