【課題】ガラス表面を粗面化することなく、十分な表面強度を有して、可視域を超える広い範囲でフラットな透過率特性を有する光拡散ガラス部材を提供する。
【解決手段】ガラス中に結晶相を有し、酸化物換算による重量％表示で、ＳｉＯ_２を３５〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜８．０％、Ｂ_２Ｏ_３を１５〜３５％、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、Ｌｉ_２Ｏから選択される成分を全体で３〜１０％、ＣａＯ、Ｙ_２Ｏ_３から選択される成分を全体で６〜２０％、及び、Ｓｂ_２Ｏ_３を０〜１％、を含有して構成され、厚さ２．０ｍｍの部材で評価して、波長４００ｎｍ〜２５００ｎｍについて全光線平均透過率が５〜５０％であり、前記全光線平均透過率に対する透過率偏差の平均値が、４００ｎｍ〜２５００ｎｍの波長領域において４．０％以下である。 （もっと読む）

【課題】透過率の極小領域の近くに極大領域が存在し、その極大領域の透過率が高い光学ガラスフィルタを提供する。
【解決手段】酸化物換算による重量％表示で、ＳｉＯ_２を１２％〜４５％、Ｂ_２Ｏ_３を１０％〜４０％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜９．０％、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏの任意の組合せを総量で１％〜１０％、ＢａＯ、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＳｒＯ、ＺｎＯの任意の組合せを総量で１％〜４０％、Ｙ_２Ｏ_３を０％〜２０％、ＺｒＯ_２を０％〜７．０％、及び、Ｈｏ_２Ｏ_３を１．０％〜２０．０％含有し、波長範囲２７０〜３００ｎｍに透過率の極小点を有し、この極小点より低波長側１０ｎｍの波長範囲内に、極小点の透過率の二倍以上の透過率を有する極大点を有する。 （もっと読む）

【課題】半導体パッケージ用カバーガラスの透光面を研磨することなく平滑にすることによって、研磨に伴う各種問題を解消することを技術的課題とする。
【解決手段】この半導体パッケージ用カバーガラス１０は、板厚方向に相対向する第１透光面１０ａ及び第２透光面１０ｂと、周縁を構成する側面１０ｃとを備えた板状ガラスである。このカバーガラス１０の寸法は、１４×１６×０．５ｍｍであり、第１透光面１０ａ及び第２透光面１０ｂは無研磨面であり、その表面粗さ（Ｒａ）は、いずれも０．５ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ １２〜２１％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜６％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜４％、ＴｉＯ_２ ０〜４％を含有し、質量比Ｋ_２Ｏ／Ｎａ_２Ｏが０〜０．２であり、且つ液相粘度が１０^５．０ｄＰａ・ｓ以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】良好な機械的特性をもつ透明中実微小球を提供すること。
【解決手段】中実微小球の全重量に対して少なくとも約７５重量％の全含有率でチタニアと、アルミナ、ジルコニアおよび／またはシリカを含有し、アルミナ、ジルコニアおよびチタニアの全含有率はシリカの含有率より大きい、透明中実微小球となす。 （もっと読む）

【課題】（１）環境上好ましくない成分を実質的に含有しない、（２）低ガラス転移点を有する、（３）高屈折率かつ低分散である、（４）プリフォーム成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ０〜１０％、Ｂ_２Ｏ_３ ５〜３０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜０．１％未満、ＺｎＯ ３．１〜１４．５％、ＺｒＯ_２ ０〜８％、Ｌａ_２Ｏ_３ ２５〜４１％、Ｇｄ_２Ｏ_３ ０〜３０％、ＴｉＯ_２ ０〜８％、Ｎｂ_２Ｏ_５ ０〜１０％、Ｔａ_２Ｏ_５ ０〜１２％およびＷＯ_３ ０〜１０％を含有し、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有せず、かつ、屈折率が１．８４６以上、アッベ数が３０〜４５、ガラス転移点が６５０℃以下であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】高記録密度化に好適な割れにくい基板用ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２を６６〜７７％、Ａｌ_２Ｏ_３を７〜１７％、Ｂ_２Ｏ_３を０〜７％、Ｌｉ_２Ｏを０〜９％、Ｎａ_２Ｏを０〜８％、Ｋ_２Ｏを０〜３％、ＭｇＯを０〜１３％、ＣａＯを０〜６％、ＴｉＯ_２を０〜５％、ＺｒＯ_２を０〜５％含有し、ＳＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３およびＢ_２Ｏ_３の含有量の合計ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３が８１〜９２％、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量の合計Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが３〜９％、ＭｇＯおよびＣａＯの含有量の合計ＭｇＯ＋ＣａＯが４〜１３％、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２ＯおよびＣａＯ含有量の合計Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ＋ＣａＯが０〜１０％、ＴｉＯ_２およびＺｒＯ_２の含有量の合計ＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２が０〜５％である基板用ガラス。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が１．７８以上、アッベ数（ν_ｄ）が３０以下であり、部分分散比が小さい光学ガラスを提供する。
【解決手段】部分分散比（θｇ，Ｆ）が０．６２４以下の範囲の光学定数を有し、必須成分としてＳｉＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５を含有し、質量％の比率でＮｂ_２Ｏ_５が４０％より多いことを特徴とする光学ガラス。質量％の比率でＫ_２Ｏが２％未満、ＴｉＯ_２／（ＺｒＯ_２＋Ｎｂ_２Ｏ_５）が０．３２未満、かつＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＷＯ_３、ＺｎＯ、ＳｒＯ、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏの合計含有量が９０％より多いことを特徴とする前記光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ガラスの軟化点温度が低く、その後の化学強化法によりガラスの強化が可能なディスプレイ用カバーガラスを提供することを目的とする。
【解決手段】ディスプレイ用カバーガラスであり、該カバーガラスは、熱軟化状態のガラス体をプレス成形加工され、かつ該ガラス体の表層部にイオン交換によって圧縮層が形成されたものであり、該圧縮層が形成されていない部位が、質量％表示で、ＳｉＯ_２：５０〜７０、Ａｌ_２Ｏ_３：１〜２２、ＺｒＯ_２：０〜８、Ｂ_２Ｏ_３：０〜８、Ｒ_２Ｏ：１０〜３０（ＲはＬｉ、Ｎａ及びＫからなる群から選ばれる少なくとも１つ）、ＭＯ：０〜２０、（ＭはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ及びＢａからなる群から選ばれる少なくとも１つ）、のガラス組成物からなり、該ガラス組成物はＲ_２ＯとしてＬｉ_２Ｏを少なくとも１質量％有し、Ａｌ_２Ｏ_３とＺｒＯ_２とを少なくとも合計で６質量％有し、軟化点温度が６５０℃以下であること。 （もっと読む）

【課題】電気化学セルを安定した状態で導電性接続部材に接合した接合構造を有する電気化学リアクターを提供すること。
【解決手段】本発明によって提供される電気化学リアクター（２０）は、固体電解質を備える電気化学セル（１０）と導電性接続部材（２４）との接合が、該セルと該接続部材との直接的な接触を回避して該セルと該接続部材との間に配置された導電性接合材（３０）を介して行われており、その接合材は、ガラスマトリックスと導電性粒子とを有し、ここで該ガラスマトリックスは酸化物換算の質量比で以下の組成：
ＳｉＯ_２ ６０〜７５質量％；
Ａｌ_２Ｏ_３ ５〜１５質量％；
Ｎａ_２Ｏ及び／又はＫ_２Ｏ １５〜２５質量％；
ＣａＯ及び／又はＭｇＯ １〜５質量％；
から実質的に構成されている。 （もっと読む）

【課題】次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、きわめて低い比重を有する結晶化ガラスおよび情報記録媒体用結晶化ガラス基板を提供する。
【解決手段】結晶相としてＲＡｌ_２Ｏ_４、Ｒ_２ＴｉＯ_４、(ただしＲはＺｎ、Ｍｇ、Ｆｅから選択される１種類以上）から選ばれる一種以上を含有する結晶化ガラスであって、酸化物基準の質量％で、ＳｉＯ_２４０％〜６０％、Ａｌ_２Ｏ_３７％〜２３％、ＴｉＯ_２１〜１５％、ＭｇＯ１％〜２０％、ＣａＯ０％〜１０％、ＳｒＯ０％〜５％、ＢａＯ０％〜５％、ＺｎＯ０％〜１５％、ＦｅＯ０％〜８％、Ｐ_２Ｏ_５０％〜７％、Ｂ_２Ｏ_３０％以上８％未満、の各成分を含有し、（ＭｇＯ+ＣａＯ+ＳｒＯ+ＢａＯ+ＺｎＯ+ＦｅＯ）／（ＳｉＯ_２+Ａｌ_２Ｏ_３）の値が０．２５以下、(ＺｎＯ＋ＦｅＯ)／ＭｇＯの値が０以上０．９以下、比重が２．６７以下であることを特徴とする結晶化ガラス。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ １２〜２１％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜６％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜４％を含有し、質量比Ｋ_２Ｏ／Ｎａ_２Ｏが０〜０．２であり、且つ圧縮応力層の厚みが１０μｍ以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】所望の屈折率およびガラス転移点を達成しやすく、しかも高い耐候性を兼ね備えた光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ １０〜４８％、Ｂ_２Ｏ_３ ３〜１５％（ただし、１５％は含まない）、Ａｌ_２Ｏ_３ ２〜１５％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜２０％、Ｎａ_２Ｏ ０．１〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％、ＣａＯ ０．１〜２５％、ＳｒＯ ０〜２５％、ＢａＯ ０．１〜２５％（ただし、２５％は含まない）、Ｌａ_２Ｏ_３ ０〜４．５％、Ｎｂ_２Ｏ_５ ０〜４．９％、ＺｒＯ_２ ０〜７％およびＴｉＯ_２ ０〜５％を含有し、かつ、Ｐｂ成分、Ｐ成分およびＦ成分を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】高い導電性と機械的強度を備える接合部を形成可能な導電性接合材を提供し、該導電性接合材によって形成された接合部を有する固体酸化物形燃料電池（ＳＯＦＣ）システムを提供する。
【解決手段】本発明によって提供されるＳＯＦＣシステム（１１０）に形成される接合部（１２０）は、以下の二つの成分：
（ａ）Ａｇ；および、
（ｂ）クリストバライト結晶、リューサイト結晶及びフォーステライト結晶のうちから選択される少なくとも１種の結晶がガラスマトリックス中に析出していることを特徴とするガラス；
が混在して形成されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、歪点が十分に高く、且つ周辺部材の熱膨張係数に整合し、しかも高温粘度が低いガラス（特にガラス板）を創案することを技術的課題とする。
【解決手段】本発明のガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ４５〜５５％（但し、５５％を含まず）、Ａｌ_２Ｏ_３ １０．０超〜１５％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１５％、ＭｇＯ ０〜３．７％未満、ＣａＯ ２．９超〜８％、ＳｒＯ ４.０超〜１５％、ＢａＯ ２.０超〜１４％未満（但し、１４．０％を含まず）、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１０％、Ｎａ_２Ｏ ４.０超〜１５％、Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、ＺｒＯ_２ ０〜７％、Ｆｅ_２Ｏ_３ ０．０１〜１％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、Ａｌ−Ｓｉ合金層とＡｌドープ層を適正に形成し得ると共に、ブリスターやＡｌの凝集を発生させ難く、しかも熱水による電極の耐劣化性が良好な電極形成用ガラスを創案することを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の電極形成用ガラスは、ガラス組成として、モル％で、Ｂｉ_２Ｏ_３ １〜３０％、Ｂ_２Ｏ_３ １０〜６６％、ＣａＯ ０．１〜２５％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法とこの製造方法によって得られる強化板ガラスを提供する。
【解決手段】本発明の強化板ガラスは、アルミノシリケートガラスであって、板厚方向に相対向する板表面にそれぞれ化学強化による圧縮応力層を有し、板端面に、圧縮応力が形成されている領域と圧縮応力が形成されていない領域とを有し、前記アルミノシリケートガラスが、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ５０〜８０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ５〜２５％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ ３〜２５％、ＣａＯ＋ＭｇＯ＋ＺｎＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜１０％を含有し、圧縮応力層の厚さが１００μｍ以下であり、且つ前記板端面が、スクライブ割断によって形成された面であると共に、折割工程を経ずに形成された面であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】（１）環境上好ましくない鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有しない、（２）低ガラス転移点を有する、（３）高屈折率かつ低分散である、（４）プリフォーム成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ０〜１０％、Ｂ_２Ｏ_３ ５〜３０％、ＺｎＯ ３．１〜２５％、ＺｒＯ_２ ０〜５．４％、Ｌａ_２Ｏ_３ ２５〜４１％、Ｇｄ_２Ｏ_３ ０〜３０％、Ｔａ_２Ｏ_５ ０〜１２％、Ｎｂ_２Ｏ_５ ０．１〜２０％、ＷＯ_３ ０〜１０％、ＴｉＯ_２ ０〜８％およびＬｉ_２Ｏ ０．１〜５％を含有し、かつ、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有せず、屈折率が１．８４６以上、アッベ数が３０〜４５、ガラス転移点が６５０℃以下であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】紫外スペクトルにより環境中の有害細菌を有効的に抑制又は殺滅する方法。
【解決手段】類地紫外スペクトル自体放出のガラスセラミックス材を利用して抗菌する新方法であり、前記ガラスセラミックスは電源を要らずに地球自然環境中の赤外線、可視光線又は紫外線により励起され、自体から類地紫外スペクトルを放出するものであることを特徴とする方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイ用の基板ガラスとしての特性に優れており、かつ耐還元性に優れており、フロート法による成形に適した無アルカリガラス基板の提供。
【解決手段】モル％表示で実質的に、
モル％表示で実質的に、
ＳｉＯ₂ ６０〜６４％
Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜１２％、
Ｂ₂Ｏ₃ ５〜１０％
ＭｇＯ １〜１８％、
ＣａＯ ０〜１８％、
ＳｒＯ ０〜１８％、
ＢａＯ ０〜２％、
ＣａＯ＋ＳｒＯ １２〜２５％、
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ １５．５〜３０％
よりなり、アルカリ金属酸化物を実質的に含有せず、ガラス粘度がｌｏｇη＝２となる温度Ｔ₂ が１５８０℃ 以下である無アルカリガラス基板。 （もっと読む）