【課題】 耐ソーラリゼーションに優れた光学ガラスを製造するための製造方法を提供する。
【解決手段】 重量で、Ｐ₂Ｏ₅ ５〜６０％、ＴｉＯ₂ ０〜２５％、Ｂ₂Ｏ₃ ０〜２０％、ＳｉＯ₂ ０〜３０％、Ｎｂ₂Ｏ₅ ５〜６０％、Ｔａ₂Ｏ₅ ０〜２０％、ＺｒＯ₂ ０〜 ５％、Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜 ５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜２０％、Ｌａ₂Ｏ₃＋Ｙ₂Ｏ₃＋Ｇｄ₂Ｏ₃ ０〜２０％、ＺｎＯ ０〜２０％、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ ０〜３５％、ただし、Ｌｉ₂Ｏ ０〜 ８％、Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ ０〜３５％、および上記金属元素の１種または２種以上の酸化物の一部または全部と置換した弗化物（Ｆ）として合計０〜８％含有する光学ガラスにおいて、ＭｏＯ_３の含有量を測定し、ＭｏＯ₃の含有量が重量で３０ｐｐｍを超える場合は、ＭｏＯ_３の含有量を重量で３０ｐｐｍ以下に減少させる。 （もっと読む）

本発明は、ＴｉＯ₂、Ａｓ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃およびリン酸塩を含まない、透明かつ実質的に無色のβ−石英・ガラス・セラミック材料；前記ガラス・セラミック材料から形成される物品；前記ガラス・セラミック材料の前駆体である、リチウムアルミノケイ酸塩ガラス；ならびに、前記ガラス・セラミック材料および前記ガラス・セラミック材料から形成される物品の製造方法に関する。
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【課題】高屈折率、低分散で、かつガラス転移温度が低く、精密プレス成形が可能な低温軟化性を有する光学ガラス提供する。
【解決手段】モル％表示で、Ｂ_２Ｏ_３ １５〜４５％、Ｌａ_２Ｏ_３ ５〜２０％、Ｇｄ_２Ｏ_３ １〜２０％、ＺｎＯ １０〜４５％、ＷＯ_３ ０〜１５％、Ｔａ_２Ｏ_５ ０〜１０％、Ｎｂ_２Ｏ_５ ０〜１０％、ＴｉＯ_２ ０〜２０％、ＳｉＯ_２ ０〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１５％、Ｎａ_２Ｏ ０〜１０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ０〜１０％、ＳｒＯ ０〜１０％、ＢａＯ ０〜１０％、Ｙ_２Ｏ_３ ０〜８％、Ｙｂ_２Ｏ_３ ０〜８％（ただし、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｇｄ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３およびＹｂ_２Ｏ_３の合計量が１０〜３０％）、ＺｒＯ_２ ０〜０．５％未満、Ｂｉ_２Ｏ_３ ０〜１０％、Ｓｂ_２Ｏ_３ ０〜１％を含み、屈折率（ｎｄ）が１．８６超、アッベ数（νｄ）が３５以上３９．５未満かつガラス転移温度（Ｔｇ）が６３０℃以下であることを特徴とする光学ガラスである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させ、従来よりも機械的強度が高いガラス基板を得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ₂ ４５〜８０％、Ａｌ₂Ｏ₃ ３〜２１％、ＺｎＯ ０．０１〜１５％、Ｂ₂Ｏ₃ ０〜１６％を含有し、且つ質量分率で、（Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ）／Ａｌ₂Ｏ₃の値が０．５〜２、Ｌｉ₂Ｏ／（Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ）の値が０〜０．５であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させ、従来よりも機械的強度が高いガラス基板を得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、モル％でＳｉＯ₂ ５０〜８５％、Ａｌ₂Ｏ₃ ５〜３０％、Ｌｉ₂Ｏ ０〜２０％、Ｎａ₂Ｏ ０〜２０％、Ｋ₂Ｏ ０〜２０％、ＴｉＯ₂ ０．００１〜１０％、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ＋Ａｌ₂Ｏ₃ １５〜３５％を含有し、且つモル分率で、（Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ）／Ａｌ₂Ｏ₃の値が０．７〜３であって、実質的にＡｓ₂Ｏ₃、Ｆを含有しないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】リヒートプレス成形で失透しやすいガラスでも、透明な高品質のプレス成形品を製造できる、ガラス素材の製造方法、及びプレス成形品の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス溶解工程、ガラス成形工程、アニールする工程を含むプレス成形用ガラス素材の製造方法。溶融ガラスは、(1)室温まで急冷すると波長４００〜２５００ｎｍにおける散乱係数が０．００５ｃｍ^-1未満であるか、または体積分率で１０^-6未満の結晶を含むガラスとなり、かつ(2)ガラス転移温度より１０℃高い温度に３時間保持し、１０^4.5 〜１０^3.5 ｄＰａ・ｓの粘度を示す温度に１０分間保持した後に室温まで急冷すると、波長４００〜２５００ｎｍの少なくとも１波長における散乱係数が０．０１ｃｍ^-1以上であるか、または体積分率で１０^-5より多い結晶を含むガラスとなる組成を有する。前記成形されたガラスのアニールをガラス転移温度未満の温度で行う。 （もっと読む）

【課題】酸化ビスマスを含有し光学ガラスにおいて、脱泡性に優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を１０％以上９０％未満含有する光学ガラスにおいて、かつＴｅＯ_２成分及び／又はＳｅＯ_２成分を０．１％以上含有させることにより、「ＪＯＧＩＳ１２−１９９４光学ガラスの泡の測定方法」に準じた測定方法において、４級から１級の級を有する光学ガラスを製造できる。さらに、アルカリ土類金属酸化物、アルカリ金属酸化物等の調整により、清澄工程を短時間・低温で完了することが可能である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高屈折率光学ガラスであり、非常に低いガラス転移点（Ｔｇ）を有し、かつ化学的耐久性に優れ、精密プレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率（ｎｄ）が１．９以上およびアッベ数（νｄ）が１５以上であり、ガラス転移点（Ｔｇ）が３００℃以下であり、Ｐｂ及び／又はＡｓ化合物を含まず、ＴｅＯ_２成分を５０ｍｏｌ％以上含有することを特徴とする光学ガラス。Ｒ_２Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓからなる群より選択される１種以上）成分、ＺｎＯ成分、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を含有し、さらにＡｌ_２Ｏ_３及び／又はＧａ_２Ｏ_３成分を含有する前記光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】 屈折率（ｎｄ）及びアッベ数（νｄ）が大であり、かつ、ガラス転移温度（Ｔｇ）及び屈伏点（Ａｔ）が低く、高屈折率低分散で、溶融性及び安定性が高くて成形性の良好な精密プレス成形用光学ガラスを提供すること
【解決手段】 ＳｉＯ₂：９．０〜２５．０モル％、Ｂ₂Ｏ₃：１５．０〜３０．０モル％未満、ＧｅＯ₂：０〜７．０モル％、Ｌａ₂Ｏ₃：１０．０〜１８．０モル％、Ｇｄ₂Ｏ₃：５．０〜１３．０モル％、Ｔａ₂Ｏ₅：０〜６．０モル％、
Ｌｉ₂Ｏ：１０．０〜２６．０モル％、ＺｎＯ：１．０〜１０．０モル％、ＺｒＯ₂：０〜６．０モル％、ＴｉＯ₂：５．０を超え１０．０モル％以下、ＷＯ₃：０〜４．０モル％、及びＮｂ₂Ｏ₅：０〜３．０モル％、を含有する組成の精密プレス成形用光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】
安定性がさほど高くないガラスや融液の状態で揮発性の高いガラスを用いた場合であっても、失透や脈理のない高品質なプリフォームを製造する方法を提供する。
【解決手段】
精密プレス成形に供するためのガラス製プリフォームの製造方法であって、 流出口から流出する熔融ガラスから熔融ガラス塊を分離し、プレス成形して前記プリフォームに近似する形状を有するガラス体を作製し、少なくとも研磨工程を経て前記ガラス体からプリフォームを作製することを特徴とするガラス製プリフォームの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】プレス成形等に適した低温成形用ガラス及びそのような低温成形用ガラスを用いたガラス成形品の製造方法を提供する。
【解決手段】低温成形用ガラス及びそのような低温成形用ガラスを用いたガラス成形品の製造方法であって、ガラス原料として、Ｐ₂Ｏ₅と、ＢａＯと、ＺｎＯと、ＳＯ₃と、を含む低温成形用ガラスであって、全体量に対して、Ｐ₂Ｏ₅の添加量を４０〜６０重量％の範囲内の値とし、ＢａＯの添加量を１０〜４０重量％の範囲内の値とし、ＺｎＯの添加量を１〜４０重量％の範囲内の値とし、かつ、ＳＯ₃の添加量を０．１〜２０重量％の範囲内の値としたガラス組成物を使用する。 （もっと読む）

本発明は高屈折率低色分散の精密プレス成形用光学ガラスを提供し、その成分の重量百分率は、ＳｉＯ_２：１〜８％、Ｂ_２Ｏ_３：１６〜３０％、Ｌａ_２Ｏ_３：１５〜４０％、Ｇｄ_２Ｏ_３：０〜２０％、ＺｎＯ：８〜３０％、Ｎｂ_２Ｏ_５：０．５〜１４．５％、ＷＯ_３：０〜１２．５％ 、ＴｉＯ_２：０〜９％、Ｌｉ_２Ｏ：０．５〜４％、ＺｒＯ_２：１〜１０％、Ｙ_２Ｏ_３：０〜５％、Ｙｂ_２Ｏ_３：０〜５％、Ｌｕ_２Ｏ_３：０〜５％、Ｎａ_２Ｏ：０〜３％、Ｋ_２Ｏ：０〜２％、Ａｌ_２Ｏ_３：０〜２％、ＢａＯ：０〜３％、ＣａＯ：０〜３％、ＳｒＯ：０〜３％、ＭｇＯ：０〜３％、Ｓｂ_２Ｏ_３：０〜０．５％及びＳｎＯ_２：０〜０．５％である。本発明は、Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２−Ｌａ_２Ｏ_３（Ｇｄ_２Ｏ_３）−ＺｎＯ系を採用し、合理的比率のＮｂ_２Ｏ_５、ＷＯ_３、ＴｉＯ_２を使用することで、ガラスが、必要な光学定数に達し、かつ精密プレス成形に適した良好な物理化学特性を有するようにする。本発明の光学ガラスの転移温度（Ｔｇ）は５６０℃より低く、成分中に価格の高いＴａ_２Ｏ_５を含まず、また、ガラスが良好な化学的安定性を有するため、単一の坩堝または連続溶解タンク窯等の設備で大量の安定した生産をすることができ、低コストで非球面レンズ等の光学素子を精密金型プレス成形するのに適している。 （もっと読む）

【課題】 高速回転化に対応できる情報記憶媒体を得ること。
【解決手段】 ＳｉＯ_２を４５−６５モル％、Ａｌ_２Ｏ_３を０−１５モル％、Ｌｉ_２Ｏを４−２０モル％、Ｎａ_２Ｏを０−８モル％、（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ）を４−２８モル％、ＣａＯを０−２１モル％、ＭｇＯを０−２２モル％、（ＣａＯ＋ＭｇＯ）を４−４０モル％、Ｙ_２Ｏ_３を０−１６モル％、及び、ＴｉＯ_２を１−１５モル％含み、かつ１００ＧＰａ以上のヤング率、１３５０℃以下の液相温度を達成するガラス成分によって形成されている情報記憶媒体用基板上に記録層を形成して情報記憶媒体を作製する。 （もっと読む）

【課題】Ｂ_２Ｏ_３成分、ＳｉＯ_２成分、Ｌａ_２Ｏ_３成分を必須成分としたガラス系において、高い放射線遮蔽性能を有するガラス組成物を提供すること。
【解決手段】酸化物基準の質量％で、Ｂ_２Ｏ_３を２０〜３５、ＳｉＯ_２を１１〜４５、Ｌａ_２Ｏ_３を１６〜５０、Ｍ_２Ｏ_３（ＭはＡｌ、Ｇａ、Ｉｎからなる群より選択される１種以上を示す。）を０〜５％、Ｇｄ_２Ｏ_３および／またはＤｙ_２Ｏ_３および／またはＬｕ_２Ｏ_３を０〜２５％、ＢａＯを０〜１０％の範囲で各成分を含有し、１５０ｋＶのＸ線に対する鉛当量が０．０５ｍｍＰｂ／ｍｍ以上であるガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】 メカノケミカル効果が起こりやすく、微粒子表面を完全に被覆できる微粒子表面被覆用ガラス粉末を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の微粒子表面被覆用ガラス粉末は、微粒子の表面を被覆するためガラス粉末において、屈伏点が５２０℃以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】Ｂ_２Ｏ_３成分Ｌａ_２Ｏ_３成分を必須成分としたガラス系において、高い放射線遮蔽性能を有するガラス組成物を提供すること。
【解決手段】酸化物基準の質量％で、Ｂ_２Ｏ_３を２０〜３５％、Ｌａ_２Ｏ_３を１６〜５０％、ＷＯ_３を０〜３０％、Ｇｄ_２Ｏ_３および／またはＤｙ_２Ｏ_３および／またはＬｕ_２Ｏ_３を０〜２５％、Ｍ_２Ｏ_３（ＭはＡｌ、Ｇａ、Ｉｎからなる群より選択される１種以上を示す。）を０〜５％、ＢａＯを０〜１０％の範囲で各成分を含有し、１５０ｋＶのＸ線に対する鉛当量が０．０５ｍｍＰｂ／ｍｍ以上であるガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】Ｂ_２Ｏ_３成分、Ｌａ_２Ｏ_３成分を必須成分としたガラス系において、高い放射線遮蔽性能を有するガラス組成物を提供すること。
【解決手段】酸化物基準の質量％で、Ｂ_２Ｏ_３を５〜２０％未満、Ｌａ_２Ｏ_３を１６〜５０％、Ｍ_２Ｏ_３（ＭはＡｌ、Ｇａ、Ｉｎからなる群より選択される１種以上を示す。）を０〜５％、Ｇｄ_２Ｏ_３および／またはＤｙ_２Ｏ_３および／またはＬｕ_２Ｏ_３を０〜２５％、ＢａＯを０〜１０％の範囲で各成分を含有し、１５０ｋＶのＸ線に対する鉛当量が０．０５ｍｍＰｂ／ｍｍ以上であるガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】高い屈折率を有することが期待されるチタン系酸化物ガラスを、従来にはなかったバルク状の状態で提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のチタン系酸化物ガラスは、バルク状であって、実質的に、式(M1)_1-x(M2)_x(Ti_1-y1(M3)_y1)_y2O_zで表される組成を有する。M1はBa、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、NaおよびCaから選ばれる１種の元素であり、M2はMg、Ba、Ca、Sr、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Na、Sc、Y、Hf、BiおよびAgから選ばれる少なくとも１種の元素であり、M3はV、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Zr、Nb、Mo、Ru、Rh、Pd、Al、Si、P、Ga、Ge、In、Sn、SbおよびTeから選ばれる少なくとも１種の元素である。x、y1、y2およびZは、0≦x≦0.5、0≦y1＜0.31、1.4＜y2＜3.2、3.9＜z＜8.0、M1がBaの場合はx+y1≠0、かつ、M1およびM2がBaの場合はy1≠0、の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】高屈折率高分散性環境対策重フリント光学ガラスを提供すること。
【解決手段】その組成の重量％は、SiO₂20〜44％、TiO₂22〜34％、Nb₂O₅5〜22％、Na₂O7〜18％、BaO9〜17％、K₂O0〜9％、CaO0〜3％、ZrO₂0〜3％、SrO0〜0.5％及びSb₂O₃0〜0.5％である。高屈折率高分散性環境対策重フリント光学ガラスの製造方法は、下記のステップを含み、１）調合した原料を十分に混合し、均一性を確保する。２）1150〜1300℃の高温下、タンク釜にてガラス液に溶製し、ガラス液の屈折率の一致性は良好になる。３）屈折率の合格したガラス液は清澄及び十分に均質化を通して、ガラス帯板に成型した。４）ガラス帯板を徐冷釜にてアニール処理を行う。高屈折率高分散性環境対策重フリント光学ガラスの製造設備は、タンク釜と徐冷釜を含み、前記タンク釜の溶融タンクは自動燃焼制御システムに接続している。本発明の光学ガラスには、環境を汚染するPbO、As₂O₃及びGdO組成分が含まれていない、タンク釜にて一回溶融の方式を採用して光学ガラスを製造し、高温溶融の回数を減少し、光学的透過性能を向上した。
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【課題】 高屈折で低分散の光学特性を有しガラス転移点が低い精密成形用ガラス
プリフォームに適した光学ガラスを提供することにある。
【解決手段】 必須成分として、カチオン成分として、Ｓｉ^４＋、Ｂ^３＋、Ｚｎ^２＋、Ｌａ^３＋、Ｔａ^５＋、Ｇａ^３＋、Ｗ^６＋を含有し、屈折率（ｎｄ）が１．８以上１．９以下、アッベ数（νｄ）が、３５以上４２以下である光学ガラスにより、溶融流出の際に脈理、失透が生じ難い、高屈折率で低分散の光学特性を有する光学ガラス及び光学素子を製造することが可能となった。 （もっと読む）