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Fターム[4G062DE01]の内容

ガラス組成物 (224,797) | Zn (6,185) |  (2,302)

Fターム[4G062DE01]に分類される特許

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【課題】SnOおよびPを含有する酸化物材料を製造するための方法であって、所望組成を有する均質な酸化物材料を安価に製造することが可能な方法を提供する。
【解決手段】SnOおよびPを含有する酸化物材料の製造方法であって、リン酸水溶液およびSnO粉末を混合して原料バッチを作製する工程、および、原料バッチを溶融する工程を含むことを特徴とする製造方法。リン酸水溶液の濃度が10〜70質量%であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】ガラス製光学素子において、表面の薄膜を形成する場合に薄膜密着性および薄膜の反射率特性に優れ、効率よく製造することができるようにする。
【解決手段】フッ素およびリンを含有するガラス材料を加工したレンズ本体1cを有するレンズ1であって、レンズ本体1cは、ガラス材料の組成と同じ組成を有する基体部1Bと、基体部1Bの少なくとも一部の表面に層状に形成され、フッ素元素の含有率が基体部1Bの組成におけるフッ素元素の含有比率を下回ることなく変化して最外面で最大となる勾配を有するフッ素濃度勾配層部1Fと、を備える構成とする。 (もっと読む)


【課題】300nm以下の紫外域での透過性に優れた紫外域透過ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物換算による重量%表示で、SiO 10%〜40%、B 10%〜40%、Al 2%〜7.0%、LiO 0〜5%、NaO 0〜8%、KO 0〜8.0%(但し、LiO+NaO+KO=0%〜10%)、CaO 0%〜40%、BaO 0%〜40%、ZnO 0〜10%(但し、CaO+BaO+MgO+SrO+ZnO=1%〜40%)、Y 0%〜17%、 ZrO 0%〜18.0%(但し、Y又はZrOの一方以上を含む)、Sb 0%〜0.5%を含有し、微細結晶を析出させることで、肉厚2.0mmの試料における250nmの透過率を60%以上とした。 (もっと読む)


【課題】特に歯科用ガラス及び光学ガラスとして適し、非常に良好な耐薬品性を有するBaO−フリー及びPbO−フリーのX線不透過性ガラスを提供する。
【解決手段】せいぜい不純物を除きBaO−フリー及びPbO−フリーであるX線不透過性ガラスは、LaとZrOを付加したSiO−Al−SrO−RO系であり、酸化物基準の質量%表示で、SiO 55〜75%、B 0〜9%、Al 0.5〜4%、LiO 0〜2%、NaO 0〜7%、KO 0〜9%、CsO 0〜15%、SrO 4〜17%、CaO 0〜11%、MgO 0〜<3%、ZrO 1〜<11%、La 1〜10%、SnO 0〜4%、LiO+NaO+KO 0.5〜12%、SrO+CsO+La+SnO+ZrO ≧10%を含有し、1.50〜1.58の屈折率n及び少なくとも300%のアルミニウム等価厚を有する。 (もっと読む)


【課題】各種光学用レンズ、窓材、プリズムなどの色収差を補正するために用いられる弗燐酸塩光学ガラスの酸化物を低減でき、屈折率の安定した弗燐酸塩光学ガラスを提供する。
【解決手段】AlとFを含有しかつAl等のアルミニウム酸化物の含有率が小さいMg、Ca、Sr、Baのフルオロアルミン酸塩化合物を単一または複数原料として使用し、溶融することで、酸化物含有量が少なく、屈折率の安定した弗燐酸塩光学ガラスを製造する。 (もっと読む)


【課題】可視領域に対する透明性が高く、且つガラスの作製時及び加工時に失透や曇りが生じ難く、研磨加工によるプリフォーム材や光学素子の作製を行い易い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全質量に対する質量%でBi成分を70.0%以上90.0%以下、B成分を6.0%以上20.0%以下及びSiO成分を0%超20%以下の成分をそれぞれ含有することを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】本発明は、太陽電池用カバーガラスに適した高い透過率を有し、さらに風冷強化時に反りの発生を抑制し易いガラスを提供することを課題とする。
【解決手段】太陽電池用カバーガラスであり、該太陽電池用カバーガラスは平面状で厚さ2mm〜4mmのソーダ石灰系ガラスからなり、成分として、質量%で、
Alを1.1〜1.6、CaOを9〜11、MgOを2.5〜3.5、全アンチモン酸化物をSb換算で0.1〜0.5、鉄酸化物をFeに換算で0.005〜0.02有し、Fe2+が(Fe2++Fe3+)の2〜9%を占め、実質的に酸化セリウム及び酸化鉄以外の着色成分を含んでいないソーダ石灰系ガラスからなることを特徴とする太陽電池用カバーガラス。 (もっと読む)


【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、耐失透性が高く、より安価である光学ガラスの提供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全質量を基準として質量%換算で、Bを10.0〜35.0%、Laを20.0〜40.0%含有し、結晶析出温度(Tx)とガラス転移温度(Tg)との差分(ΔT)が140℃以上である光学ガラス。酸化物換算組成のガラス全質量を基準として、質量%換算で0〜5%のLiOを含有する前記記載の光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】 溶融温度が変動しても、着色状態の変化がないLiO−Al−SiO系結晶化ガラスを提供する。
【解決手段】 V 0.01〜0.2質量%、SnO 0.1〜0.5質量%含有し、As及びSbを実質的に含有せず、主結晶としてβ−石英固溶体を析出してなるLiO−Al−SiO系結晶化ガラスであって、MnO及び/又はCeOを含有し、(MnO+CeO)/SnOが質量基準で0.2〜1.2であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】十分なイオン強化が可能なガラス板を提供する。
【解決手段】ガラス板1は、表層1a,1bにおけるNaO換算でのNaイオンの含有率と、中央層1cにおけるNaO換算でのNaイオンの含有率との差が、1.0質量%以下である。 (もっと読む)


【課題】液晶ディスプレイ基板用に所望の物理および化学特性を示すアルカリを含まないガラスを提供する。
【解決手段】SiO、Al、B、MgO、CaO、およびBaOと、任意にSrOとを含むアルカリを含まないガラスであって、このガラスの組成が、
(a)[MgO]:[CaO]:[SrO+BaO]=1±0.15:1±0.15:1±0.15、および
(b)1.15≦Σ(MgO+CaO+SrO+BaO)/(Al)≦1.55
という関係を満たす。 (もっと読む)


【課題】触覚で知覚可能な表面を有する物品を提供すること。
【解決手段】層が触覚で知覚可能な構造を有するように、コーティングしたガラスまたは結晶化ガラス基板に触覚特性を有する層を設け、層が構造付与無機および/またはポリシロキサン系の粒子を含み、粒子が基板上に層形成性材料により固定されており、粒子が層上に隆起を生じさせ、これにより触覚で知覚可能な構造をもたらす。 (もっと読む)


【課題】本発明の技術的課題は、異種結晶(超伝導特性を示さない結晶)の析出量が少なく、短時間の処理でBi系超伝導結晶を析出させ得る超伝導材料の製造方法を創案することである。
【解決手段】本発明の超伝導材料の製造方法は、組成として、モル%表記で、Bi 7〜35%、SrO 25〜65%、CuO 25〜65%を含有する非晶質材料を、Ca含有化合物を含む融液に接触させる工程を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】大画面でも液晶ディスプレイの輝度ムラを抑えることが可能な液晶ディスプレイ用ガラス基板を提供することである。
【解決手段】本発明のディスプレイ用ガラス基板は、ガラス基板面と直交する光により測定したレタデーションをΔ(nm)、ガラス基板の辺方向に対する該レタデーションの方位角をθ(°)とした際、{sin(2θ)}×{sin(180°・Δ/550)}で求められる最大値が3.5×10−5以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】液晶ディスプレイ基板用に所望の物理および化学特性を示すアルカリを含まないガラスを提供する。
【解決手段】酸化物基準においてモルパーセントで、
SiO 64.0−72.0
Al 9.0−16.0
1.0−5.0
MgO+La 1.0−7.5
CaO 2.0−7.5
SrO 0.0−4.5
BaO 1.0−7.0
を含み、
ここで、モルパーセントにおけるBaO/SrO比が、2.0以上であり、
700℃以上のひずみ点を有する。 (もっと読む)


【課題】従来の方法では排気工程を高温にできないため、低コストでかつ信頼性の高いプラズマディスプレイパネルを得られなかった。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネルの封着材は、前面板と、背面板とを対向配置して周囲を封着するためのプラズマディスプレイパネルの封着材であって、フィラー、フリットガラス、樹脂および有機溶剤を含み、前記フリットガラスは、酸化ビスマスを含む硼珪酸系ガラスであり、粒径が10nm以上1000nm以下であり、前記フィラーは、コージライト、フォルステライト、β−ユークリプタイト、ジルコン、ムライト、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、酸化チタン、酸化モリブデン、酸化スズ、酸化アルミニウム、石英ガラスの少なくともいずれかであることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明によれば、低消費電力のプラズマディスプレイパネルを実現して、大画面の表示デバイスなどに有用である。
【解決手段】本発明の誘電体ペーストは、誘電体ガラスと、溶剤と、樹脂とを備え、前記溶剤は、テキサノールおよび界面活性剤を含み、前記テキサノールは、前記有機溶剤中40重量%以上99重量%以下であり、前記界面活性剤は、ポリアクリレートであり、前記有機溶剤中0.2重量%以上1.0重量%以下であり、前記樹脂は、前記樹脂中エチルセルロース樹脂40重量%以上80重量%以下、アクリル樹脂20重量%以上80重量%以下であり、前記誘電体ガラスは、モル比率で25%以上38%以下であり、前記誘電体ガラスのBET値が2.5m2/g以上、3.2m2/g以下である。 (もっと読む)


【課題】面粗さの小さい基板として適当なTiO−SiOガラスの提供。
【解決手段】TiO濃度が1〜12質量%のシリカガラスであり、かつ、TiO濃度の最大値と最小値との差が、少なくとも一つの面内における30mm×30mmの範囲で0.06質量%以下であることを特徴とするTiOを含有するシリカガラス。 (もっと読む)


【課題】充分な厚みの圧縮応力層を有していることにより優れた耐衝撃性を有し、かつ、高平滑性を備えるとともに、高温高湿環境下においても歪みの発生しにくいHDD用ガラス基板および該HDD用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】一対の主表面に圧縮応力層が設けられたHDD用ガラス基板であって、前記主表面にイオン交換層を有さず、前記圧縮応力層の厚みが2〜30μmであることを特徴とするHDD用ガラス基板。 (もっと読む)


【課題】優れた耐衝撃性を有し、読み書きエラーの発生頻度が少ないHDD用ガラス基板およびHDD用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】中心孔を形成する内周端面に圧縮応力層とイオン交換層とを有し、主表面及び外周端面にイオン交換層を有さないことを特徴とするHDD用ガラス基板とする。中心孔を有する円盤状のガラス基板前駆体を用いたHDD用ガラス基板の製造方法であって、化学強化工程によって前記ガラス基板前駆体の全表面に厚みの合計が50〜200μmである圧縮応力層とイオン交換層とを形成した後、外径研磨工程によって前記ガラス基板前駆体の外周端面に形成されたイオン交換層を除去し、研削工程及び/又は研磨工程によって前記ガラス基板前駆体の主表面に形成されたイオン交換層を除去することを特徴とするHDD用ガラス基板の製造方法を用いる。 (もっと読む)


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