Fターム[4G072BB15]の内容
Fターム[4G072BB15]に分類される特許
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単体の水素の貯蔵のための方法および装置
シリコン基板上で単体の水素を貯蔵し回収するシステム。水素貯蔵部材が少なくとも1つの表面を有し、単体の水素がその表面に容易に結合し、またはその表面に単体の水素が容易に吸着され、その表面から単体の水素の脱離を制御することができる。シリコンは、単結晶または多結晶であることができ、薄く切られたウェハとして、非常に精密に押し出されたコラムとして形成することができ、または集積回路の製造における廃棄物から誘導することができる。シリコンの表面は、多孔率および表面積を増加させ、したがって、単体の水素に対する貯蔵効率を増加させる様々な様式で処理することができる。このシステムは、電力を発生させる燃料電池システムに燃料を供給し、それとともに独立型の補助動力源を形成する制御システムと協働するために有用である。
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Si3N4被覆されたSiO2成形体の製造方法
アモルファスの連続気泡SiO2未焼結成形体の表面上に、Si3N4焼結層を形成するために適切な前駆物質を施与し、かつ引き続きレーザービーム中現場で該先駆物質をSi3N4焼結層へ変換することを特徴とする、SiO2未焼結成形体からなるSi3N4被覆されたSiO2成形体の製造方法。 (もっと読む)
ケイ素のナノ−構造体を主成分とする水素貯蔵器
本発明は、水素を貯蔵するのに好適な物質を含む水素貯蔵器に関し、前記物質はナノ−構造化ケイ素から構成される。本発明は、この水素貯蔵器の製造方法及び使用方法にも関する。 (もっと読む)
沈降シリカ生成物、それらを含む歯磨き剤および方法
多孔質シリカ粒子を含む沈降シリカであって、前記多孔質シリカ粒子は、直径が500Å超の全ての孔に関して、累積表面積が8m2/g未満(水銀圧入法によって測定)であり、百分率塩化セチルピリジニウム(%CPC)適合性が約55%超である。本沈降シリカ生成物は、特に、塩化セチルピリジニウムを含む歯磨き剤における使用によく適合し、この表面積が小さいシリカ生成物に有意義なレベルで付着しないため、抗菌作用が保持される。本シリカ生成物の製造方法も提供される。 (もっと読む)
膜乳化用多孔質シリカ膜
【課題】本発明は、表面化学修飾基を多量に含み、膜乳化に適した細孔を有する多孔質シリカ膜を提供する。
【解決手段】本発明は、SiO2を主成分とし、0.3〜50ミクロン、及び50ナノメートル以下の細孔を有する膜乳化用多孔質シリカ膜である。発明の多孔質シリカ膜は、相分離を利用したゾル―ゲル法によって調製することが好ましい。
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