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Fターム[4G062HH13]の内容

ガラス組成物 (224,797) | その他の金属元素 (29,614) | Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Pt無し (2,740)

Fターム[4G062HH13]に分類される特許

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【課題】 所定の光学特性を有するランタン含有の光学ガラスを安定して製造するためのガラス原料成分、および前記光学ガラスを安定して製造するための光学ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 他種のガラス原料成分と調合後、加熱、熔融して光学ガラスを製造するために用いられ、かつ水分を遮断した密閉状態にある粉体状の酸化ランタンからなるガラス原料成分、および複数種のガラス原料成分を調合後、加熱、熔融してガラスを得る光学ガラスの製造方法において、上記ガラス原料成分を開封した直後に調合するか、開封してから調合するまで乾燥雰囲気中または減圧乾燥状態で保存する光学ガラスの製造方法である。 (もっと読む)


図1に示すA点(n=1.835、ν=46.5)、B点(n=1.90、ν=40.0)、C点(n=1.90、ν=35.0)およびD点(n=1.835、ν=38.0)をA点、B点、C点、D点、A点の順序で結ぶ直線である境界線で囲まれる範囲内(ただし境界線上を含む)の屈折率(n)およびアッベ数(ν)を有し、転移温度(Tg)が低く、精密プレス成形に適した光学ガラスであって、前記範囲内(ただし境界線上を含む)の屈折率(n)およびアッベ数(ν)を有し、組成がSiO−B−La−Gd−LiO−F系であり、鉛、カドミウム、トリウム、Y、PおよびTeOを含まず、転移温度(Tg)が550〜650℃の範囲である光学ガラス。
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【課題】 例えば1MΩ/□以上の超高抵抗値を有し、抵抗値のばらつきを抑え、且つTCR特性及びSTOL特性を良好なものとすることができる抵抗体ペーストを提供する。
【解決手段】 希土類元素と、Ca、Sr、Ba、Mg、Cu、Ni、Coから選ばれる少なくとも1種との複合酸化物を含有する。前記希土類元素と、Ca、Sr、Ba、Mg、Cu、Ni、Coから選ばれる少なくとも1種との複合酸化物は、R(2−x)(x)Ru(Rは元素番号57〜71の希土類元素から選ばれる少なくとも1種であり、AはCa、Sr、Ba、Mg、Cu、Ni、Coから選ばれる少なくとも1種である。また、0<x≦1.0である。)で表される。前記Rは、Nd、Sm、Gd、Dy、Er、Luから選ばれる少なくとも1種類である。 (もっと読む)


【課題】薄膜等が形成されていないにも関わらず、高い透過率を有するディスプレイ基板を提供する。
【解決手段】無アルカリガラスからなるディスプレイ基板であって、波長400nmにおいて、基板の両表面をそれぞれ30μm除去したとき(基板肉厚が0.1mm以上の場合)、或いはそれぞれ肉厚の1/3除去したとき(基板肉厚が0.1mm未満の場合)の透過率と、除去前の透過率との差△T400が、0.5〜5.0%の範囲にあることを特徴とする。また本発明のディスプレイ基板は、内部とは組成の異なる異質層を表面に有している。異質層は、厚みが10nm〜30μmであり、またSiO2含有量が、基板内部のそれよりも高いことが好ましい。 (もっと読む)


【課題】ガラスの接着が可能な鉛を含まないコーティング材を提供する。
【解決手段】一液加熱硬化型アルカリ−ケイ酸系ガラス12〜28質量%にアルミニュームの含有量が52〜60質量%、銀の含有量が16〜22質量%であるコーティング材。シーリングの際は、該コーティング材(3、3)が塗布乾燥された素地面に、アルミニューム(4,4)を盛りつけたものを重ね合わせて400〜450℃まで加熱、または、銀−錫ハンダ(4,4)を盛りつけたものを重ね合わせて220〜300℃まで加熱することにより、シーリングを実行する。 (もっと読む)


【課題】 複雑な製造工程を必要とせず、実用的な紫色から赤色までの可視光線領域に蛍光発光を呈すガラス材料を提供すること。
【解決手段】本発明のガラス材料は、ZnS、ZnSe、ZnTeのうち少なくとも1種の微結晶を含有し、紫外線または可視光線の励起により、紫色から赤色の可視光線領域に蛍光を発するものである。好ましくは、Mn、Cuの少なくとも一種を添加する。本発明においては、結晶の励起子再結合および欠陥準位への遷移を利用し、紫色から赤色までの可視光線領域に発光を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】 例えば10kΩ/□以上の高い抵抗値を有し、TCR特性及びSTOL特性の両立を図ることができ、さらには熱的な安定性にも優れる抵抗体を実現する。
【解決手段】 ガラス組成物、導電性材料及び任意成分としての添加物を含有し、これらが有機ビヒクルと混合されてなる抵抗体ペーストである。ガラス組成物は、3価のイオン半径が0.70Å〜1.00Åである元素を含有する。3価のイオン半径が0.70Å〜1.00Åである元素は、例えばSc、In、Er、Gd、Dyである。 (もっと読む)


【課題】浮上量が10nm以下の低浮上量で磁気ヘッドを浮上飛行させる磁気ディスクを製造する場合に特に有益な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、該ガラス基板を利用した磁気ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板の鏡面研磨処理と洗浄処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、フッ素含有量が5重量%以下である希土類酸化物を主成分とする研磨剤をガラス基板に供給し、研磨布とガラス基板とを相対的に移動させてガラス基板の表面を鏡面研磨した後に、このガラス基板をアスコルビン酸及びフッ素イオンと、3重量%以上の硫酸を含有する洗浄液に接触させて、前記研磨剤を溶解除去する。洗浄液に含有されるアスコルビン酸の濃度は0.1重量%以上とし、フッ素イオンの含有量は1ppm以上40ppm以下とする。得られた磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁性層を成膜して磁気ディスクを製造する。 (もっと読む)


【課題】フラットパネルディスプレイ装置用基板ガラスで、歪点が高く、かつ高耐熱性、高靭性、低密度のものが望まれている。
【解決手段】実質的に重量%表示で、SiOが63〜69、Alが0.5〜5、NaOが2〜7、KOが14〜17、MgOが10〜18、CaOが0〜7、SrOが0〜3、BaOが0〜3、ZrOが0.5〜7からなり、かつ歪点が570℃以上であることを特徴とするフラットパネルディスプレイ装置用基板ガラス。30℃〜300℃における平均線熱膨張係数が(86〜90)×10−7/℃、破壊靭性KICが0.7MPa・m1/2以上で、密度が2.6g/cm未満である特徴も有す。 (もっと読む)


実質的に透明なガラスセラミック、およびアルミノガレート尖晶石結晶相を示し、かつSiO2−Al23−ZnO−K2O−Ga23−Na2O系内に入り、特に、酸化物基準の重量パーセントで表して、25〜50%のSiO2、0〜26%のAl23、15〜45%のZnO、0〜25%のK2O、0〜10%のNa2O、0〜32%のGa23から実質的になり、K2O+Na2O>10%、かつAl23+Ga23>10%であるガラスセラミック組成を有するガラスセラミックであって、その微小構造が、少なくとも15重量%の六方晶ZnO結晶を有してなる結晶相を示すものであるガラスセラミックを製造する方法が開示されている。開示された別の態様は、光ファイバ、利得またはレーザ媒体、増幅成分、および可飽和吸収体からなる群より選択される光学素子であって、該素子が、前記と同じ組成の透明ガラスセラミックを有してなり、少なくとも約15重量%の結晶度の六方晶ZnO結晶を含有する光学素子である。
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【課題】 抵抗体のための焼成工程を追加することなく、抵抗体をガラスセラミック配線基板と同時焼成したとしても、抵抗体が導体及びガラスセラミック配線基板の表面に強固に接合された高寸法精度のガラスセラミック配線基板及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 ガラスセラミックスから成る絶縁基体の表面に配線導体と配線導体に接続された抵抗体とが形成されたガラスセラミックス配線基板において、抵抗体は15乃至65質量%のガラスと35乃至85質量%の酸化錫とからなり、酸化錫の平均粒径が0.9乃至1.4μmである。 (もっと読む)


【課題】アッベ数(νd)が50〜59であって、プレス成形型と反応しにくい性質、低温軟化性、優れたガラス安定性、高屈折率特性を有し、精密プレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】モル%表示で、BとSiOの合計含有量(B+SiO)が45〜70%、B含有量に対するSiO含有量のモル比率(SiO/B)が0.1〜0.5であり、La 5〜15%、Gd 0.1〜8%、Y 0〜10%、LiO 3〜18%、ZnO 0.1〜15%、CaO 2〜20%、BaO 0〜5%SrO 0〜5%、MgO 0〜5%、およびZrO 0〜5%を含み、かつ式(1) νd≧308.5−150×nd(ただし、50≦νd≦59) …(1)の関係を満たす屈折率(nd)及びアッベ数(νd)を有する光学ガラスである。 (もっと読む)


本発明は、固体セラミック部品と、少なくとも1つの他の固体部品とを接合する際に有用なガラスセラミック材料およびその製造方法である。この材料は、M1-M2-M3-M4を配合したもので、M1は、BaO、SrO、CaO、MgO、またはそれらの組み合わせであり、M2は、Al2O3であり、配合物中に2〜15 mol%の量で存在し、M3は、50 mol%以下のB2O3を有するSiO2であり、かつLa2O3、Y2O3、Nd2O3、もしくはその組み合わせからなる群より選択される金属酸化物、または0.1〜7.5 mol%のK2Oである。La2O3、Y2O3、Nd2O3またはそれらの組み合わせの群からの金属酸化物の場合には、組成物は、0.1〜3 mol%のCuOをさらに含有することが好ましい。全ての場合において、結晶相のガラスセラミック材料は、25℃〜1000℃で測定した時に、熱膨張係数が12 x 10-6-1である固体電解質の熱膨張係数と実質的に一致し、この熱膨張係数は、熱サイクルを繰り返しても低下しない。本発明に従って、M1-Al2O3-M3-M4系の一連のガラスセラミックを、筒状および平面状両方の固体酸化物燃料電池、酸素電気分解装置、および合成ガス、汎用化学製品および他の製品を製造するための膜反応装置を接合またはシールする際に使用することができる。 (もっと読む)


【課題】 表面の研磨を容易に行うことができ、またUやThを含む研磨剤が表面に付着することに起因するカバーガラスのα線放出量の増大を防ぐことが可能な半導体パッケージ用カバーガラスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 大板ガラスの表面を研磨加工した後、その周縁部を除去すると共に、内側部分を細断加工することによって、α線放出量が0.01c/cm2・hr以下のガラス小片を作製する。 (もっと読む)


本発明はディスプレイの分野に関係する。
本発明の対象の一つは電界放出ディスプレイ用の基材を製造するためのガラス組成であり、これは光源D65の下での全体的な透過率TL(D65)を有し、2.8mmのガラス厚の場合に測定すると、この値が45〜80%で変化し、そして好ましくは72%又はそれより小さく、かつこのガラス組成は以下の色座標によって定義される青−灰色着色を有する:
a*=−4〜+1、好ましくは−2〜0;及び
b*=−6〜+3、好ましくは−2〜0。
得られた基材は都合よく10Cd/m未満の反射輝度(R)を有する。 (もっと読む)


【課題】 生産性が高く、光伝播損失の増大およびファイバ強度の低下の要因となるプリフォーム中の欠点の発生を抑制することができる光ファイバ製造の方法。
【解決手段】 Biを30〜80mol%含有する光ファイバを、下記工程(a)〜(e)を経て得られるコア・クラッド構造のプリフォームを線引きして製造する。(a)表面を酸洗浄したコア用ガラスロッドを第1のクラッド用ガラス管に挿入。(b)前記コア用ガラスロッドと前記第1のクラッド用ガラス管との隙間を減圧しながら加熱延伸してコア・クラッド構造の第1のプリフォームを作製。(c)前記第1のプリフォームの表面を酸洗浄して第2のクラッド用ガラス管に挿入。(d)表面を酸洗浄した前記第1のプリフォームと前記第2のクラッド用ガラス管との隙間を減圧しながら加熱延伸してコア・クラッド構造を有する第2のプリフォームを作製。(e)前記第2のプリフォームの表面を酸洗浄する。 (もっと読む)


【課題】高プロトン導電性を維持しつつ、且つ、水分雰囲気に対する耐久性を高めるのに有利な高プロトン導電性ガラス、これを製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】アルカリ土類金属の酸化物、P25系を主要成分とすると共にプロトン導電性をもつ高プロトン導電性ガラスであって、Al及びシリカのうちの少なくとも1種を外付け添加割合で0.02〜8モル%含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】白色フリットの熱膨張率を素地ガラスのそれと実質的に一致させ、色筋部分と素地ガラスの界面にほとんど残留応力を生じさせない。
【解決手段】素地ガラスよりも熱膨張率の小さな白色フリットと大きな白色フリットの2種類の白色フリットを製造し、この2種類の白色フリットを素地ガラスの熱膨張率に適合させるように混合して素地ガラスに混入することにより、熱膨張率を素地ガラスにほぼ完全に一致させることができ、色筋部分と素地ガラスの界面にほとんど残留応力が生じない。 (もっと読む)


【課題】高屈折率低分散性を有し、さらに高い転移温度(Tg)を有し、精密プレス成形に使用するガラスプリフオーム材、及び精密プレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率(nd)が1.9以上、アッベ数(νd)が25以上を有し、SiO、B及びGeOからなる群より選択される1種又は2種以上、並びにLa、Nb、Ta、LiO及びZnOを含有する光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、熱膨張係数が小さい基板を用いても割れやリークが発生しにくいとともに、パネル内部のガスの排気から希ガスを導入密封するに至る工程で軟化変形せず、短時間で熔断・封止しやすいディスプレイ用排気管ガラスおよびそのガラスを用いて作製したディスプレイ用排気管を提供することである。
【解決手段】本発明のディスプレイ用排気管ガラスは、SiO2−Al23−B23系ガラスであって、含有するホウ素をB23として換算し、含有するR(RはLi、NaおよびKから選ばれる1種以上)をR2Oとして換算した時の質量比(B23/R2O)が0.88〜4.0であることを特徴とし、本発明のディスプレイ用排気管は、SiO2−Al23−B23系ガラスであって、含有するホウ素をB23として換算し、含有するR(RはLi、NaおよびKから選ばれる1種以上)をR2Oとして換算した時の質量比(B23/R2O)が0.88〜4.0であるガラスからなることを特徴とする。 (もっと読む)


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