【課題】耐久性に優れ且つ酸化チタンの結晶を高確率に有するガラスセラミックスの製造方法、及びこの製造方法で製造されるガラスセラミックスを含む光触媒機能性成形体及び親水性成形体を提供すること。
【解決手段】ガラスセラミックスの製造方法は、得られるガラス体が酸化物基準のモル％で、ＴｉＯ_２成分を１５．０〜９０．０％、Ｐ_２Ｏ_５成分を１０．０〜８５．０％含有するように調製された原料組成物を溶融しガラス化することで、ガラス体を作製するガラス化工程と、ガラス体を粉砕して粉砕ガラスを作製する粉砕工程と、粉砕ガラスを所望形状の成形体に成形する成形工程と、成形体を加熱して焼結を行うことで、焼結体を作製する焼結工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ガラスの着色や、ガラス中の異物欠陥・残留物欠陥が抑制されると共に、従来よりもＳｂ酸化物の含有量のより少ない光学ガラスを提供すること。
【解決手段】屈折率ｎｄが１．６５以上２．１以下、アッベ数νｄが１２以上３４以下であり、ガラス成分として、Ｐ_２Ｏ_５を５質量％以上６０質量％以下の割合で含むと共に、外割で、Ｓｎ酸化物、Ｃｅ酸化物およびＳｂ酸化物が、下式（１）〜（３）を満たすように含むことを特徴とする光学ガラス。
・式（１） ０＜Ａ（Ｓｎ）＋Ａ（Ｃｅ）＋Ａ（Ｓｂ）≦３．６
・式（２） ０＜Ａ（Ｓｎ）＋Ａ（Ｃｅ）≦３．５
・式（３） ０≦Ａ（Ｓｂ）≦０．１
〔但し、上記式（１）〜（３）中、Ａ（Ｓｎ）は、上記Ｓｎ酸化物の含有量（質量％）を表し、Ａ（Ｃｅ）は、上記Ｃｅ酸化物の含有量（質量％）を表し、Ａ（Ｓｂ）は、上記Ｓｂ酸化物の含有量（質量％）を表す。〕 （もっと読む）

【課題】レーザ照射により発生する組成分布が光学特性の変化を発生させうる、特定の成分を含有するガラス部材を提供する。
【解決手段】ガラス部材は、元素分布を有しない均一ガラス材料にパルスレーザを集光照射することにより、ガラス内部のレーザ照射領域及びその周辺領域に、他の領域とは異なる、ガラス組成の空間的な分布が存在する異質領域を有する。異質領域は、前記ガラス組成の空間的な分布により、他の領域とは異なる屈折率分布を有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】近赤外カットフィルタに好適な、耐候性に優れた新規なリン酸塩系ガラス体、およびその製造方法の提供。
【解決手段】表面の少なくとも一部分において、当該表面におけるフッ素原子とリン原子との濃度比（フッ素原子濃度／リン原子濃度）が、該表面から２０００ｎｍの深さにおけるフッ素原子とリン原子との濃度比（フッ素原子濃度／リン原子濃度）に比べて大きいことを特徴とするリン酸塩系ガラス体。 （もっと読む）

【課題】化学的耐久性に非常に優れ、かつ４００ｎｍ付近の波長域を効率よく透過する近赤外線カットフィルタガラスを提供すること。
【解決手段】カチオン％表示で、Ｐ^５＋３５〜７５％、Ａｌ^３＋０．２〜２０％、Ｒ_１^＋０〜２０％（ただし、Ｒ_１^＋はＬｉ^＋、Ｎａ^＋及びＫ^＋の合計量）、Ｒ_２^２＋１〜３５％（ただし、Ｒ_２^２＋はＭｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｓｒ^２＋及びＢａ^２＋の合計量）、Ｓｂ^３＋２〜１０％、Ｃｕ^２＋０．５〜１３％を含むとともに、アニオン成分として、アニオン％表示で、Ｆ⁻１０〜４５％及びＯ^２−５５〜９０％を含む近赤外線カットフィルタガラスである。 （もっと読む）

【課題】化学的にも安定で、リチウムイオンの伝道を阻害するような空孔が無く、高いリチウムイオン伝導性を示すガラスセラミックスを高い歩留まりで安定して取得することができる製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラスを熱処理し結晶化するリチウムイオン伝導性ガラスセラミックスの製造方法であって、結晶化を行なう熱処理において、結晶化開始温度の昇温速度を５℃／ｈ〜５０℃／ｈとするリチウムイオン伝導性ガラスセラミックスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】プレス成形を行った後において、ガラス成形体の表面の凹凸や曇りを低減することのできるガラス成形体の製造方法、及びガラス成形体の曇り低減方法を提供する。
【解決手段】ガラス成形体の製造方法は、軟化したガラスに対して金型内でプレス成形を行うガラス成形体の製造方法において、Ｓｂ成分を実質的に含有しないガラスを用いるものである。また、ガラス成形体の曇り低減方法は、軟化したガラスに対する金型内でのプレス成形によって作製されるガラス成形体の曇り低減方法であって、プレス成形前のガラスに含まれるＳｂ成分を低減するものである。 （もっと読む）

【課題】高い強度を持ちつつ、高濃度にＣｕＯを含有しても可視域の透過率が高いガラスの提供。
【解決手段】モル％表示で、Ｐ_２Ｏ_５が６３〜７３％、Ａｌ_２Ｏ_３が１５〜２２％、且つＰ_２Ｏ_５＋Ａｌ_２Ｏ_３が８０％以上、Ｂ_２Ｏ_３が０〜１０％、ＳｉＯ_２が０〜１０％、Ｌｉ_２Ｏが０〜５％、Ｎａ_２Ｏが０〜８％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏが０．５〜１０％、ＭｇＯ ０〜６％、であり、ＣｕＯを含み、ビッカース硬度が５７０以上、ヤング率が８０ＧＰａ以上、０．５ｍｍ厚の波長４００ｎｍにおける透過率が７０%以上、波長８００ｎｍにおける透過率が２％以下である近赤外吸収フィルタ用ガラス。 （もっと読む）

【課題】フッ化物を含有しないリン酸塩系ガラスにおいて、実用的な耐候性と安定性を有し、しかも分光特性が良好であり、通常の熔融設備で大量生産可能な近赤外吸収フィルタ用ガラスを提供する。
【解決手段】実質的にフッ素およびアルカリ成分を含有せず、重量パーセントで、P₂O₅が45.0〜55.0％、Al₂O₃が0〜3.5％、B₂O₃が0〜2.0％、Nb₂O₅が0〜5.0％、MgOが0〜10.0％、CaOが0〜15.0％、SrOが0〜10.0％、BaOが23.0〜40.0％、（但し、MgO、CaO、SrO、BaOの合量が35.0〜55.0％）、ZnOが0〜13.0％、Gd₂O₃が0〜4.0％、を含む基礎ガラス100重量部に、CuOを0.9〜7.0％、Sb₂O₃を0〜3.0％含有するガラスを近赤外吸収フィルタとして用いる。 （もっと読む）

【課題】固体電解質用途として工業的な生産効率の要求に対応でき、且つ電極との接触界面を形成できる表面性状を有するリチウムイオン伝導性ガラスセラミックス体の製造方法を提供すること。
【解決手段】リチウムイオン伝導性ガラスセラミックス体の製造方法は、研磨液を供給しつつ、研磨パッド１１，１３又は定盤２１，２３と、研磨対象素材であるリチウムイオン伝導性ガラスセラミックス体（以下、「素材体」という）Ｍとを相対移動することで、素材体Ｍを研磨加工する研磨加工工程を有する。研磨液には、新モース硬度が１０〜１５の研磨材を添加し、且つ、添加剤及び分散剤の含有量を、研磨材、添加剤及び分散剤の含有量和に対して１．０質量％以下とする。 （もっと読む）

【課題】光学機器の高精細化、コンパクト化に伴い、赤外線カットフィルターに要求される赤外線吸収能力が高くなっている。このような課題に対して厚みを薄くしても赤外線範囲において極めて高い吸収能を有するガラスを提供する。
【解決手段】酸化物基準の質量％で２５〜６５％のＰ_２Ｏ_５成分及びＣｕＯ成分を含有するガラスに、ＣｏＯ成分を含有させた赤外線吸収ガラスを提供する。本発明によるガラスは、従来の赤外線吸収ガラスに比べＰ_２Ｏ_５成分の含有量を少なくできるので耐候性がよく、波長７００ｎｍの光における透過率が７％未満、波長７８０〜１０００ｎｍの光における透過率が１％未満、波長１１００ｎｍの光における透過率が３％未満、波長１２００ｎｍの光における透過率が５％未満という優れた赤外線吸収能力を有する。 （もっと読む）

【課題】製造工程での取扱いが容易であって、表面の剥離や経時劣化も少なく、高い光触媒特性を有するガラスセラミックス、及びその製造方法を提供する。特に、比較的容易な方法で所望の形状に成形できる光触媒活性が高いガラスセラミックスを提供する。
【解決手段】ＴｉＯ_２、又はこの固溶体、から選ばれる少なくとも１種を含む結晶性組成物と、ＳｉＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、又はＰ_２Ｏ_５成分から選ばれる少なくとも１種以上を含むガラス性組成物とからなるガラスセラミックスであって、該ガラス性組成物をマトリックス成分とする。結晶性組成物は、光触媒性が高い結晶型を有することができる。 （もっと読む）

【課題】従来のリチウムイオン伝導性ガラスセラミックスが有する、熱的安定性が低いという問題を解決し、リチウムイオン伝導性が高く、原ガラスの熱的安定性が高く、かつ容易に成形可能なリチウムイオン伝導性ガラスセラミックスを提供すること。
【解決手段】ガラスセラミックス中（原ガラス中）の特定の成分の量を特定の範囲に限定することであり、具体的には酸化物基準の質量％で、ＺｒＯ_２成分を０．５％〜２．５％の範囲で含有させる。 （もっと読む）

【課題】Ｂｉ_２Ｏ_３を成分として含有しながらも、ガラス表面に白濁が生じず、モールドへのガラス揮発成分の付着がなく、低い屈伏点を有し、広い範囲の屈折率、高屈折率をもつガラスインプリント用光学ガラスの提供を課題とする。
【解決手段】Ｐ_２Ｏ_５の１００モル％、ＺｎＯの１００モル％、Ｂｉ_２Ｏ_３の１００モル％をそれぞれ正三角形の頂点とする３元系成分組成図上において、前記３成分が下記Ａ〜Ｇの７点を結ぶ線で囲まれる領域にある。
（Ｐ_２Ｏ_５、ＺｎＯ、Ｂｉ_２Ｏ_３）：Ａ点（６６モル％、３４モル％、０モル％）、Ｂ点（３９モル％、６１モル％、０モル％）、Ｃ点（４４モル％、４４モル％、１２モル％）、Ｄ点（５０モル％、３４モル％、１６モル％）、Ｅ点（５８モル％、２１モル％、２１モル％）、Ｆ点（６３モル％、６モル％、３１モル％）、Ｇ点（６９モル％、０モル％、３１モル％） （もっと読む）

【課題】幅広い分散特性、低プレス温度化、および高い安定性を有する光学ガラスからなる精密プレス成形用プリフォームとその製造方法、および、該プリフォームを精密プレス成形して得られる光学素子とその製造方法の提供。
【解決手段】モル％で、Ｐ₂Ｏ₅１５〜７０％、Ｎｂ₂Ｏ₅１〜３０％、ＴｉＯ₂０〜２０％（但し、０％を除く。）、Ｂｉ₂Ｏ₃０〜３０％（但し、０％を除くとともに４重量％超。）、Ｂ₂Ｏ₃０〜３０％、ＷＯ₃１〜２０％、ＢａＯ０〜１５％、Ｌｉ₂Ｏ３〜１５重量％（但し、３重量％を除く。）、ＳｉＯ₂０〜５重量％（但し、５重量％を除く。）、ＺｎＯ０〜１０重量％（但し、１０重量％を除く。）を含み、重量比（ＴｉＯ₂の含有量／Ｂｉ₂Ｏ₃の含有量）が０．５未満、屈折率（ｎｄ）１．７以上かつアッベ数（νｄ）３２以下の光学ガラスからなる精密プレス成形用プリフォームを成形し、かつ、該プリフォームから光学素子を製造する。 （もっと読む）

【課題】
透明性が高く、かつ高屈折率な光学ガラスを得る。
【解決手段】
非晶質マトリックスと、この非晶質マトリックスに分散された結晶性粒子から構成される光学ガラスであり、上記非晶質マトリックスは酸化ケイ素，酸化リンから選ばれる第一の酸化物と、酸化チタン，酸化ジルコニウムから選ばれる第二の酸化物からなり、上記結晶性粒子は、酸化チタン，酸化ジルコニウム，シリコンの少なくともいずれかの酸化物の結晶であり、上記酸化チタン結晶粒子の平均粒径は３ｎｍ以上２０ｎｍ以下、シリコン結晶粒子平均粒径は３ｎｍ以上８ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、レーザー光等の光エネルギーを効率良く熱エネルギーに変換することができる光部品用封着ガラスを得ること、つまりレーザー光等による局所加熱に好適な光部品用封着ガラスを得ることにより、光部品の信頼性向上を図ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の光部品用封着ガラスは、照射光による封着処理に供される光部品用封着ガラスであり、紫外域、可視域、赤外域のいずれかの波長において、透過率が７０％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低分散性を有し、かつ低いガラス転移温度（Ｔｇ）と平均線膨張係数（α）を併せ持つ為、非球面モールドプレス及び、そのガラスプリフォーム等の製造に好適であるリン酸塩ガラスを提供する。
【解決手段】Ｐ_２Ｏ₅、Ｂ_２Ｏ_３、ＢａＯ、Ａｌ_２Ｏ₃及びＬａ_２Ｏ_３を必須成分として含有し、酸化物基準の質量％でＡｌ_２Ｏ₃成分及びＬａ_２Ｏ_３成分の合計含有量が１〜１０％であり、（Ａｌ_２Ｏ₃成分の含有量）／（Ｌａ_２Ｏ_３成分の含有量）の値が０．０５〜８．０の範囲であり、日本光学硝子工業会規格ＪＯＧＩＳ０６^-1999「光学ガラス の化学的耐久性の測定方法（粉末法）」により測定するガラスの耐水性ＲＷが級１〜３であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】低いガラス転移点（Tg）を有し、環境に有害な物質も含まず、均質性の良好な光学ガラスを提供するものである。
【解決手段】Ｐｂ及びＡｓ化合物を含まず、必須成分として、Ｐ_２Ｏ_５、ＳｎＯ及びＲ_２Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ及びＣｓからなる群より選択される１種以上）を含有することを特徴とする光学ガラス。
酸化物基準のｍｏｌ％で、ＳｎＯ １〜６０％、ＴｉＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５及びＷＯ_３の合計量が３％以下、となるように各成分を含有し、光線透過率が８０％を超える最短波長（λ８０）が４５０ｎｍ以下である前記光学ガラス。
酸化物基準のｍｏｌ％で、Ｐ_２Ｏ_５ ３０〜８０％、Ｒ_２Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ及びＣｓからなる群より選択される１種以上） １〜３５％、の各成分を含有する請求項１または２に記載の光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】蛍光表示管、電界放出型ディスプレイ、プラズマ・ディスプレイ・パネル等の封着、誘電体層、隔壁形成等に利用することが可能で、軟化点が低く、焼成後のガラス要素部材が電気絶縁性、耐候性に優れる無鉛ガラスを提供する。
【解決手段】低軟化点ガラスを、酸化物換算のモル％表示で、Ｐ₂Ｏ₅：２９〜５５、ＺｎＯ：１０〜２０、Ａｌ₂Ｏ₃：２〜７、Ｌｉ₂Ｏ：６〜１５、Ｎａ₂Ｏ：６〜１５、Ｋ₂Ｏ：６〜１５、ＳｉＯ₂≦５、ＣａＯ≦８、ＳｒＯ≦８、ＢａＯ≦８、ＭｏＯ₃≦８から構成した。環境に配慮した、実質的に鉛及びビスマスを含有しない低軟化点ガラスが得られる。 （もっと読む）