【課題】 異物混入を防止するとともに、揮発による特性変動を抑制し、一定条件の下に精密プレス成形によって光学素子を安定供給することができるプリフォームロットを提供する。
【解決手段】 ガラス成分として、リン、酸素およびフッ素を含むフツリン酸ガラスからなる複数の精密プレス成形用プリフォームによって構成されるプリフォームロットにおいて、Ｐ^５＋の含有量に対するＯ^２−の含有量のモル比Ｏ^２−／Ｐ^５＋が３．５以上であるフツリン酸ガラスからなる複数のプリフォームによって構成されるプリフォームロットである。 （もっと読む）

【課題】フロートガラスの製造において、トップスペックおよびＢＯＳの数および大きさを減少させる。
【解決手段】溶融槽でガラスを溶融し、ガラス溶融物を、フロートバスハウジングにある液状のメタルバス上に注ぎ、ガラスリボンに成形し、フロートバスハウジングの自由内部空間に、水素を含有する保護ガスを導入し、フロートバスハウジングから導出する、板ガラスを製造する方法において、フロートバスハウジングのｍ^３の自由内部体積につき、少なくとも０．２Ｎｍ^３／ｍｉｎの保護ガスが導入される。ｔ_{ｍｉｔ，ｔｈｅｏ}≦１．２分の時間で、フロートバスハウジングにある保護ガス容積全体の完全な交換がなされる。 （もっと読む）

【課題】化学的耐久性に非常に優れ、かつ４００ｎｍ付近の波長域を効率よく透過する近赤外線カットフィルタガラスを提供すること。
【解決手段】カチオン％表示で、Ｐ^５＋３５〜７５％、Ａｌ^３＋０．２〜２０％、Ｒ_１^＋０〜２０％（ただし、Ｒ_１^＋はＬｉ^＋、Ｎａ^＋及びＫ^＋の合計量）、Ｒ_２^２＋１〜３５％（ただし、Ｒ_２^２＋はＭｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｓｒ^２＋及びＢａ^２＋の合計量）、Ｓｂ^３＋２〜１０％、Ｃｕ^２＋０．５〜１３％を含むとともに、アニオン成分として、アニオン％表示で、Ｆ⁻１０〜４５％及びＯ^２−５５〜９０％を含む近赤外線カットフィルタガラスである。 （もっと読む）

【課題】結晶化度が高いにもかかわらず、緻密な焼結体を得ることが可能な配線基板用ガラスセラミックス組成物及びガラスセラミックス焼結体を提供する。
【解決手段】焼成すると主結晶としてディオプサイド（ＣａＭｇＳｉＯ_６）、コージェライト（Ｍｇ_２Ａｌ_４Ｓｉ_５Ｏ_１８）、又はフォルステライト（Ｍｇ_２ＳｉＯ_４）を析出する性質を有する結晶性ガラス粉末を含む配線基板用ガラスセラミックス組成物であって、ガラス組成中にアニオン成分としてフッ素（Ｆ）を０．１〜３モル％含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低熱膨張性を有し、比較的低温での溶融が可能であり、０℃〜５０℃における平均線膨張係数が好ましくは２５×１０^−７℃^−１以下、より好ましくは１５×１０^−７℃−^１以下、最も好ましくは１０×１０^−７℃^−１以下である、構成相として結晶相を含まないガラスを提供する事。
【解決手段】酸化物基準で表わされたＢ_２Ｏ_３成分、ＺｒＯ_２成分、Ｐ_２Ｏ_５成分、Ｔａ_２Ｏ_５成分、Ｎｂ_２Ｏ_５成分、ＷＯ_３成分、ＭｏＯ_３成分、ＴｉＯ_２成分、ＮｉＯ成分、Ｆｅ_２Ｏ_３成分、Ｃｏ_２Ｏ_３成分、ＣｅＯ_２成分、Ｅｕ_２Ｏ_３成分、およびＺｎＯ成分から選ばれる一種以上の成分、ＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、ならびにＣｕＯ成分を含有し、
酸化物基準の質量％でこれらの成分の合量が８０％以上、
０〜５０℃における平均線膨張係数が２５×１０^−７℃^−１以下であるガラス。 （もっと読む）

【課題】焼成時の収縮挙動を抑制しつつ、誘電特性を従来と比べて飛躍的に向上させることができ、しかも信頼性を確保できるようにした。
【解決手段】セラミック組成物は、Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３−ＭＯ系ガラス組成物（ただし、ＭはＣａ、Ｍｇ、Ｓｒ、及びＢａの中から選択された少なくとも１種を示し、Ｂ_２Ｏ_３：４〜１７．５重量％、ＳｉＯ_２：２８〜５０重量％、Ａｌ_２Ｏ_３：０〜２０重量％、ＭＯ：３６〜５０重量％である。）を２６〜６０重量％含有すると共に、ＳｒＴｉＯ_３及びＣａＴｉＯ_３のうちの少なくとも１種を３０〜６５重量％含有し、かつ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｚｎ、及びＣａの中から選択された少なくとも１種を含む金属酸化物が１０重量％以下（ただし、０重量％を含む。）に調製されている。このセラミック組成物を焼成してセラミック焼結体２を作製し、該セラミック焼結体２を有する複合ＬＣ部品２０を得る。 （もっと読む）

【課題】ヒ素やアンチモンの使用量を最少にして、無アルカリガラスの清澄を行う方法。
【解決手段】歪点が６４０℃以上でＡｓ₂Ｏ₃含有量が０．５質量％以下の無アルカリガラスを熔解時に清澄する方法であって、１．５質量％以下のＳｂ₂Ｏ₃、５．０質量％以下のＳＯ₃、２．０質量％以下のＦｅ₂Ｏ₃および５．０質量％以下のＳｎＯ₂からなる群から選ばれる１種以上の有効量と、５．０質量％以下のＣｌおよび５．０質量％以下のＦからなる群から選ばれる１種以上の有効量とを含有せしめて熔解、清澄する。 （もっと読む）

【課題】 熔融ガラスから高品質のガラスを成形するのに適した、さらには精密プレス成形に適した低分散光学ガラスを提供すること。
【解決手段】 必須のカチオン成分として、Ｐ^５＋およびＡｌ^３＋と、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｓｒ^２＋およびＢａ^２＋から選ばれる２価カチオン成分（Ｒ^２＋）を２種以上と、Ｌｉ^＋とを含み、カチオン％表示にて、
Ｐ^５＋ １０〜４５％、
Ａｌ^３＋ ５〜３０％、
Ｍｇ^２＋ ０〜２０％、
Ｃａ^２＋ ０〜２５％、
Ｓｒ^２＋ ０〜３０％、
Ｂａ^２＋ ０〜３３％、
Ｌｉ^＋ １〜３０％、
Ｎａ^＋ ０〜１０％、
Ｋ^＋ ０〜１０％、
Ｙ^３＋ ０〜５％、
Ｂ^３＋ ０〜１５％、
を含有するとともに、
Ｆ^-とＯ^２-の合計量に対するＦ-の含有量のモル比Ｆ^-／（Ｆ^-＋Ｏ^２-）が０．２５〜０．８５であるフツリン酸塩ガラスからなり、屈折率（Ｎ_ｄ）が１．４０〜１．５８、アッベ数（ν_ｄ）が６７〜９０であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

本発明は、ガラス材料を含み、電子装置ハウジング／エンクロージャまたは保護カバーとしての使用に適切なガラス物品に関する。特に、以下の特性を示すイオン交換されたガラスを含むハウジング／エンクロージャ／カバー：（１）１５ＭＨｚから３．０ＧＨｚまでの周波数範囲において０．０３未満の損失正接により定められるラジオおよびマイクロ波周波数透明性；（２）赤外線透明性；（３）０．６ＭＰａ・ｍ^１／２より大きい破壊靭性；（４）３５０ＭＰａより大きい４点曲げ強度；（５）少なくとも４５０ｋｇｆ／ｍｍ^２のビッカース硬度および少なくとも５ｋｇｆのビッカース中央／放射亀裂開始限界；（６）約５０から１００ＧＰａの間のヤング率；（７）２．０Ｗ／ｍ℃未満の熱伝導率；および（８）以下の特性の少なくとも１つ：（ｉ）２０μｍより大きい層の深さ（ＤＯＬ）および４００ＭＰａより大きい圧縮応力を有する圧縮表面層、または（ｉｉ）２０ＭＰａ以上の中央張力。 （もっと読む）

本発明は、改善された紫外線透過率を有する耐熱性及び耐薬品性ガラス又はガラス繊維、並びに、紫外線硬化可能な複合物へのその使用に関する。本発明によると、このガラス／ガラス繊維は、９２０℃を超える軟化温度、８０〜９２％の光透過率を有し、５８〜６２％のＳｉＯ₂、１１．０〜１５．５％のＡｌ₂Ｏ₃、２０〜２５％のＣａＯ、０．１〜０．８％のＭｇＯ、０．０４〜１．２％のＮａ₂Ｏ、０．１〜１．２％のＫ₂Ｏ、０．２〜１．８％のＴｉＯ₂、０．０５〜０．５％のＦｅ₂Ｏ₃及び０．００２〜０．０８５のＣｒ₂Ｏ₃を含む。 （もっと読む）

【課題】中屈折率且つ低分散の光学定数を有し、ガラス転移温度Ｔｇが低く、クラック（き裂）が入りにくい光学ガラス、及び、かかる光学ガラスからなる光学素子を提供する。
【解決手段】Ｐ_２Ｏ_５：３５〜４５質量％（但し、４５質量％を含まない）、Ｂ_２Ｏ_３：０．５〜１０質量％（但し、１０質量％を含まない）、Ａｌ_２Ｏ_３：０〜１６質量％、ＳｉＯ_２：０〜２．５質量％、ＢａＯ：０〜２６質量％、ＳｒＯ：０〜２０質量％、ＺｎＯ：２３〜４９質量％、ＣａＯ：６〜２０質量％（但し、６質量％を含まない）、ＭｇＯ：０〜１６質量％、但し、ＢａＯ、ＳｒＯ、ＺｎＯ、ＣａＯ及びＭｇＯの合計含有量は５５質量％以下、Ｌｉ_２Ｏ：０〜１質量％（但し、１％を含まない）、Ｎａ_２Ｏ：３〜１９質量％、Ｋ_２Ｏ：０〜２０質量％、但し、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの合計含有量は２４質量％以下、の各ガラス成分を含有する。 （もっと読む）

【課題】成形時のガラスの耐失透性を維持した上で、イオン交換性能が高く機械的強度が向上した強化ガラスを提供する。
【解決手段】質量％で、ＳｉＯ２：４５〜７５％、Ａｌ２Ｏ３：０〜２５％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ：０〜３０％の組成を有し、ＳＯ３＋Ｃｌを０．０００１〜０．５質量％含有し、β−ＯＨ値が０．０１〜０．５／ｍｍであり、イオン交換処理を行うことにより、応力値が３００ＭＰａ以上であり、厚みが１μｍ以上である圧縮応力層が形成された強化ガラスとする。 （もっと読む）

【課題】低熱膨張性、低ガラス転移点および低温溶融性を兼ね備えたガラスを提供することであり、０℃〜３００℃における平均線膨張係数が好ましくは５０×１０^−７℃−^１以下、より好ましくは４５×１０^−７℃−^１以下、最も好ましくは４０×１０^−７℃−^１以下であり、ガラス転移点が好ましくは６５０℃以下、より好ましくは６３０℃以下、最も好ましくは６００℃以下のガラスを提供する。
【解決手段】 酸化物基準の質量％で、ＳｉＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、およびＺｎＯ成分を含有し、
ＳｉＯ_２成分の含有量が５０〜６０％であり、これらの成分の質量％の比ＺｎＯ／（ＳｉＯ_２＋Ｂ_２Ｏ_３）が０．２５以上、０．４０以下であり、Ｌｉ_２Ｏ成分、Ｎａ_２Ｏ成分、Ｋ_２Ｏ成分の各々の含有量の合計が１０％未満であり、０〜３００℃における平均線膨張係数が５０×１０^−７℃^−１以下であるガラス。 （もっと読む）

【課題】低熱膨張性、低ガラス転移点および低温溶融性を兼ね備えたガラスを提供することであり、０℃〜３００℃における平均線膨張係数が好ましくは５０×１０^−７℃−^１以下、より好ましくは４５×１０^−７℃−^１以下、最も好ましくは４０×１０^−７℃−^１以下であり、ガラス転移点が好ましくは６５０℃以下、より好ましくは６３０℃以下、最も好ましくは６００℃以下のガラスを提供する。
【解決手段】 酸化物基準の質量％で、ＳｉＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、およびＺｎＯ成分を含有し、ＳｉＯ_２成分の含有量が６０〜７０％、Ｌｉ_２Ｏ成分、Ｎａ_２Ｏ成分、Ｋ_２Ｏ成分の各々の含有量の合計が５％未満であり、０〜３００℃における平均線膨張係数が５０×１０^−７℃^−１以下であるガラス。 （もっと読む）

【課題】化学的にも安定で、リチウムイオンの伝道を阻害するような空孔が無く、高いリチウムイオン伝導性を示すガラスセラミックスを高い歩留まりで安定して取得することができる製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラスを熱処理し結晶化するリチウムイオン伝導性ガラスセラミックスの製造方法であって、結晶化を行なう熱処理において、結晶化開始温度の昇温速度を５℃／ｈ〜５０℃／ｈとするリチウムイオン伝導性ガラスセラミックスの製造方法。 （もっと読む）

それを超えるとガラスが脆弱性を示す限界値より低い中央張力を有する強化ガラス物品。中央張力は、ガラスの厚さと共に非直線的に変化する。ガラスは、携帯電話等のような携帯用または手持ち式装置のためのカバープレートまたはウィンドウとして使用してもよい。
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ガラスを化学強化する方法である。この方法は、第１の浴中におけるイオン交換に続き第２の浴中に浸すことを含む。上記第１の浴は流出イオンで希釈される。上記第２の浴は上記第１の浴よりも低い流出イオン濃度を有する。この方法は、高信頼性を目指して十分に深い圧縮応力の層の深さを有しながら、ガラスの表面における力の接触によって傷が誘発されるのを阻止するのに十分な圧縮応力を上記表面に提供する。
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【課題】耐熱衝撃性を保持しつつ加熱による軟化加工性を向上させた結晶化ガラスを提供する。
【解決手段】Ｌｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶を２０〜７０重量％含有する結晶化ガラスであって、当該結晶化ガラスにおけるマトリクスガラスとＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶の３０〜３８０℃における平均線熱膨張係数の差が３５×１０^−７／Ｋ以上であることを特徴とする結晶化ガラス。 （もっと読む）

本発明は、ケイ素半導体デバイスおよび光起電力電池用導電性ペーストに有用なガラス組成物に関する。厚膜導体組成物は、１以上の電気機能性粉末と、有機媒体に分散された１以上のガラスフリットとを含む。厚膜組成物はまた１以上の添加剤を有していてもよい。例示の添加剤としては、金属、金属酸化物または焼成中、これらの金属酸化物を生成することのできる任意の化合物を挙げることができる。 （もっと読む）

【課題】結晶化ガラス板表面に形成された凸部表面に微細な傷が生じたとしても、軽度の打突により破損するのを防止することができる耐衝撃性に優れた結晶化ガラス板を提供すること。
【解決手段】表面に半球面状の凸部（３）が複数形成されている結晶化ガラス板（１）であって、前記凸部の突出高さが０．１２〜０．１８ｍｍであることを特徴とする結晶化ガラス板とする。 （もっと読む）