【課題】 研磨材として好適な異方形状シリカゾルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 平均粒子径が３〜２０ｎｍの範囲にあるシリカゾルを脱陽イオン処理してｐＨ２〜５の範囲に調整し、次いで脱陰イオン処理した後、アルカリ性水溶液を添加してｐＨ７〜９に調整した後、６０〜２５０℃で加熱することにより製造する。得られる異方形状シリカゾルは、平均粒子径が４〜２５ｎｍの範囲にあり、短径／長径比が０．０５〜０．５の範囲にある。 （もっと読む）

【課題】紙に配合した際の嵩高化効果が高い上に、白紙の不透明性を高くでき、しかも適切な平均粒子径および狭い粒度分布を有し、紙の表面強度および内部結合強度を高くできる多孔性填料とその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の多孔性填料は、二酸化ケイ素および／またはケイ酸塩から形成されたケイ素含有粒子と、該ケイ素含有粒子１００質量部に対して０．１〜２４質量部の耐アルカリ性微小粒子とを含有する。本発明の多孔性填料の製造方法は、ケイ酸アルカリ水溶液中に耐アルカリ性微小粒子を添加した後、鉱酸溶液および／または鉱酸の金属塩溶液を添加し、中和してケイ素含有粒子を析出させる多孔性填料の製造方法であって、耐アルカリ性微小粒子の添加量が、ケイ素含有粒子１００質量部に対して０．５〜３０質量部である。 （もっと読む）

【課題】細孔分布が主にメソポア領域で、従来と同等またはそれ以上の色素成分の吸着能を有する食品添加物二酸化ケイ素からなる劣化食用油用再生剤を提供する。
【解決手段】全比表面積が３５０ｍ²／ｇ以上で、細孔形態が細孔直径４〜５０ｎｍの範囲に分布極大を有し、かつＶ_l−ｔ法で算出した外部表面積が全比表面積の８０％以上を占める食品添加物二酸化ケイ素からなることを特徴とする劣化食用油用再生剤。 （もっと読む）

【課題】良好な細孔体積、良好な吸油量、および良好な粒度分布を兼ね備えた水和ケイ酸を製造できる方法を提供する。
【解決手段】ケイ酸アルカリ水溶液に鉱酸を添加して中和することにより反応液中で粒子を析出させる水和ケイ酸の製造方法において、前記粒子が析出している期間内に、前記反応液に対して超音波を照射することを特徴とする。 （もっと読む）

表面積が低く、フレーバー適合性が高められた沈降シリカ生成物である。本沈降シリカ生成物は、特に、塩化セチルピリジニウムを含む歯磨き剤における使用によく適合し、この表面積が小さいシリカ生成物に有意義なレベルで付着しないため、抗菌作用が保持される。この表面積が小さいシリカ生成物を製造する方法も提供される。 （もっと読む）

【課題】フィルムのアンチブロッキング剤、プレートアウト防止剤等の樹脂の添加剤、インクジェット記録紙填料として使用することができる湿式シリカおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】窒素吸着法により測定した細孔容積の分布において、細孔直径が６ｎｍ以上５０ｎｍ以下の範囲に２つの細孔容積の分布のピークを有し、その第１のピークが細孔直径６ｎｍ以上１５ｎｍ未満の範囲にあり、第２のピークが細孔直径１５ｎｍ以上５０ｎｍ以下の範囲に存在し、全細孔容積が０．７〜２．０ｍｌ／ｇであって、細孔直径が１５ｎｍ未満のである細孔の容積が、全細孔容積の６０〜９０％であり、かつ、ＢＥＴ比表面積が４００ｍ^２／gを超え７００ｍ^２／g以下である湿式シリカ。 （もっと読む）

【課題】 アルカリ金属等の不純物が極めて少なく安定性に優れた水性シリカゾルを製造する。
【解決手段】 この高純度水性シリカゾルの製造方法は、珪酸アルカリを原料として調製された水性シリカゾルに酸を加えることにより、そのｐＨを０〜３．０の範囲に調整し、４０〜３００℃で加熱する工程（１）と、前記加熱後の水性シリカゾルに、強塩基性陰イオン交換体を接触させ、更に強酸性陽イオン交換体を接触させる工程（２）とを含んでいる。 （もっと読む）

本発明は、高い吸油性および高い構造性を有し、非晶質シリカ粒子に高い負荷をかけても吸油性がほとんど低下しない非晶質シリカ粒子を提供する。特にベンゼン吸着等温線法により得た細孔分布曲線において、ΔＶｐ／ΔＲｐ値（但し、Ｖｐは細孔容積［ｍｍ^３／ｇ］、Ｒｐは細孔半径［ｎｍ］）の最大値が２０ｍｍ^３/nm・ｇ^−１以上であり、ΔＶｐ／ΔＲｐ値が最大であるときの細孔ピーク半径が２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である非晶質シリカ粒子を提供する。
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本発明は、高い吸油性を有する非晶質シリカ粒子、該粒子の製造方法および該粒子の使用に関する。本発明による非晶質シリカ粒子は、少なくとも、２００〜９９０℃で焼成することによって、ＪＩＳ Ｋ ６２１７−４法によって測定した吸油量が４００ｍｌ／１００ｇをこえることを特徴とする非晶質シリカ粒子が得られる。
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多孔質シリカ粒子を含む沈降シリカであって、前記多孔質シリカ粒子は、直径が５００Å超の全ての孔に関して、累積表面積が８ｍ²／ｇ未満（水銀圧入法によって測定）であり、百分率塩化セチルピリジニウム（％ＣＰＣ）適合性が約５５％超である。本沈降シリカ生成物は、特に、塩化セチルピリジニウムを含む歯磨き剤における使用によく適合し、この表面積が小さいシリカ生成物に有意義なレベルで付着しないため、抗菌作用が保持される。本シリカ生成物の製造方法も提供される。 （もっと読む）