【課題】 白色誘電体層に好適な、耐酸性が高く、軟化点が低く、ＰＤＰ用のガラス基板と同程度の熱膨張係数を有し、誘電率が低く、空洞層の生じ難い無鉛ガラス組成物およびガラスペーストを提供する。
【解決手段】 白色誘電体層を構成するガラスの組成は、例えば、SiO₂ 5〜25(％)、B₂O₃ 4〜30(％)、ZnO 7〜30(％)、Bi₂O₃ 15〜70(％)、Al₂O₃ 0〜15(％)、BaO 5〜20(％)である。白色誘電体層は、このようなBi₂O₃系ガラスで構成され、且つそのガラス中にBaOが5(％)以上含まれることから、書込電極との近傍においても、背面板との界面に空洞層は何ら生じていない。すなわち、背面板と白色誘電体層とが好適に密着させられている。 （もっと読む）

【課題】本発明は酸化ビスマスを含有するガラスにおいて、良好な透過率を有する光学ガラスを製造する方法を提供する。
【解決手段】Ｂｉ_２Ｏ_３を含有する光学ガラスの原料混合物中に、熱分解して酸化性ガスとなる原料及び／又はその他のガスを放出させる事ができる原料を含有させ、攪拌による酸化効果、酸化性ガスによる酸化効果によってガラスの透過率を向上させる。酸化物基準の質量％でＢｉ_２Ｏ_３成分を１０％以上含有する原料混合物を溶融成形し、光学ガラスを製造する方法であって、前記原料混合物において、総質量の３％以上がガラス構成成分として残留しない成分を含有することを特徴とする前記製造方法。 （もっと読む）

【課題】厚み１ｍｍでの波長５．５μｍの光の透過率が５０％以上、波長７．０μｍの光の透過率が１０％以下である基板用ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル％表示で、Ｂｉ_２Ｏ_３を１０〜５５％、ＧｅＯ_２を２０〜８５％、Ｇａ_２Ｏ_３を０〜１９％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１５％含有し、Ｂｉ_２Ｏ_３＋ＧｅＯ_２が５０％以上であり、ＭｇＯを含有する場合Ｇａ_２Ｏ_３＋ＭｇＯが２０％以下である基板用ガラス。Ｂｉ_２Ｏ_３含有量が１５％以上、ＧｅＯ_２含有量が８０％以下、Ｇａ_２Ｏ_３＋Ａｌ_２Ｏ_３が２〜３０％である前記基板用ガラス。ＧｅＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３が６０％以上である前記基板用ガラス。ガラス転移点が４００℃以上である前記基板用ガラス。 （もっと読む）

【課題】屈折率が１．５５〜１．９であり、屈伏温度が低く（５２０℃以下）、且つ、耐失透性が良好な、モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス全体量を１００重量％とし、酸化物組成として、ＳｉＯ_２：６〜３７重量％、Ｂ_２Ｏ_３：７重量％より多く２６重量％以下及びＡｌ_２Ｏ_３：１５重量％以下であって、ＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３及びＡｌ_２Ｏ_３の合計量として１９〜６６重量％を含有し、Ｂｉ_２Ｏ_３：１８〜７３重量％を含有し、屈折率が１．５５〜１．９であり、且つ、屈伏温度が５２０℃以下であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】長期間保管しても、ペースト粘度が不当に上昇することなく、平滑で均一な膜厚を形成できるガラスペーストを得ることにより、表面精度が良好な誘電体層等を形成すること。
【解決手段】本発明のガラスペーストは、ガラス粉末とビークルを含有するガラスペーストであって、ガラスペースト中の塩化物の含有量が６０ｐｐｍ以下、好ましくは４０ｐｐｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ディスプレーまたはスクリーンの背景照明のためのシステムにおいて、簡易に製造できて、照明密度の経時的低下に対して、より修復し易いバックライトシステムを提供する。
【解決手段】少なくとも１つのカバーガラス付き照明体１１０およびその上に配置された透明素子１３０を持ち、該素子の少なくとも１つの面に、少なくとも部分的には平面状に蛍光層１２０が付与されている。 （もっと読む）

【課題】高屈折率で、低アッベ数の光学特性を有すると共に、人体に有害な酸化鉛を含まず、しかもガラス転移温度やガラス屈伏点が低く、かつ精密モールドプレス成形時に白濁が生じにくい、低コストの光学ガラスを提供すること。
【解決手段】ガラス組成として、重量％で
Ｐ₂Ｏ₅：１８〜３２％、Ｂ₂Ｏ₃：０〜６％、ＧｅＯ₂：０．１〜５％、Ａｌ₂Ｏ₃：０．１〜６％、ＺｎＯ：０．１〜５％、ＴｉＯ₂：０〜１０％、Ｎｂ₂Ｏ₅：１６〜５０％、ＷＯ₃：１〜１６％、Ｂｉ₂Ｏ₃：３〜３６％、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ：２〜１５％（但し、Ｌｉ₂Ｏ：０．１〜６％，Ｎａ₂Ｏ：０．１〜１２％，Ｋ₂Ｏ：０．１〜６％）、ＢａＯ：０．１〜８％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ：０．１〜８％（但し、ＭｇＯ：０〜５％，ＣａＯ：０〜５％，ＳｒＯ：０〜５％）を含んでなることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】本発明は、５００℃で一次焼成しても失透せず、しかも４５０〜５００℃の二次焼成で良好に流動するビスマス系封着材料を提供し、ＰＤＰ等の平面表示装置の製造効率向上に貢献することを技術的課題とする。
【解決手段】本発明のビスマス系ガラス組成物は、ガラス組成として、下記酸化物換算のモル％で、Ｂｉ₂Ｏ₃ ３０〜５０％、Ｂ₂Ｏ₃ １５〜３５％、ＺｎＯ １０〜４０％、ＭｇＯ ０．１〜７％、Ａｌ₂Ｏ₃ ０．１〜７％、ＳｉＯ₂ ０．１〜７％含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】封着工程で良好に軟化流動した後に十分な量の結晶が析出することに加えて、結晶析出後の加熱工程、例えば真空排気工程で再流動することがなく、しかも結晶化前後の熱膨張係数の不当な上昇を抑制することができる結晶性ビスマス系ガラス組成物を得ること。
【解決手段】本発明の結晶性ビスマス系ガラス組成物は、ガラス組成として、モル％で、Ｂｉ₂Ｏ₃ ３０〜５０％、Ｂ₂Ｏ₃ ５〜２５％、ＺｎＯ＋ＣｕＯ ３１．２〜５０％、ＺｎＯ １５〜４０％、ＣｕＯ ０．１〜２５％、Ｆｅ₂Ｏ₃ ０〜５％、ＳｉＯ₂＋Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜７％、ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＭｇＯ＋ＣａＯ ０〜６％、Ｓｂ₂Ｏ₃ ０〜５％、ＷＯ₃ ０〜５％、Ｉｎ₂Ｏ₃＋Ｇａ₂Ｏ₃ ０〜５％を含有し、且つ実質的にＰｂＯを含有しないことに特徴付けられる。 （もっと読む）

【課題】環境にやさしく、半導体電子部品が、常用で１０００℃以上の耐熱性を有する半導体封止用ガラスセラミックス及び半導体電子部品を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の半導体封止用ガラスは、半導体とリード線の一部を被覆封止する半導体封止用ガラスであって、該ガラスが、封止することで結晶相を析出し、且つ、結晶相の割合が５０体積％以上となる性質を有する結晶性ガラス粉末からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】酸化ビスマスを含有し光学ガラスにおいて、脱泡性に優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を１０％以上９０％未満含有する光学ガラスにおいて、かつＴｅＯ_２成分及び／又はＳｅＯ_２成分を０．１％以上含有させることにより、「ＪＯＧＩＳ１２−１９９４光学ガラスの泡の測定方法」に準じた測定方法において、４級から１級の級を有する光学ガラスを製造できる。さらに、アルカリ土類金属酸化物、アルカリ金属酸化物等の調整により、清澄工程を短時間・低温で完了することが可能である。 （もっと読む）

【課題】５００℃で一次焼成しても失透せず、しかも４５０〜５００℃の二次焼成で良好に流動するビスマス系封着材料を提供し、ＰＤＰ等の平面表示装置の製造効率向上に貢献すること。
【解決手段】本発明のビスマス系封着材料は、ビスマス系ガラス粉末４０〜９５重量％、耐火性フィラー粉末５〜６０重量％を含有し、該ビスマス系ガラス粉末が、ガラス組成として、モル％でＢｉ₂Ｏ₃ ３０〜５０％、Ｂ₂Ｏ₃ １０〜４０％、ＺｎＯ＋ＣｕＯ ３５〜５０％含有し、且つ実質的にＰｂＯを含有しないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、例えば、焼成温度が５００℃よりも高い場合であっても、焼成時に表層がビスマス系ガラスに溶け込み難いコーディエライト粉末を作製することにより、焼成時に熱膨張係数が上昇しないとともに、流動性が損なわれない封着材料を提供することである。
【解決手段】ビスマス系ガラス粉末とコーディエライト粉末を含有する封着材料において、コーディエライト粉末が固相反応によって作製されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】平面表示装置で最適な気密容器の構成、特に支持枠の材料構成、平面表示装置の信頼性向上、製品コストの低廉化に関する。
【解決手段】ガラス粉末を含有する粉末材料を焼結させた支持枠を介し一対のガラス基板を備えた平面表示装置で、（１）ガラス粉末が、非晶質であり、（２）ガラス粉末が、下記酸化物換算の質量％表示で、ガラス組成として、Ｂｉ₂Ｏ₃ ２０〜７５％、Ｂ₂Ｏ₃ ８〜３５％、ＺｎＯ ０〜２０％、ＳｉＯ₂ ０〜１５％、Ｒ₂Ｏ ０〜２０％（但し、Ｒ₂Ｏは、Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｃｓ₂Ｏを指す）、Ｌｉ₂Ｏ ０〜１０％、Ｎａ₂Ｏ ０〜１０％、Ｋ₂Ｏ ０〜１０％、Ｒ’Ｏ ０〜４０％（但し、Ｒ’Ｏは、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯを指す）、ＳｒＯ ０〜２５％、ＢａＯ ０〜２５％含有するとともに、（３）一方のガラス基板と支持枠が融着されており、（４）他方のガラス基板と支持枠が低融点封着材料で封着されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来のビスマス系封止材よりも低温で溶融し、かつ温度を上げても安定しており結晶化せずに封着可能な封着用組成物を提供する。
【解決手段】封着用組成物は、低融点ガラスの組成がモル％表示で、Ｂｉ_２Ｏ_３：３８〜４６％、Ｂ_２Ｏ_３：１５〜２８％、ＺｎＯ：２３〜３３％、ＭｇＯ：０．１〜７％、ＳｒＯ：０．１〜７％、ＣｕＯ：０．１〜６％であり、かつ、ＭｇＯ：ＳｒＯのモル％比が１：２〜１：１であってＭｇＯ＋ＳｒＯが０．２〜８モル％であり、実質的にＰｂＯおよびＳｉＯ_２を含まない。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、平面表示装置の支持枠の形成に好適なガラス組成物を提案し、平面表示装置の信頼性向上およびコストの低廉化に資することである。
【解決手段】本発明の支持枠形成用ガラス組成物は、下記酸化物換算の質量％表示で、ガラス組成として、Ｂｉ₂Ｏ₃ ２０〜７５％、Ｂ₂Ｏ₃ ８〜３５％、ＺｎＯ ０〜２０％、ＳｉＯ₂ ０〜１５％、Ｒ₂Ｏ ０〜２０％（但し、Ｒ₂Ｏは、Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｃｓ₂Ｏを指す）、Ｌｉ₂Ｏ ０〜１０％、Ｎａ₂Ｏ ０〜１０％、Ｋ₂Ｏ ０〜１０％、Ｒ’Ｏ ０〜４０％（但し、Ｒ’Ｏは、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯを指す）、ＳｒＯ ０〜２５％、ＢａＯ ０〜２５％を含有し、且つ実質的にＰｂＯを含有しないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の吸収や透過が良好であり、かつ、オーバーコート樹脂層との密着強度が良好である厚膜保護ガラス層を形成するための厚膜保護ガラス組成物およびペーストを提供する。
【解決手段】軟化点が高いガラス粉末Ｂの軟化点ＳＰｂ（℃）が、軟化点が低いガラス粉末Ａの軟化点ＳＰａ（℃）に対して５０℃以上高い２種類のガラス粉末を用いて、厚膜保護ガラスペーストを得て、該厚膜保護ガラスペーストを印刷した後、軟化点ＳＰａに対して２０℃低い温度よりも高く、軟化点ＳＰｂに対して２０℃低い温度よりも低く、かつ、６５０℃以下である焼成温度ＴＣ（℃）で焼成する。ガラス粉末Ａに対するガラス粉末Ｂの質量比Ｍｂ／Ｍａは０．０５〜０．２とする。ガラス粉末Ａの組成は、鉛を含有せず、ＳｉＯ₂：５〜２０質量％、Ｂ₂Ｏ₃：５〜２０質量％、Ａｌ₂Ｏ₃：２〜２０質量％、Ｂｉ₂Ｏ₃：４０〜８０質量％であり、かつ、ガラス粉末Ｂの組成は、鉛を含有しない。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１．７の屈折率をもつ高屈折率ガラスの製造において、ガラスに含まれる還元感受性成分の還元が減じられ、さらに好ましくは防止される製造方法を提供する。
【解決手段】清澄槽及び／又は溶融るつぼ・均質化装置へ酸化剤を導入することによって、ガラスの還元感受性成分が清澄処理中に還元されることが減じられ、さらに好ましくは回避されるようにする。酸化剤として、酸素及び／又はオゾンが好ましく用いられる。 （もっと読む）

【課題】ＰＤＰなどのフラットディスプレイパネルの誘電体層あるいは隔壁の形成に用いられるビスマス系無鉛粉末ガラスとして、高歪点ガラスなどが用いられたガラス板上で焼成可能でありながら、しかも、焼成時に気泡が形成されることを抑制し得るビスマス系無鉛粉末ガラスを提供することを課題としている。
【解決手段】酸化物換算の質量％でＢｉ₂Ｏ₃：３０〜７５％、ＳｉＯ₂：１〜１５％、Ｂ₂Ｏ₃：５〜２０％、ＺｒＯ₂：２〜８％、Ａｌ₂Ｏ₃：０〜５％、ＺｎＯ：０〜３０％、ＴｉＯ₂：０〜５％、および、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの１種類以上が合計で０〜１５％含有されているビスマス系無鉛ガラスが用いられており、しかも、体積基準の累積粒度分布曲線の５０％値が２．０μｍ未満となる粉末状に形成されていることを特徴とするビスマス系無鉛粉末ガラスを提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は実質的に鉛成分を含まない酸化ビスマスを主成分とするガラスで各種部材の接合、封着に使用することができる還元されにくい無鉛組成物を提供することを目的としている。
【解決手段】質量％でＢｉ₂Ｏ₃を４０〜８５％、Ｂ₂Ｏ₃を５〜３０％、ＣｅＯ₂を０．１〜１０％、ＳｉＯ₂を０〜２０％、ＲＯを０〜５５％、Ｒ₂Ｏを０〜１０％、Ｒ₂Ｏ₃を０〜２０％、ＲＯ₂を０〜３０％含有するガラス粉末８０〜９９．７質量％と、酸化剤０．３〜２０質量％とを混合してなる組成物。ただしＲＯとはＺｎＯ、ＢａＯ、ＳｒＯ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＦｅＯ、ＭｎＯ、ＣｒＯ、ＣｕＯから選ばれる少なくとも一種、Ｒ₂ＯとはＬｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｃｓ₂Ｏ、Ｃｕ₂Ｏから選ばれる少なくとも一種、Ｒ₂Ｏ₃とはＡｌ₂Ｏ₃、Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃から選ばれる少なくとも一種、ＲＯ₂とは、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂から選ばれる少なくとも一種である。
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