【課題】 ＭＥＭＳ（マイクロエレクトロニクスメカニカルシステム）などの製造に好適な、シリコンウエハなどと低温で陽極接合が可能なガラスを提供すること。さらに好ましくは低温かつ低電圧で陽極接合が可能なガラスを提供すること。
【解決手段】 酸化物基準のモル％で０．１％〜２０％のＮａ_２Ｏ、０．１％〜５０％のＰ_２Ｏ_５の各成分を含有する陽極接合用ガラス。より好ましくは酸化物基準のモル％で、３０％〜９０％のＳｉＯ_２、０％〜５０％のＢ_２Ｏ_３、０％〜５０％のＡｌ_２Ｏ_３の各成分を含有する請求項１に記載の陽極接合用ガラス。 （もっと読む）

【課題】高融点半田に対し耐半田溶解性を改善する。
【解決手段】本発明に係る導電性ペーストは、
（Ａ）導電性粉末と、
（Ｂ）酸化物換算で下記の組成からなる成分を合計で８５重量％以上含有し、かつ、実質的に鉛を含まないガラスフリットと、
（Ｃ）有機ビヒクルと、
を含むことを特徴とする導電性ペースト。
ガラスフリット中の割合として、ＳｉＯ₂…１６〜４７重量％、Ａｌ₂Ｏ₃…３３〜５２重量％、ＭｇＯ…３〜１５重量％、Ｂ₂Ｏ₃…１５〜４５重量％ （もっと読む）

【課題】一般の光学ガラスでは実現できなかった、高い硬度と高いヤング率とを有し、かつ高屈折率で低分散の光学ガラスを提供する。
【解決手段】本発明の光学ガラスは、ｍｏｌ％で示す組成が次の条件を満たす：４０％≦Ａｌ₂Ｏ₃≦５４％；２０％≦Ｌａ₂Ｏ₃＋Ｙ₂Ｏ₃≦３０％；０％≦Ｌａ₂Ｏ₃≦３０％；０％≦Ｙ₂Ｏ₃≦３０％；１６％≦ＺｒＯ₂＋Ｎｂ₂Ｏ₅＋Ｔａ₂Ｏ₅＋ＭｇＯ≦３０％；０％≦ＺｒＯ₂≦２５％；０％≦Ｎｂ₂Ｏ₅≦１０％；０％≦Ｔａ₂Ｏ₅≦１０％；０％≦ＭｇＯ≦１５％；０％≦Ｓｃ₂Ｏ₃≦１０％；０％≦Ｙｂ₂Ｏ₃≦５％；０≦ＳｉＯ₂≦１５％。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線遮蔽能力が高く、且つ耐熱性が高い電界放射型装置用ガラス板を提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２３０〜５０％、Ａｌ_２Ｏ_３０〜１０％、Ｂ_２Ｏ_３０〜２０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ（ＭｇＯ、ＣａＯ、及びＳｒＯの合量）０〜２５％、ＢａＯ１５〜３５％、ＺｒＯ_２＋ＴｉＯ_２＋Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５（ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、及びＮｂ_２Ｏ_５の合量）３〜４０％を含有し、歪点が６５０℃以上、１０ｋｅＶにおけるＸ線吸収係数が１５０ｃｍ^−１以上であることを特徴とする電界放射型装置用ガラス板。 （もっと読む）

【課題】高屈折率及び高分散を有し、可視光に対する透明性が高く、且つプレス成形時における乳白化や失透が低減された光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＰ_２Ｏ_５成分を４０．０％未満、並びに、Ｌｎ_２Ｏ_３成分（式中、ＬｎはＹ、Ｌａ、Ｇｄ、Ｃｅ、Ｅｕ、Ｄｙ、Ｙｂ及びＬｕからなる群より選択される１種以上）を合計で６０．０％未満含有し、１．７５以上の屈折率（ｎｄ）と１０以上のアッベ数（νｄ）を有する。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、部分分散比（θｇ，Ｆ）の小さく、且つ分光透過率の経時的な劣化が抑制された光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＳｉＯ_２成分を１０．０〜４０．０％、及び、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を１．０〜５０．０％含有し、１５以上３０以下のアッベ数（ν_ｄ）を有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で、ν_ｄ≦２５の範囲において（−０．００１６０×ν_ｄ＋０．６３４６０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００４８０×ν_ｄ＋０．７３５００）の関係を満たし、ν_ｄ＞２５の範囲において（−０．００２５０×ν_ｄ＋０．６５７１０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００２５０×ν_ｄ＋０．６７７５０）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、熱アシスト記録方式の記録媒体において情報のエラー発生率を低下させ、かつ磁気ヘッドの破損を抑制するガラス基板を提供することにある。
【解決手段】本発明のガラス基板は、酸化物基準の質量％表示で、ＳｉＯ₂：５８〜６８％、Ａｌ₂Ｏ₃：０〜５％、Ｂ₂Ｏ₃：０〜２％（ただしＳｉＯ₂＋Ａｌ₂Ｏ₃＋Ｂ₂Ｏ₃＝５８〜６８％）、Ｎａ₂Ｏ：１〜６％、Ｋ₂Ｏ：７〜１５％（ただしＮａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ＝８〜２１％）、ＭｇＯ：２〜７％、ＣａＯ：７〜１５％、ＢａＯ：０〜５％、ＳｒＯ：０〜５％、ＺｎＯ：０〜５％（ただしＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＺｎＯ＝９〜２２％）、ＺｒＯ₂：６〜１２％となる組成を有し、かつＬｉ₂Ｏを含まないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】多量のＴａ₂Ｏ₅及びＮｂ₂Ｏ₅を含有させなくとも、屈折率（ｎｄ）及びアッベ数（νｄ）が所望の範囲内にありながら透過率の優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％で、Ｌａ₂Ｏ₃成分を１０．０〜４０．０％、Ｂ₂Ｏ₃成分を１０．０〜４０．０％、ＳｉＯ₂成分を０〜１５．０％、Ｎｂ₂Ｏ₅成分を０〜２０．０％、ＴｉＯ₂成分を０〜１０．０％含有し、１．７５〜１．９５の屈折率（ｎｄ）を有し、３０〜４０のアッベ数（νｄ）を有する光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながら低いアッベ数（ν_ｄ）を有し、耐ソラリゼーションが良好であり、可視光に対する透明性が高く、部分分散比が小さく、低い温度で軟化し易く、且つ研磨加工を行い易い光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを得る。
【解決手段】 酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＴｅＯ_２成分を３０．０〜７０．０％、Ｐ_２Ｏ_５成分を０％〜２５．０％、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を０％〜２０．０％以下含有し、ソラリゼーションが５．０％以下であることを有する。光学素子及び精密プレス成形用プリフォームは、この光学ガラスからなる。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながら低いアッベ数（ν_ｄ）を有し、低い温度で軟化し易く、且つ研磨加工を行い易く、さらに高透過率と良好な化学的耐久性を兼ね備える光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを得る
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＴｅＯ_２成分を２０．０〜７０．０％、Ｐ_２Ｏ_５成分を０％〜２５．０％、Ｂ_２Ｏ_３成分を０％〜４０．０％、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を０％〜２０．０％、Ｌａ_２Ｏ_３成分を０％〜３０．０％含有し、ＴｅＯ_２／（Ｐ_２Ｏ_５＋Ｂ_２Ｏ_３）が１．０以上、Ｂ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋Ｌａ_２Ｏ_３が０％より多く６０％以下であり、摩耗度が２００以上８００以下、ヌープ硬度が２５０以上６５０以下、粉末法耐水性クラス（RW）が１以上３以下、粉末法耐酸性クラス（RA）が１以上３以下である光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】アッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、レンズの色収差をより高精度に補正することができ、且つ着色の少ない光学ガラス、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＰ_２Ｏ_５成分を４０．０％未満、並びに、ＷＯ_３成分及びＴａ_２Ｏ_５成分からなる群から選択される１種以上を合計で７５．０％未満含有し、０．６２以上０．６９以下の部分分散比［θｇ，Ｆ］を有し、１５以上２７以下のアッベ数（ν_ｄ）を有する。 （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 亜鉛成分を含む結晶相を有し、光触媒活性を有するガラスセラミックスが提供される。このガラスセラミックスは、酸化物換算組成の全物質量に対して、モル％でＺｎＯ成分を１０〜７０％含有してもよく、さらにＳｉＯ_２成分、ＧｅＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、及びＰ_２Ｏ_５成分からなる群より選択される１種以上の成分３０〜８０％を含有してもよい。このガラスセラミックスは、粉粒状、ファイバー状、スラリー状混合物、焼結体、基材との複合体などの形態をとることが出来る。 （もっと読む）

【課題】粘性状態でプレスすることによって、プロセスが実質的に亀裂も傷も含まないコーティングを形成するプロセスで、酸化ジルコニウムセラミックにコーティングされ得るガラスセラミックを提供すること。
【解決手段】特に粘性状態でプレスすることによって、酸化ジルコニウムセラミックに有利に塗布され得、そしてこの酸化ジルコニウムセラミックとしっかりした結合を形成し得る、ケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラスが提供される。 （もっと読む）

【課題】特にランタン系ガラスを成形する際に、成形されたガラスに割れや曇りを生じ難い成形型及びその製造方法を提供する。
【解決手段】成形型１０は、成形面２１１、３１１を有する型母材２１、３１と、成形面２１１、３１１上に設けられた保護膜２３、３３と、を備える成形型１０であって、保護膜２３、３３は、Ｉｒ及びＲｅを、Ｉｒの含量に対するＲｅの含量のモル比が２．５倍以下になる含量で含有し、成形型１０は、ランタン系ガラスの成形に用いられる。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性を有する情報記録媒体用基板、およびその為の加工性に優れた材料を提供することにある。また、人体及び環境に対して悪影響をおよぼすおそれのある砒素成分やアンチモン成分を実質的に使用せずともガラス素地の泡やダイレクトプレス時のリボイルの発生がなく、ダイレクトプレス法に適した生産性の高い情報記録媒体用基板を提供すること。
【解決手段】主結晶相としてＲＡｌ_２Ｏ_４、Ｒ_２ＴｉＯ_４、(ただしＲはＺｎ、Ｍｇ、Ｆｅから選択される１種類以上）から選ばれる一種以上を含有し、主結晶相の結晶粒径が０．５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲であり、結晶化度が１５％以下であり、比重が３．００以下であることを特徴とする結晶化ガラスからなる情報記録媒体用結晶化ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】高周波領域で使用するための誘電体、特に誘電体共振器、電子周波数フィルタ素子、またはアンテナ素子として特に適するガラスセラミックを提供する。
【解決手段】ガラスセラミックは、酸化物基準のモル％で、少なくとも、５〜５０％のＳｉＯ_２と、０〜２０％のＡｌ_２Ｏ_３と、０〜２５％のＢ_２Ｏ_３と、０〜２５％のＢａＯと、１０〜６０％のＴｉＯ_２と、５〜３５％のＲＥ_２Ｏ_３とを構成成分として有する。ここで、Ｂａは部分的にＳｒ、Ｃａ、Ｍｇで置換でき、ＲＥはランタニドまたはイットリウムであり、Ｔｉは部分的にＺｒ、Ｈｆ、Ｙ、Ｎｂ、Ｖ、Ｔａで置換できる。 （もっと読む）

【課題】高屈折率高分散性を有し、部分分散比が小さく、透過率が良好な光学ガラスの提
供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＰ_２Ｏ_５成分を１０．０〜６０．０％、及びＮｂ_２Ｏ_５成分を５．０〜４５．０％、ＴｉＯ_２成分を０〜３０．０％、Ｂ_２Ｏ_３成分を１．０％以上１２．０％未満含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で、ν_ｄ≦２５の範囲において（−０．００１６×ν_ｄ＋０．６３４６０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００５６３×ν_ｄ＋０．７５８７３）の関係を満たし、ν_ｄ＞２５の範囲において（−０．００２５×ν_ｄ＋０．６５７１０）≦（θｇ，Ｆ）≦−０．００３４×ν_ｄ＋０．７０３００の関係を満たす光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】高屈折率高分散性を有し、部分分散比が小さく、透過率が良好な光学ガラスの提
供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＰ_２Ｏ_５成分を１０．０〜６０．０％、及びＮｂ_２Ｏ_５成分を５．０〜４５．０％、ＴｉＯ_２成分を０〜３０．０％、Ｂ_２Ｏ_３成分を５．０％以上３０．０％未満含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で、ν_ｄ≦２５の範囲において（−０．００１６×ν_ｄ＋０．６３４６０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００５６３×ν_ｄ＋０．７５８７３）の関係を満たし、ν_ｄ＞２５の範囲において（−０．００２５×ν_ｄ＋０．６５７１０）≦（θｇ，Ｆ）≦−０．００３４×ν_ｄ＋０．７０３００の関係を満たす光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】高屈折率高分散性を有し、部分分散比が小さく、透過率が良好な光学ガラスの提
供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＰ_２Ｏ_５成分を１０．０〜６０．０％、及びＮｂ_２Ｏ_５成分を５．０〜４５．０％、ＴｉＯ_２成分を０〜３０．０％、Ｂ_２Ｏ_３成分を０％以上５．０％未満含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で、ν_ｄ≦２５の範囲において（−０．００１６×ν_ｄ＋０．６３４６０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００５６３×ν_ｄ＋０．７５８７３）の関係を満たし、ν_ｄ＞２５の範囲において（−０．００２５×ν_ｄ＋０．６５７１０）≦（θｇ，Ｆ）≦−０．００３４×ν_ｄ＋０．７０３００の関係を満たす光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】 高度の品質が要求される情報記録媒体用ガラス基板に好適に用いられるガラスの製造方法、この方法で得られたガラスを用いてガラス基板ブランクスおよびガラス基板を製造する方法を提供する。
【解決手段】 ガラス原料をガラス溶解装置で溶解し、アルカリ金属元素を含むガラスを製造する方法において、前記溶解装置として、ガラス接触部分の材料がジルコニウムを含み、かつ実質的にアルカリ金属元素を含まない材料で構成されたものを用いるガラスの製造方法、この製造方法で得られたガラスをプレス成形またはフロート成形するガラス基板ブランクスの製造方法、および該ガラス基板ブランクスに研削、研磨加工を施すガラス基板の製造方法である。 （もっと読む）