本発明は、基本的に酸化ホウ素を含まず、かつ重量％で表された後述の範囲内で次の抗生物質、すなわち、５５〜６５のＳｉＯ_２、９〜１６のＡｌ_２Ｏ_３、１５〜２６のＣａＯ、１〜５のＭｇＯ、０．５〜５のＢａＯ＋ＳｒＯ、０〜２のＮａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ＋Ｌｉ_２Ｏ、０〜１のＴｉＯ_２、０〜２のＺｎＯ、０〜２のＺｒＯ_２を含む化学組成を有する、ガラス繊維に関する。本発明は前記繊維を含む複合材料にも関する。 （もっと読む）

【課題】ガラスフリット、シーリング材形成用の組成物及び発光装置を提供する。
【解決手段】第１基板と、第２基板と、第１基板と第２基板との間に備わった発光素子と、及び第１基板と第２基板とを接着させ、発光素子を密封させるシーリング材を具備した発光装置であって、シーリング材はＶ^＋４イオンを含む発光装置、該発光装置を得るためのガラスフリット、シーリング材形成用の組成物、及び該シーリング材形成用の組成物を利用した発光装置の製造方法である。これにより、該発光装置のシーリング材は、塗布法及び電磁波照射によって簡単に形成でき、製造コストが安く、シーリング材の形成時に発光素子の劣化も実質的に防止され、また、シーリング材のシーリング特性にもすぐれ、高寿命性を有する発光装置を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】主としてソーダライムガラス基板を用いたプラズマディスプレイパネル、プラズマアドレス液晶表示パネル等の隔壁層の形成やその他の電気・電子回路の絶縁性被膜形成に関し、高精細パターン形成か可能な感光性ペースト用ガラスセラミックス材料が求められている。
【解決手段】重量％で軟化点が５７０〜６４０℃のガラス微粒子（Ａ）が４０〜７０、軟化点が４８０〜５４０℃のガラス微粒子（Ｂ）が３０〜６０であるプラズマディスプレイ用ガラスセラミックス材料であって、ガラス微粒子（Ａ）が重量％でＳｉＯ_２を２〜１２、Ｂ_２Ｏ_３を５０〜５８、Ａｌ_２Ｏ_３を１０〜２０、ＺｎＯを０〜６、Ｌｉ_２Ｏを０〜２．８、さらにＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢaＯのうちから選択される、少なくとも１種を１０〜２２含み、屈折率が１．５３〜１．５６であることを特徴とするプラズマディスプレイ用ガラスセラミックス材料。 （もっと読む）

【課題】ガラスに微小な孔や溝を容易かつ安価に形成できる加工方法を提供する。
【解決手段】工程（ｉ）では、波長λのレーザパルス１１をレンズで集光してガラス板１２に照射することによって、そのガラス板１２のうちレーザパルス１１が照射された部分に変質部１３を形成する。次に、工程（ii）では、そのガラス板１２に対するエッチングレートよりも変質部１３に対するエッチングレートが大きいエッチング液を用いて少なくとも変質部１３をエッチングすることによりガラス板１２に孔を形成する。上記レーザパルス１１のパルス幅は、１ｎｓ〜２００ｎｓの範囲にある。波長λは５３５ｎｍ以下、波長λにおけるガラス板１２の吸収係数は５０ｃｍ^-1以下である。レンズの焦点距離Ｌ（ｍｍ）をレンズに入射する際のレーザパルス１１のビーム径Ｄ（ｍｍ）で除した値は、７以上である。 （もっと読む）

【課題】泡の少ない無アルカリガラスの提供。
【解決手段】ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｂ₂Ｏ₃、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯをガラス母組成として含有し、アルカリ金属酸化物を実質的に含有せず、前記ガラス母組成の塩基性度が、０．４９０〜０．５０５であり、ｌｏｇη＝２（ηは粘度）となる溶融ガラス温度が１５３０〜１６８０℃である、Ｓｎを含む無アルカリガラス。 （もっと読む）

【課題】ＰｂＯを含有しなくても、従来の隔壁形成材料と同等の温度で焼成でき、しかも、アルカリ金属酸化物を含有しても、耐アルカリ性の低下を抑え、サンドブラスト法で形成可能なプラズマディスプレイパネル用隔壁形成材料及びガラス組成物を提供することである。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネル用隔壁形成材料は、ガラス粉末とセラミック粉末を含むプラズマディスプレイパネル用隔壁形成材料において、該ガラス粉末が、実質的にＰｂＯを含有せず、モル百分率で、ＺｎＯ ２０〜５５％、Ｂ₂Ｏ₃ １０〜３０％、ＳｉＯ₂ １５〜３０％、Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜１３％、ＭｇＯ ０〜２０％、ＣａＯ ０〜２０％、ＳｒＯ ０〜２０％、ＢａＯ ０〜２０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ３〜２０％、Ｌｉ₂Ｏ ０〜１４％、Ｎａ₂Ｏ ０〜１４％、Ｋ₂Ｏ ０〜５％、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ ４〜２０％、（ＳｉＯ₂＋Ａｌ₂Ｏ₃）／Ｂ₂Ｏ₃ ０．８〜１．６５の組成を含有するガラスからなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】紫外域において、高屈折率、高透過率を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】Ｓｉ、Ａｌ、ＣａおよびＯを含有するガラスであって、Ｓｉを陽イオン％で７％以上９３％以下、Ａｌを陽イオン％で２％以上５７％以下、Ｃａを陽イオン％で２％以上５２％以下含有し、Ｓｉ、Ａｌ、Ｃａの合計の陽イオン％が、９９．５％以上であり、ＦｅおよびＮａの含有量がそれぞれ０．０１ｗｔｐｐｍ以下であり、かつ波長２４８ｎｍの光に対する透過率が厚さ５ｍｍで１６．９％以上である光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】ディスプレーまたはスクリーンの背景照明のためのシステムにおいて、簡易に製造できて、照明密度の経時的低下に対して、より修復し易いバックライトシステムを提供する。
【解決手段】少なくとも１つのカバーガラス付き照明体１１０およびその上に配置された透明素子１３０を持ち、該素子の少なくとも１つの面に、少なくとも部分的には平面状に蛍光層１２０が付与されている。 （もっと読む）

【課題】紫外域において、高屈折率、高透過率を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】Ｓｉ、Ａｌ、ＭｇおよびＯを含有するガラスであって、Ｓｉを陽イオン％で４０％以上６０％以下、Ａｌを陽イオン％で１０％以上３５％以下、Ｍｇを陽イオン％で２０％以上３５％以下含有し、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇの合計の陽イオン％が９９．５％以上であり、ＦｅおよびＮａの含有量がそれぞれ０．０１ｗｔｐｐｍ以下であり、かつ波長２４８ｎｍの光に対する透過率が厚さ５ｍｍで４０％以上である光学ガラス。 （もっと読む）

電子工学的用途、例えば、プリント回路ボード基材における補強剤として有用なガラス組成物が提供される。Ｅガラスに比較して低い誘電率が提供され、また、Ｄガラスよりも工業的に実行可能な繊維成形特性が提供される。ガラス組成物は、ＳｉＯ_２ ６０〜６８、Ｌｉ_２Ｏ ０〜２、Ｂ_２Ｏ_３ ７〜１３、Ｎａ_２Ｏ ０〜１、Ａｌ_２Ｏ_３ ９〜１５、Ｋ_２Ｏ ０〜１、ＭｇＯ ８〜１５、Ｆｅ_２Ｏ_３ ０〜１、ＧＯ ０〜４、Ｆ_２ ０〜１、ＴｉＯ_２ ０〜２、他の構成成分０〜５を含む（重量％で）。 （もっと読む）

【課題】
高屈折率、低分散で異常部分分散性を有するとともに、加工性、耐失透性に優れ、脈理発生を抑制し得る光学ガラスを提供する。
【解決手段】
屈折率（ｎｄ）が１．５４〜１．６０、アッベ数（νｄ）が６５〜７８、部分分散比が０．５３０以上、比重が４．０以下および液相温度における粘度が４ｄＰａ・ｓ以上であることを特徴とする光学ガラス、およびカチオン成分として、カチオン％表示で、Ｐ^５＋２０〜５０％、Ａｌ^３＋０．１〜２０％、Ｍｇ^２＋０．１〜２０％、Ｃａ^２＋０〜２０％、Ｓｒ^２＋０〜２０％、Ｂａ^２＋０．１〜３０％、Ｙ^３＋０〜１０％を含むとともに、アニオン成分としてＦ⁻およびＯ^２−を含み、Ａｌ^３＋の含有量に対するＭｇ^２＋の含有量の比率Ｍｇ^２＋／Ａｌ^３＋が、カチオン％基準で１．２以下であることを特徴とする光学ガラスである。 （もっと読む）

本発明は、ＴｉＯ₂、Ａｓ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃およびリン酸塩を含まない、透明かつ実質的に無色のβ−石英・ガラス・セラミック材料；前記ガラス・セラミック材料から形成される物品；前記ガラス・セラミック材料の前駆体である、リチウムアルミノケイ酸塩ガラス；ならびに、前記ガラス・セラミック材料および前記ガラス・セラミック材料から形成される物品の製造方法に関する。
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融解形成された複数の無機繊維が、開示されており、組成：−
Ａｌ₂Ｏ₃ ５〜９０モル％
Ｋ₂Ｏ ５〜９０モル％
ＳｉＯ₂ ５〜９０モル％
を持っており、ここで、ＳｉＯ₂＋Ａｌ₂Ｏ₃＋Ｋ₂Ｏ＞＝５０モル％。１２モル％よりも多いＫ₂Ｏを持っている同様の組成の複数の繊維も範囲とされている。 （もっと読む）

本発明は、主に、その組成がＡｓ₂Ｏ₃およびＳｂ₂Ｏ₃を含まず、３種類の核生成剤：ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂およびＳｎＯ₂の特定の組合せを含み、ＴｉＯ₂が少量で存在する、透明で実質的に無色のβ−石英・ガラス・セラミック材料に関する。 （もっと読む）

【課題】Ａｌ_４Ｂ_２Ｏ_９の結晶の析出を十分に防止しながらチタン酸化物を選択的に結晶化でき、しかも十分に高い光触媒機能を発揮できる結晶化ガラスを効率よく製造することができる材料として好適に使用することが可能な透明性を有するガラス、そのガラスを用いて得られるチタン酸化物の結晶が析出した結晶化ガラス及びその結晶化ガラスの製造方法、並びに、光触媒部材を提供すること。
【解決手段】チタン酸化物５〜２５モル％、ビスマス酸化物３〜１５モル％、ホウ素酸化物４５〜７５モル％、アルミニウム酸化物５〜２５モル％及びアルカリ土類金属の酸化物２〜１５モル％を含有し、且つ前記チタン酸化物の結晶が析出したものであることを特徴とする結晶化ガラス。 （もっと読む）

【課題】環境にやさしく、半導体電子部品が、常用で１０００℃以上の耐熱性を有する半導体封止用ガラスセラミックス及び半導体電子部品を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の半導体封止用ガラスは、半導体とリード線の一部を被覆封止する半導体封止用ガラスであって、該ガラスが、封止することで結晶相を析出し、且つ、結晶相の割合が５０体積％以上となる性質を有する結晶性ガラス粉末からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来の有機接着剤により形成されたシールを備えたガラスパッケージよりも構造的強度が改善されたガラスパッケージを形成する。
【解決手段】第１の基板、第２の基板、第１の基板と第２の基板を連結するフリット、および第１の基板と第２の基板をさらに連結する高分子接着剤を備えたガラスパッケージ。第１の基板の少なくとも一部分が、第２の基板の少なくとも一部分に位置決めされて積重されている。フリットは、約５から約７５モル％のＳｉＯ₂、約１０から約４０モル％のＢ₂Ｏ₃、０から約２０モル％のＡｌ₂Ｏ₃を含む基礎成分、およびａ）０より多く約２５モル％のＣｕＯ、またはｂ）０より多く約７モル％のＦｅ₂Ｏ₃、０より多く約１０モル％のＶ₂Ｏ₅、および０から約５モル％のＴｉＯ₂を含む少なくとも一種類の吸収成分を含有するガラス部分を有してなる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させ、従来よりも機械的強度が高いガラス基板を得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ₂ ４５〜８０％、Ａｌ₂Ｏ₃ ３〜２１％、ＺｎＯ ０．０１〜１５％、Ｂ₂Ｏ₃ ０〜１６％を含有し、且つ質量分率で、（Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ）／Ａｌ₂Ｏ₃の値が０．５〜２、Ｌｉ₂Ｏ／（Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ）の値が０〜０．５であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させ、従来よりも機械的強度が高いガラス基板を得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、モル％でＳｉＯ₂ ５０〜８５％、Ａｌ₂Ｏ₃ ５〜３０％、Ｌｉ₂Ｏ ０〜２０％、Ｎａ₂Ｏ ０〜２０％、Ｋ₂Ｏ ０〜２０％、ＴｉＯ₂ ０．００１〜１０％、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ＋Ａｌ₂Ｏ₃ １５〜３５％を含有し、且つモル分率で、（Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ）／Ａｌ₂Ｏ₃の値が０．７〜３であって、実質的にＡｓ₂Ｏ₃、Ｆを含有しないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】押圧とエッチングによるガラス表面の凹凸形成方法を改良し、段差を有する凸部、高さの異なる凸部といった、高さの異なる隆起のある表面形状を有するガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板の表面の第１領域を押圧して第１圧縮応力部を形成し、前記第１圧縮応力部の少なくとも一部が残留するように前記表面をエッチングして、前記表面に第１凸部を形成する工程と、前記第１凸部以外の前記表面の第２領域を押圧して第２圧縮応力部を形成し、前記表面をエッチングして、前記第１凸部の側部に段差部を形成する、または前記第１凸部から離間した第２凸部を前記表面に形成する工程とを実施する、凸部を有するガラス基板の製造方法。 （もっと読む）