【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】ＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、Ｒ’_２Ｏ成分（ただしＲ’はＬｉ、Ｎａ、Ｋのいずれか１種以上）を含む板状の結晶化ガラスを準備する工程と、前記結晶化ガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記結晶化ガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、前記研削工程は、ダイヤモンド粒子の平均径が０．１〜５μｍのダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】内部の気泡を低減し得るとともに、高性能な高周波回路に十分対応可能な低誘電損失特性を有する結晶性ガラス粉末を提供する。
【解決手段】熱処理によって、主結晶としてディオプサイド結晶と長石結晶が析出することを特徴とする結晶性ガラス粉末。結晶性ガラス粉末は、ガラス組成として質量％で、ＳｉＯ_２ ２０〜６５％、ＣａＯ ３〜２５％、ＭｇＯ ７〜３０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜２０％、ＢａＯ ５〜４０％を含有し、かつ質量比で、１≦ＳｉＯ_２／ＢａＯ≦４の関係を満たすことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板の主表面の研磨のために従来から研磨剤として使用されてきた酸化セリウムよりも、主表面を平らにする点、主表面のスクラッチの生じにくさの点でより優れた研磨剤を使用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
研磨液を用いて磁気ディスク用ガラス基板の主表面を研磨するときに、研磨液として、主表面の算術平均粗さを０．５ｎｍ以下とし、かつ主表面のマイクロウェービネス（MW-Rq）を０．５ｎｍ以下とすべく、アルミニウム系の研磨剤として粒状のベーマイトおよび／またはギブサイトを含むものを使用する。 （もっと読む）

【課題】発光素子用基板におけるガラスセラミックスの変色を抑制できるアルミナフィラーを提供すること。
【解決手段】発光素子を搭載する発光素子用基板の製造に用いられるアルミナフィラーであって、アルミナフィラーと、前記アルミナフィラーの表面を被覆し、アルミニウム以外の金属の酸化物からなる被覆層とを有することを特徴とする被覆アルミナフィラー。 （もっと読む）

【課題】低温で半導体素子を封入可能であり、しかも耐酸性に優れた半導体封入用外套管を製造する方法を提供する。
【解決手段】１０^６ｄＰａ・ｓの粘度に相当する温度が６５０℃以下であり、Ｂ_２Ｏ_３が１５．５モル％以上の組成を有するＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−Ｒ_２Ｏ系無鉛ガラスにてガラス管を作製する工程と、前記ガラス管をｐＨ３〜６の酸性溶液又はｐＨ８〜１２のアルカリ性溶液で表面処理する工程とを含む半導体封入用外套管を製造方法を特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ガラス転移点Ｔｇが低く、しかも清澄性が良好であり、かつ化学耐久性に優れた低屈折率低分散（具体的には屈折率ｎｄが１．４８〜１．５４、アッベ数νｄが５９〜６７）の光学ガラスを提供する。
【解決手段】 質量％で、ＳｉＯ_２ ４５．５〜７０％、Ｂ_２Ｏ_３ １０〜４４％、Ａｌ_２Ｏ_３ ７．２〜２０％、ＴｉＯ_２ ０〜７％、Ｎａ_２Ｏ １〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜９％、Ｒ_２Ｏ ３〜３０％（Ｒ_２ＯはＮａ_２Ｏ、Ｌｉ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの合量）、Ｓｂ_２Ｏ_３０〜０．１％未満、（Ｂ_２Ｏ_３＋Ｒ_２Ｏ）／（Ａｌ_２Ｏ_３＋ＳｉＯ_２）が０．１６〜０．８０であり、実質的にＰｂＯを含まないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機物に対する高い吸着性と光触媒活性とを兼ね備え、かつ使用性や耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】アパタイト型結晶と、ＴｉＯ_２結晶、ＷＯ_３結晶、ＲｎＮｂＯ_３結晶、ＲｎＴａＯ_３結晶（ＲｎはＬｉ、Ｎａ及びＫから選択される１種以上）、ＲＮｂ_２Ｏ_６結晶、ＲＴａ_２Ｏ_６結晶（ＲはＢｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ及びＺｎから選択される１種以上）、ＺｎＯ結晶、ナシコン型結晶、Ｂｉ_２Ｏ_３結晶、Ｂｉ_２ＷＯ_６結晶、Ｂｉ_２Ｗ_２Ｏ_９結晶、Ｂｉ_２Ｗ_３Ｏ_１２結晶、Ｂｉ_２ＭｏＯ_６結晶、Ｂｉ_２Ｍｏ_２Ｏ_９結晶、Ｂｉ_２Ｍｏ_３Ｏ_１２結晶、Ｂｉ_２Ｔｉ_２Ｏ_７結晶、Ｂｉ_２Ｔｉ_４Ｏ_１１結晶、Ｂｉ_４Ｔｉ_３Ｏ_１２結晶、Ｂｉ_１２ＴｉＯ_２０結晶、ＢｉＮｂＯ_４結晶、Ｂｉ_２Ｆｅ_４Ｏ_９結晶、ＢｉＶＯ_４結晶、ＬｉＢｉＯ_３結晶、及びこれらの固溶体から選択される１種以上の結晶と、を含有するガラスセラミックスとする。 （もっと読む）

【課題】回路形成時にフォトマスクによる補正が可能な大型の無アルカリガラス基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】短辺、長辺ともに１５００ｍｍ以上の無アルカリガラス基板において、常温から１０℃／分の速度で昇温し、保持温度４５０℃で１０時間保持し、１０℃／分の速度で降温（図１に示す温度スケジュールで熱処理）したときに、基板内の熱収縮率絶対値の最大値と最小値の差が５ｐｐｍ以内となることを特徴とする。この基板は、成形時の冷却過程において、徐冷点から（徐冷点−１００℃）の温度の範囲での平均冷却速度が、板幅方向の中央部分と端部とで１００℃／分以内でとなるように調節することで作製可能である。 （もっと読む）

【課題】得られたガラスセラミックスがクラック形成を回避する特殊な表面特性を有し、非常に高い曲げ引張強さが達成されるフロートガラスのセラミック化プロセスを提供する。
【解決手段】水素化合物を含む雰囲気中でフロートガラスのセラミック化を行い、前記水素化合物を水蒸気および分子水素からなる群より選択し、水蒸気の場合に３体積％以上、水素の場合には２体積％以上の量で雰囲気中に存在し、得られたガラスセラミックは曲げ引張強さが少なくとも３０ＭＰａであるとする方法。 （もっと読む）

【課題】特にＰｂＯ、Ｔｌ_２Ｏ、ＴｅＯ_２及びＡｓ_２Ｏ_３を用いない、好ましくは弗素及びＧｄ_２Ｏ_３を用いない環境保護的考慮がなされた光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率ｎ_ｄが１．９１≦ｎ_ｄ≦２．０５、アッベ数ｖ_ｄが１９≦ｖ_ｄ≦２５である鉛及び砒素非含有光学ガラスであって、次の組成（酸化物に基づく重量％で）、即ちＢｉ_２Ｏ_３５５−７０、ＧｅＯ_２１３−２１、ＳｉＯ_２０−９、Ｂ_２Ｏ_３０−１０、Ｌｉ_２Ｏ０−５、Ｎａ_２Ｏ０−５、Ｋ_２Ｏ０−５、Ｃｓ_２Ｏ０−６、ＭｇＯ０−１０、ＣａＯ０−１０、ＳｒＯ０−１０、ＢａＯ０−１０、ＺｎＯ０−１０、ＴｉＯ_２０−５、Ｌａ_２Ｏ_３０−７、Ｗｏ_３０−６、Ｎｂ_２Ｏ_５０−６、Σアルカリ金属酸化物０−５、Σアルカリ土類金属酸化物０−１０、Σ（Ｌａ_２Ｏ_３＋ＷＯ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＴｉＯ_２）０−８、通常の清澄剤０−２を含み、Ｂｉ_２Ｏ_３とＧｅＯ_２の比を５以下とすることを特徴とするガラス。 （もっと読む）

【課題】都市ゴミ焼却灰から製造された熔融スラグを１９重量％以上含むガラス原料から製造される、素材安定性に優れ、一般的な工芸ガラスと共に使用する場合にもクラックを生じさせない褐色ガラスを提供する。
【解決手段】都市ゴミ焼却灰から製造された熔融スラグを、ガラス原料の全重量を基準にして１９重量％〜５０重量％の量で含むガラス原料から製造された褐色ガラスであって、好ましくは、線膨張係数α（室温〜３００℃）が、（１０３±７）×１０^−７／℃の範囲内である。また、熔融スラグを元素分析することにより得られた各元素の重量パーセンテージに０．６をかけた値を、褐色ガラスに導入される熔融スラグ中の各元素由来の酸化物の重量パーセンテージと規定した場合に、褐色ガラスが酸化物換算による重量％表示で、ＳｉＯ_２４５〜６０％；Ｎａ_２Ｏ１１．５〜１２．５％；Ｂ_２Ｏ_３１．２〜１．５％；Ｋ_２Ｏ５．５〜８．０％；ＣａＯ５．０〜８．５％；Ａｌ_２Ｏ_３２．０〜３．０％；Ｓｂ_２Ｏ_３０．２〜０．４％；ＺｎＯ２．０〜３．０％；ＢａＯ２．０〜３．０％；Ｆ_２０．０５〜０．１５％；Ｌｉ_２Ｏ０．２〜０．４；Ｍｇ０．２〜０．４；Ｆｅ_２Ｏ_３０．４〜０．８；ＴｉＯ_２０．２〜０．５；を含む前記褐色ガラスも提供される。 （もっと読む）

【課題】易還元成分を含有するガラス素材であっても、表面クラック、クモリ、キズ等が無く、充分な光学性能を有する光学素子を提供するプレス成形用ガラス素材を提供する。表面クラック、クモリ、キズ等が無く、充分な光学性能を有する光学素子とその製造方法を提供する。
【解決手段】多成分系の光学ガラスからなる芯部と、少なくとも前記芯部の光学機能面となる部位を覆う複合表面層とを有するプレス成形用ガラス素材及びガラス光学素子。芯部は、易還元成分を含有し、Ｐｂを含有しない光学ガラスからなり、複合表面層は、芯部上に被覆される第１の表面層と第１の表面層上に被覆される第２の表面層を含み、前記第１の表面層は、ＺｒＯ₂、Ｙ₂Ｏ₃、及びＳｃ₂Ｏ₃のいずれか一種以上の金属酸化物からなり、膜厚が１ｎｍ以上かつ１５ｎｍ以下のであり、
前記第２の表面層は、炭素（Ｃ）からなり、膜厚が１ｎｍ以上かつ１５ｎｍ以下のである。前記光学素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、フラッタリング特性と表面平滑性に優れた記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の記録媒体用ガラス基板は、内層の表裏両面を表層で被覆したものであって、該内層は、ＳｉＯ₂およびＰ₂Ｏ₅の少なくとも１種を３０質量％以上含み、かつＬｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、およびＫ₂Ｏからなる特定アルカリ成分の合計量が０．１〜１６質量％であるガラス組成を有し、該表層は、ＳｉＯ₂およびＰ₂Ｏ₅の少なくとも１種を３０質量％以上含み、かつＬｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、およびＫ₂Ｏからなる特定アルカリ成分の合計量が０〜０．１質量％であるガラス組成を有し、かつ該内層の特定アルカリ成分の合計量と該表層の特定アルカリ成分の合計量との差が、０．１質量％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】異常分散性がより高いことでガラスレンズの色収差を高精度に補正することができ、さらに高屈折率、低分散性（高アッベ数）を備え、加えて、従来のものと同等以上に摩耗度が低く研磨加工を行い易い光学ガラス、光学素子およびプリフォームの提供。
【解決手段】カチオン成分として、Ｐ^５＋、Ａｌ^３＋、Ｃａ^２＋、Ｌｎ^３＋（Ｌｎ^３＋は、Ｙ^３＋、Ｌａ^３＋、Ｇｄ^３＋、Ｙｂ^３＋およびＬｕ^３＋からなる群から選ばれる少なくとも１つ）、ならびにＭｇ^２＋、Ｓｒ^２＋およびＢａ^２＋からなる群から選ばれる少なくとも１つを含み、Ｌｎ^３＋の合計含有率がカチオン％表示で１．１％超１０．０％以下であり、アニオン成分としてＦ⁻を含み、屈折率（ｎｄ）≧１．５５、アッベ数（νｄ）≧５５である光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】
硼素をベースにしたガスの放出を起こさず、粒子および／またはオイルを保持し且つ湿った環境に耐え、折り目強さを著しく失うことなく長期間に亙って増加した耐湿性を有するガラス繊維の不織布ウエッブ、例えば複合体を提供する。
【解決手段】
本発明によれば実質的に硼素を含まないガラスウールと補強材料として使用される実質的に硼素を含まない切断ガラス繊維から成る不織布ガラス複合体が提供される。本発明の不織布ガラス複合体は空気濾過装置に適しており、クリーンルームから硼素を除去することが重要な半導体工業において使用することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、フラッタリング特性と表面平滑性に優れた記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の記録媒体用ガラス基板は、内層の表裏両面を表層で被覆したものであって、該内層は、ＳｉＯ₂を４０〜７０質量％含み、かつＬｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、およびＫ₂Ｏからなる特定アルカリ成分の合計量が１０〜１６質量％であるガラス組成を有し、該表層は、ＳｉＯ₂を４０〜７０質量％含み、かつＬｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、およびＫ₂Ｏからなる特定アルカリ成分の合計量が１〜９．９質量％であるガラス組成を有し、内層の特定アルカリ成分の合計量と表層の特定アルカリ成分の合計量との差が、０．１質量％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】自発的に破壊しにくいフラットパネルディスプレイ用カバーガラスの提供。
【解決手段】フュージョン法により得られたガラスを化学強化して得られるフラットパネルディスプレイ用カバーガラスであって、化学強化前のガラスにおける粒子径が４０μｍ以上の欠点を含まず、内部引張り応力が３０ＭＰａ以上、且つ厚さが１．５ｍｍ以下であるフラットパネルディスプレイ用カバーガラス。 （もっと読む）

【課題】異常分散性がより高いことでガラスレンズの色収差を高精度に補正することができ、さらに高屈折率、低分散性（高アッベ数）を備え、加えて、従来のものと同等以上に摩耗度が低く研磨加工を行い易い光学ガラス、光学素子およびプリフォームの提供。
【解決手段】カチオン成分として、Ｐ、Ａｌ、アルカリ土類金属、Ｚｎ、ならびにＹ、Ｌａ、Ｇｄ、ＹｂおよびＬｕからなる群から選ばれる少なくとも１つを含有し、アニオン成分として、ＦおよびＯを含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）が０．５３５以上であり、屈折率（ｎｄ）が１．４４以上である光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】有機発光素子やＩＴＯの屈折率に整合し得る高屈折率ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３ ２０〜７０％、ＳｉＯ_２ ２０〜７０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜３０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜５０％、ＢａＯ＋Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＺｒＯ_２＋ＴｉＯ_２ ０〜３０％を含有し、モル比Ｂ_２Ｏ_３／ＳｉＯ_２が０〜１、モル比ＳｉＯ_２／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５）が０．１〜６、モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋Ｇｄ_２Ｏ_３）が０．１〜０．９９であると共に、屈折率が１．５５〜２．３であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】生産性（特に耐失透性）に優れると共に、ガラス封止材の熱膨張係数に整合し、しかも歪点が高い無アルカリガラスを創案することにより、ガラス板の製造コストを低廉化しつつ、有機ＥＬディスプレイ内部の気密性を確保し、且つｐ−Ｓｉ・ＴＦＴの製造工程におけるガラス板の熱収縮を低減する。
【解決手段】本発明の無アルカリガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ５５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ １０〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜５％、ＭｇＯ ０〜７％、ＣａＯ ３〜１０％、ＳｒＯ ０〜９％、ＢａＯ ０〜１５％、Ｐ_２Ｏ_５ ０．１〜２．５％を含有し、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、歪点が６８０℃より高いことを特徴とする。 （もっと読む）