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低融点ガラス組成物及びそれを用いた導電性ペースト材料
【課題】
結晶Si太陽電池用の導電性ペーストにおいて、高い集電効率を得られるような無鉛導電性ペースト材料用の低融点ガラス組成物が望まれている。
【解決手段】質量%でSiO2を1〜15、B2O3を18〜30、Al2O3を0〜10、ZnOを25〜43、RO(MgO+CaO+SrO+BaO)を8〜30、R2O(Li2O+Na2O+K2O)を6〜17含むSiO2−B2O3−ZnO−RO−R2O系無鉛低融点ガラスを含むことを特徴とする低融点ガラス組成物及びそれを用いた導電性ペースト材料である。
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アルミニウム電極配線用のガラス組成物と導電性ペースト、そのアルミニウム電極配線を具備する電子部品、及び、この電子部品の製造方法
【課題】鉛を含まず、アルミニウム(Al)の仕事関数より電極配線としての見かけの仕事関数が小さくなるアルミニウム電極配線用のガラス組成物を提供する。
【解決手段】アルミニウムより仕事関数が小さい元素の酸化物から構成される。この酸化物は、バナジウム(V)の酸化物と、アルカリ土類金属の酸化物と、アルカリ金属の酸化物とから構成され、アルカリ土類金属の元素としてはカルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)及びバリウム(Ba)の元素の内少なくともバリウムを含む1種以上の元素がなり、アルカリ金属の元素としてはナトリウム(Na)、カリウム(K)、ルビジウム(Rb)及びセシウム(Cs)の元素の内少なくとも1種以上の元素がなる。バナジウムの元素が五酸化バナジウム(V2O5)として含まれているとした場合に、五酸化バナジウムを40〜70重量%含む。
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情報記録媒体用結晶化ガラス基板およびその製造方法
【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性を有する情報記録媒体用基板、およびその為の加工性に優れた材料を提供することにある。また、人体及び環境に対して悪影響をおよぼすおそれのある砒素成分やアンチモン成分を実質的に使用せずともガラス素地の泡やダイレクトプレス時のリボイルの発生がなく、ダイレクトプレス法に適した生産性の高い情報記録媒体用基板を提供すること。
【解決手段】主結晶相としてRAl2O4、R2TiO4、(ただしRはZn、Mg、Feから選択される1種類以上)から選ばれる一種以上を含有し、主結晶相の結晶粒径が0.5nm〜20nmの範囲であり、結晶化度が15%以下であり、比重が3.00以下であることを特徴とする結晶化ガラスからなる情報記録媒体用結晶化ガラス基板。
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強化ガラス基板及びその製造方法
【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO2 40〜71%、Al2O3 3〜21%、Li2O 0〜3.5%、Na2O 10〜20%、K2O 0〜15%を含有すると共に、内部の引っ張り応力が15〜200MPaであることを特徴とする。
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光学ガラス、光学素子及びプリフォーム
【課題】高屈折率高分散性を有し、部分分散比が小さく、透過率が良好な光学ガラスの提
供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でP2O5成分を10.0〜60.0%、及びNb2O5成分を5.0〜45.0%、TiO2成分を0〜30.0%、B2O3成分を5.0%以上30.0%未満含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦25の範囲において(−0.0016×νd+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00563×νd+0.75873)の関係を満たし、νd>25の範囲において(−0.0025×νd+0.65710)≦(θg,F)≦−0.0034×νd+0.70300の関係を満たす光学ガラス。
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光学ガラス、光学素子及びプリフォーム
【課題】高屈折率高分散性を有し、部分分散比が小さく、透過率が良好な光学ガラスの提
供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でP2O5成分を10.0〜60.0%、及びNb2O5成分を5.0〜45.0%、TiO2成分を0〜30.0%、B2O3成分を0%以上5.0%未満含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦25の範囲において(−0.0016×νd+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00563×νd+0.75873)の関係を満たし、νd>25の範囲において(−0.0025×νd+0.65710)≦(θg,F)≦−0.0034×νd+0.70300の関係を満たす光学ガラス。
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強化ガラス基板及びその製造方法
【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO2 40〜71%、Al2O3 3〜21%、Li2O 0〜3.5%、Na2O 7〜20%、K2O 0〜15%を含有すると共に、強化処理後に切断されてなることを特徴とする。
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組成物およびこれを用いた焼成物
【課題】ディスプレイ部材や回路部材において、パターンに用いられる組成物で、塗布可能で、かつ低温で有機成分を熱分解でき、焼成後に高強度な材料を得ることができる焼成用組成物およびこれを用いた焼成物をより安全に提供する。
【解決手段】リオトロピック液晶と、低軟化点ガラスを含む塗布に適したレオロジー特性を有する組成物であり、リオトロピック液晶の熱分解温度が300℃以下で、低軟化点ガラスの軟化点よりも40℃以上低いものである。
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光学ガラス、光学素子及びプリフォーム
【課題】高屈折率高分散性を有し、部分分散比が小さく、透過率が良好な光学ガラスの提
供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でP2O5成分を10.0〜60.0%、及びNb2O5成分を5.0〜45.0%、TiO2成分を0〜30.0%、B2O3成分を1.0%以上12.0%未満含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦25の範囲において(−0.0016×νd+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00563×νd+0.75873)の関係を満たし、νd>25の範囲において(−0.0025×νd+0.65710)≦(θg,F)≦−0.0034×νd+0.70300の関係を満たす光学ガラス。
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強化ガラス基板及びその製造方法
【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO2 40〜71%、Al2O3 7.5〜21%、Li2O 0〜2%、Na2O 7〜20%、K2O 0〜15%、SO3 0.001〜3%を含有し、質量分率(Na2O+K2O)/Al2O3の値が0.7〜2であり、且つ圧縮応力層の厚みが100μm以下であることを特徴とする。
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強化ガラス基板及びその製造方法
【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する化学強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO240〜71%、Al2O33〜21%、Li2O0〜3.5%、Na2O7〜20%、K2O0〜15%、ZrO20.001〜10%、TiO20〜4%を含有することを特徴とし、SnO20.01〜3%含有せしめることでイオン交換性能を向上させる。
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半導体封止用ガラス、半導体封止用外套管及び半導体電子部品
【課題】高耐熱性を有し、且つPbO等の有害成分を含まなくても、低温封止性を有する半導体封止用ガラスを提供する。
【解決手段】歪点が650℃以上であり、且つ104dPa・sにおける温度が1200℃未満であることを特徴とし、具体的には、ガラス組成として、質量%で、SiO230〜50%、Al2O30〜10%、CaO+SrO(CaO、SrOの合量)0〜20%、BaO15〜35%、ZrO2+TiO2(ZrO2、TiO2の合量)0〜25%、La2O3+Nb2O5(La2O3、Nb2O5の合量)0〜20%を含有する。
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ガラス、ガラス基板ブランクスおよびガラス基板それぞれの製造方法
【課題】 高度の品質が要求される情報記録媒体用ガラス基板に好適に用いられるガラスの製造方法、この方法で得られたガラスを用いてガラス基板ブランクスおよびガラス基板を製造する方法を提供する。
【解決手段】 ガラス原料をガラス溶解装置で溶解し、アルカリ金属元素を含むガラスを製造する方法において、前記溶解装置として、ガラス接触部分の材料がジルコニウムを含み、かつ実質的にアルカリ金属元素を含まない材料で構成されたものを用いるガラスの製造方法、この製造方法で得られたガラスをプレス成形またはフロート成形するガラス基板ブランクスの製造方法、および該ガラス基板ブランクスに研削、研磨加工を施すガラス基板の製造方法である。
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焼結体およびその製造方法、光触媒、ガラス粉粒体混合物、並びに、スラリー状混合物
【課題】ガラスを原料として、2種以上の異なる光触媒化合物を必要十分な量で含有し、優れた光触媒活性を有する光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 焼結体の製造方法は、組成が異なる2種以上のガラス粉粒体を混合して混合物を作製する工程と、混合物を加熱し、光触媒活性を有する結晶を含むガラスセラミックスの焼結体を作製する工程と、を備えている。得られる焼結体は、TiO2結晶、WO3結晶、ZnO結晶、RnNbO3結晶、RnTaO3結晶(ここで、Rnはアルカリ金属を意味する)、及びこれらの固溶体からなる群より選択される2種以上の結晶を含むことができる。
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強化ガラス基板及びその製造方法
【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO2 40〜71%、Al2O3 3〜21%、Li2O 0〜3.5%、Na2O 7〜20%、K2O 0〜15%を含有すると共に、未研磨の表面を有し、端面部に面取り加工又はエッチング処理がなされていることを特徴とする。
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光学ガラス
【課題】本発明の目的は、屈折率1.90〜2.10、アッベ数15〜27の範囲の光学定数を有するような高屈折率高分散領域で、部分分散比が小さい光学ガラスを提供することにある。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でB2O3成分を10.0〜50.0%、及びLa2O3成分を5.0〜30.0%、Nb2O5成分を5.0〜30.0%、Ta2O5成分を0.5〜15.0%含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦25の範囲において(−0.00160×νd+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00562×νd+0.75663)の関係を満たし、νd>25の範囲において(−0.00250×νd+0.65710)≦(θg,F)≦(−0.00260×νd+0.68100)の関係を満たす光学ガラス。
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ガラス板
【課題】530〜570℃の歪点を有し、且つガラス板中のアルカリ成分と電極が反応し難いガラス板を創案し、ディスプレイの低価格化を推進すること。
【解決手段】本発明のガラス板は、ガラス組成として、質量%で、SiO2 55〜70%、Al2O3 0〜6%未満、MgO 0〜8%、CaO 0〜8%、SrO 10〜20%、BaO 0〜8%、SrO+BaO(SrO、BaOの合量) 10〜25%、MgO+CaO+SrO+BaO(MgO、CaO、SrO、BaOの合量) 10〜30%、Na2O 1〜9%未満、K2O 6超〜15%、Na2O+K2O(Na2O、K2Oの合量) 9〜15%、ZrO2 0〜5%、Al2O3+ZrO2(Al2O3、ZrO2の合量) 0〜6%未満を含有し、且つ歪点が530〜570℃であることを特徴とする。
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複合体、光触媒機能性部材、及び親水性成部材
【課題】基材上に優れた光触媒活性を有するとともに耐久性にも優れた光触媒層を設けた複合体を提供する。
【解決手段】複合体は、基材と、この基材上に位置するガラスセラミックス層と、を備えるものであって、前記ガラスセラミックス層は、酸化物基準のモル%で、TiO2成分を5.0%以上99.0%以下、並びに、SiO2成分、B2O3成分、P2O5成分及びGeO2成分からなる群より選択される1種以上を合計で1.0%以上85.0%以下含有し、前記ガラスセラミックス層が結晶相及びガラス相を有しており、前記ガラスセラミックス層の日本工業規格JIS R 1703−2:2007に基づくメチレンブルーの分解活性指数が3.0nmol/L/min以上である。
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近赤外線カットフィルタガラス
【課題】固体撮像素子の視感度補正用近赤外線カットフィルタガラスにおいて、特に近紫外線吸収特性をもつガラスを提供することを目的とする。また、近赤外線カットフィルタガラスを固体撮像素子の保護用カバーガラスとして用いることが可能であり、特にプラスチック製パッケージとの接合に好適である近赤外線カットフィルタガラスを提供すること。
【解決手段】Uの含有量が6〜20ppbである近赤外線カットフィルタガラスである。また、α線放出量が0.002〜0.02c/cm2・h、かつ波長550〜750nmの分光透過率において50%の透過率を示す波長が615nmとなるように換算した場合に、波長315nmにおける透過率が0.3%未満である近赤外線カットフィルタガラスである。
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グラスライニング組成物
【課題】本発明の目的は、微細気泡を有し、保温性及び断熱性に優れたグラスライニング施釉層を形成することができるグラスライニング組成物を提供することにある。
【解決手段】本発明のグラスライニング組成物は、グラスライニング用フリット100質量部に対してナノメートルオーダーの気泡を有するナノ多孔質(nanoporous)セラミック粒子を1〜50質量部を含むことを特徴とする。
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