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Fターム[4G062JJ06]の内容

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Fターム[4G062JJ06]に分類される特許

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【課題】本発明は、ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させ、従来よりも機械的強度が高いガラス基板を得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO2 45〜80%、Al23 3〜21%、ZnO 0.01〜15%、B23 0〜16%を含有し、且つ質量分率で、(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が0.5〜2、Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)の値が0〜0.5であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させ、従来よりも機械的強度が高いガラス基板を得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、モル%でSiO2 50〜85%、Al23 5〜30%、Li2O 0〜20%、Na2O 0〜20%、K2O 0〜20%、TiO2 0.001〜10%、Li2O+Na2O+K2O+Al23 15〜35%を含有し、且つモル分率で、(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が0.7〜3であって、実質的にAs23、Fを含有しないことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 ヒ素やアンチモンを用いなくても、高い清澄効果を得られるガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 原料バッチに水を含ませて熔融する、または熔融中のガラスに水を含ませた後、該熔融したガラスを前記熔融雰囲気より水蒸気分圧の低い雰囲気で清澄することによって、熔融後のガラスにおけるβ−OHを、少なくとも0.2mm-1となるようにしたことを特徴とするガラスの製造方法である。前記清澄工程は、減圧雰囲気下にて行うことが好ましい。 (もっと読む)


【課題】紫外線遮断性能を有するガラスについて、特定波長以下の紫外線のみをシャープに遮断する優れた透過特性を維持した上で、アルカリ成分による悪影響を低減することができる新規な改質方法を提供する。
【解決手段】ハロゲン化銅微粒子が全体又は一部に分散し且つSiO2を含有する相を含む分相ガラスを酸溶液に接触させて、該分相ガラス表面の少なくとも一部に高ケイ酸層を形成することを特徴とする紫外線遮断ガラスの改質方法。 (もっと読む)


【課題】大きな寸法を有するCaO及びP25を含有するガラスを得る。
【解決手段】熱分解二酸化ケイ素の水性分散液又は含水分散液を形成させ;P25及びCaOを添加し;酸でpH値を2±0.5に至らせ;TEOSを添加し;ゾルを水酸化アンモニウムでpH4.1±0.2に滴定し;得られたゾルを型中に注ぎ;ゲル細孔中の溶剤を非プロトン性溶剤と置き換え;ゲルを加圧チャンバ中に設置し;加圧チャンバ中に不活性ガスを流し;加圧チャンバをプログラムされた時間にわたり加熱し、ゲル溶剤の関連の臨界値より低い温度と圧力の値にまで至らしめ、蒸発させ;加圧チャンバを減圧させ、不活性ガスで洗い;乾燥されたゲルを冷却し、該ゲルを加圧チャンバから取り出し;乾燥されたゲルを予め固定された温度で加熱することで焼結させて、亀裂を有さないガラス質の物体を形成させる。 (もっと読む)


【課題】 特殊な原料や溶解坩堝や溶解方法を用いず、一般的な溶融法によって安定に取得できる、屈折率(nd)が1.41〜1.47、かつ、アッベ数(νd)が90〜100である極低屈折率極低分散弗燐酸光学ガラスを提供する。
【解決手段】 P、Al、Ca、Sr、Ba、Y、F、Oを含有するガラス原料組成物の元素質量%比(Si+B+P+Al)/Fを0.20〜0.40とし、かつ、構成元素比率を調整することにより、所望の屈折率及びアッベ数を実現しつつ、溶融状態からの冷却過程におけるガラス内部の失透(結晶)発生を効果的に抑制することにより、極低屈折率極低分散弗燐酸光学ガラスを安定に取得する。 (もっと読む)


【課題】特にディスプレイ分野において使用されるガラス基板に、適度な熱膨張係数、低い溶融温度と高い歪点を持ち、高い耐熱性が要求されるガラス基板、例えばPDP(プラズマディスプレイパネル)等の電子ディスプレイ用基板に好適なガラス組成物がない。
【解決手段】
実質的に重量%表示で、SiOが54〜57、Alが7〜11、NaOが2〜6、KOが6〜9、RO(NaOとKOの合計量)が10〜13、MgOが4〜7、CaOが4〜8、SrOが0〜5、BaOが6〜14、R’O(MgO、CaO、SrO、BaOの合計量)が18〜25、ZrOが2〜6であるディスプレイ装置用基板ガラス。30〜300℃における平均線膨張係数が80〜84(×10−7/℃)、歪点が570℃以上である特徴も持つ。 (もっと読む)


【課題】特にディスプレイ分野において使用されるガラス基板に、適度な熱膨張係数、低い溶融温度と高い歪点を持ち、高い耐熱性が要求されるガラス基板、例えばPDP(プラズマディスプレイパネル)等の電子ディスプレイ用基板に好適なガラス組成物がない。
【解決手段】
実質的に重量%表示で、SiOが55〜60、Alが4〜12、NaOが2〜6、KOが4〜8、RO(NaOとKOの合計量)が8〜12、MgOが0〜4、CaOが6〜10、SrOが0〜6、BaOが10〜14、R’O(MgO、CaO、SrO、BaOの合計量)が20〜26、ZrOが0〜4であるディスプレイ装置用基板ガラス。30〜300℃における平均線膨張係数が80〜84(×10−7/℃)、歪点が570℃以上である特徴も持つ。 (もっと読む)


本発明は、半導体製造用石英ガラスの公知の組成物を出発点とし、該組成物は少なくとも近表層領域において第1ドーパントと第2酸化ドーパントとの共ドーピングを示し、前記第2ドーパントは一種類以上の希土類金属をそれぞれ(SiO2及びドーパントの全質量に基づいて)0.1〜3%の濃度で含有する。エッチング処理を使用する環境において半導体製造用石英ガラス組成物を供給することを出発点として、該組成物は高純度及び高いドライエッチング耐性により区別され、酸化アルミニウムとの共ドーピングにより引き起こされる公知の欠点を回避し、第1ドーパントが窒素であり、石英ガラス中の準安定ヒドロキシル基の平均含有量が30質量ppm未満とすることを本発明により提案するものである。 (もっと読む)


【課題】表面に微細な凹凸パターンを有する基板用石英ガラス基板の垂直方向の凹凸パターンの寸法を極力精度良くかつ基板全面にわたり均一に制御する。
【解決手段】石英ガラス基板の仮想温度分布が40℃以下であり、かつハロゲン濃度が400ppm未満とする。 (もっと読む)


【課題】ヒ素やアンチモンの使用量を最少にして、無アルカリガラスの清澄を行う。
【解決手段】歪点が640℃以上でAs23 含有量が0.5重量%以下の無アルカリガラスを熔解時に清澄する方法であって、1.5重量%以下のSb23 、5.0重量%以下のSO3 、2.0重量%以下のFe23 および5.0重量%以下のSnO2 からなる群から選ばれる1種以上の有効量と、5.0重量%以下のClおよび5.0重量%以下のFからなる群から選ばれる1種以上の有効量とを含有せしめて熔解、清澄する。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板表面に銀電極を形成した場合に生じる黄変が抑制されたフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の提供。
【解決手段】ガラス基板表面に銀電極が形成された後のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板であって、前記銀電極が形成された側の前記ガラス基板表面から深さ10μmまでの表層における平均K含有量(K2O換算での質量百分率表示)が、前記ガラス基板表面から深さ100μm〜110μmまでの内部層における平均K含有量(K2O換算での質量百分率表示)よりも高いことを特徴とするフラットパネルディスプレイ用ガラス基板。 (もっと読む)


【課題】従来技術の問題を回避し、所望の光学特性を得るのを容易にする光学ガラスを提供する。これ等ガラスは好ましくは、精密プレス法で加工可能であり、遷移温度が低くあるべきである。更に、溶融可能、加工可能であり、且つ二次成形工程及び/又は連続生産工場での製造において結晶化安定性が十分であるべきである。更に、粘性範囲107.6〜1013dPasにおいてできるだけ短いガラスが望ましい。
【解決手段】次の組成(酸化物に基づく重量%で)、即ち
12〜35
Nb 30〜50
Bi 2〜13
GeO 0.1〜7
LiO ≦6
NaO ≦6
O ≦6
CsO ≦6
MgO ≦6
CaO ≦6
SrO ≦6
BaO 7〜<17
ZnO ≦6
TiO ≦7
ZrO ≦7
WO 2〜14
F ≦6
を含んで成る無鉛光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】活性金属またはそのハロゲン化物と高温状態で直接接触するという条件下であっても、失透を発生しがたいシリカガラス材料、および失透が発生しがたく、長寿命化が図られた放電ランプを提供すること。
【解決手段】活性金属またはそのハロゲン化物と接触させて使用する用途に用いられるシリカガラス材料であって、活性金属またはそのハロゲン化物と接触する面に、金属不純物含有量が100ppb以下であり、ハロゲン含有量が100〜5000ppmであるハロゲン含有シリカガラス層が形成されていることを特徴とするシリカガラス材料、その製造法および失透防止方法、ならびに活性金属またはそのハロゲン化物が封入された発光管を有する放電ランプの前記発光管の内面に前記ハロゲン含有シリカガラス層が形成された放電ランプ。 (もっと読む)


【目的】 実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、熱膨張係数と密度が低く、種々の酸やアルカリ等の薬品に対する高い耐性(耐薬品性)を持ち、歪点が高く、耐クラック性、溶融性及び耐失透性に優れるガラスを提供することを目的とする。
【構成】 質量百分率で、SiO2 58〜70%、Al23 12〜25%、B23 9〜15%、MgO 0〜1%、CaO 0〜9%、SrO 0〜6%、BaO 0〜6%、ZnO 0〜5%、ZrO2 0〜5%、TiO2 0〜5%、P25 0〜5%、SiO2+B23+P25≧65%、Al23/B23=1.2〜2.0、SrO+BaO=3.1〜9%の組成を有し、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、密度が2.5g/cm3以下、30〜380℃における熱膨張係数が26〜40×10-7/℃、クラック抵抗値が9.8N以上である。 (もっと読む)


【課題】 白金パイプ外周に対する濡れ上がりを抑制し、高品質のリン含有ガラスを提供する。
【解決手段】 塩素、臭素およびヨウ素の中から選ばれるハロゲン元素を有するハロゲン化物を、アニオニック%で0.1〜0.5%の範囲で導入してなるガラス原料によって製造されたことを特徴とする、フッ素含有量がアニオニック%で25%以上であるフツリン酸塩ガラス、および塩素、臭素およびヨウ素の中から選ばれるハロゲン元素を有するハロゲン化物を、アニオニック%で0.1〜5%の範囲で導入してなるガラス原料によって製造されたことを特徴とする、フッ素含有量がアニオニック%で25%未満であるリン酸塩ガラスである。 (もっと読む)


【課題】254nmおよび313nmの紫外線を充分遮蔽でき、可視域に着色の少ない蛍光ランプ用ガラス管の提供。
【解決手段】GeOおよびCeOを含有するホウケイ酸ガラスからなる蛍光ランプ用ガラス管。前記ホウケイ酸ガラスが下記酸化物基準の質量百分率表示で、SiO 60〜80%、B 10〜25%、Al 1〜7%、LiO+NaO+KO 3〜15%、ZnO 0〜5%、GeO 0.1〜5%、CeO 0.1〜5%、ZrO 0〜3%、Fe 0.01〜0.1%、から本質的になる前記蛍光ランプ用ガラス管。前記ホウケイ酸ガラスにおける全Ceイオンに対するCe3+イオンの割合が90%以上である前記蛍光ランプ用ガラス管。 (もっと読む)


【課題】 固体撮像素子の視感度補正に用いられるフィルタガラスにおいて、レンズ系の近紫外線色収差に起因する輪郭ぼけなどの撮影画像の乱れを低減することのできる視感度補正フィルタガラスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 CuOを含有し、質量%で、P10〜60%、AlF0〜20%、RF(RはLi,Na,Kのうち少なくとも1種)1〜30%、R´F(R´はMg,Ca,Sr,Baのうち少なくとも1種)10〜75%、(ただし、弗化物総合計量の70%までを酸化物に置換可能)からなる基礎ガラス100質量部に対して、外割で、Vを0.02〜0.5質量部となるように添加し、かつVに対して酸化剤として作用する化合物成分0.1〜10質量部を加えて溶融する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、40〜50×10−7/℃の熱膨張係数を有し、しかも薄板、大型のガラス基板を安定して製造するために好適な粘度特性を有するTFT−LCD、特にa−Si・TFT−LCDに好適なガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の無アルカリガラスは、ガラス組成として、質量%でSiO 45〜65%、Al 12〜17%、B 7.5〜15%、MgO 0〜3%、CaO 5.5〜15%、SrO 0〜5%、BaO 5〜15%、ZnO 0〜5%、MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO 15〜23%、ZrO 0〜5%、TiO 0〜5%、P 0〜5%を含有し、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、質量分率で(CaO+BaO−MgO)/SiOの値が0.25〜0.4であり、且つ30〜380℃の温度範囲における平均熱膨張係数が40〜50×10−7/℃であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】短時間でイオン交換処理を行うことが可能であり、しかも研磨の必要のない強化ガラス等を提供する。
【解決手段】質量%でSiO2 60〜80%、Al23 3〜18%、B23 0〜7%、Li2O 0.01〜10%、Na2O 4〜16%、K2O 0〜15%、R’O(R’Oはアルカリ土類金属酸化物成分の合量) 0〜5%含有し、モル比で(Li2O+Al23)/(Na2O+K2O)が0.1〜2の範囲にあるガラスからなり、表面に圧縮応力層が形成されてなることを特徴とする。上記強化ガラスは、所定のガラス組成となるように調合したガラス原料を溶融し、オーバーフローダウンドロー法にて板状に成形した後、イオン交換処理を行ってガラス板表面に圧縮応力層を形成することにより作製できる。 (もっと読む)


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