本発明は、加工物、特に中空体加工物のプラズマ処理の方法に関する。この方法によれば、反応室内で処理区域が少なくとも部分的に排気され、処理区域内、特に加工物の中空体内にプロセスガスが導入され、放射される電磁エネルギーを用いて処理区域に導入されたプロセスガスでプラズマが点火される。本発明は、プラズマ処理中に、処理区域の両端間を通ってプロセスガスが流れることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低温で金属ドープＴｉＯ_２薄膜を高結晶化させる方法及び結晶性が高く、導電性の高い金属ドープＴｉＯ_２薄膜が、高分子フィルムよりなる基板上に積層されてなる積層体を提供する。
【解決手段】基板上に金属ドープＴｉＯ_２薄膜が積層されてなる積層体１０が、ガラスチャンバ１内に配置されている。この基板は高分子フィルムよりなっている。Ａｒガス雰囲気において、電極２，３間に高周波電力を印加し、積層体１０のプラズマ処理を行う。これにより、金属ドープＴｉＯ_２薄膜が高結晶化し、金属ドープＴｉＯ_２薄膜の導電性が向上する。 （もっと読む）

本発明は、インジェクションタイプのプラズマ処理装置に関し、常圧条件で誘電体バリア放電（ＤＢＤ；Dielectric Barrier Discharge）を利用して多様な面積、多様な大きさ、及び多様な形状を有する処理対象物を微細アークストリーマによる損傷なしに処理することができるインジェクションタイプのプラズマ処理装置を提供することをその目的にする。本発明に係るインジェクションタイプのプラズマ処理装置は、誘電体が形成された状態で、反応チャンバに提供される電源電極板と、前記電源電極板に交流電力が印加される時に前記電源電極板との間でプラズマを形成する、前記反応チャンバの壁の一部を構成し且つ複数のホールが形成された接地電極板と、前記反応チャンバ内に反応ガスを注入して、反応チャンバ内のプラズマを前記接地電極板のホールを介して外部に噴射させるガス供給ユニットとを含む。
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【課題】食肉業界等から多量に排出され、廃棄物として焼却処理されていた動物骨の有効利用法の提供。
【解決手段】動物骨に多く含まれている炭素成分を分離した。この分離し、得られた炭素成分をマイクロ波や高周波加熱により気化・プラズマ化して水素原子のエッチング硬化を利用して基材表面にダイヤモンド様炭素膜を形成させ、美麗装飾品とする。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理システム及び方法
【解決手段】プラズマ処理システムは、プラズマ処理領域を含むチャンバと、前記チャンバ内の前記処理領域に基板を支持するように構成されかつ配置されたチャックとを含む。前記プラズマ処理システムは、さらに、前記チャンバと連通し、かつその中にパージガスを流すことにより、パーティクルの前記チャンバからの除去を容易にするように構成された少なくとも１つのガス注入路を含む。一実施形態においては、前記プラズマ処理システムは、電極に、ＤＣまたはＲＦ電力によってバイアスがかけられたときに、静電力により、前記チャンバ内のパーティクルを引き付けるまたははね返すように構成された電極を含むことができる。
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【課題】 堆積物によって安全弁の動作に不具合が生じない排気管構造を提供する。
【解決手段】 排気管構造１０は、堆積物形成物質を含有する排気ガスを排出する排気ガス排出源１１から延びた排気ガス排出用の排気主管１４と、排気主管１４から分岐し、バイパス排気用の安全弁１６が設けられた分岐管１５と、分岐管１５内での堆積物形成を阻止する不活性ガスを分岐管１５内に噴出する不活性ガス噴出手段１７と、を備える。 （もっと読む）

気体を活性化し解離する方法及び装置であって、チャンバの中のプラズマを用いて活性化気体を発生するステップを含む。下流気体入力をチャンバの出力に対して配置することにより、気体入力によって導かれる下流気体の解離を容易化し、解離された下流気体がチャンバの内側表面と実質的に相互作用しないようにする。
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【課題】 少なくとも２つの離間された電極（２）を含むプラズマ放電間隔での大気状態下のガスまたはガス混合物におけるグロー放電プラズマを制御するための方法及び装置において、プラズマ・パルスの終わりでプラズマの不安定性を阻止しかつ除去するようにグロー放電プラズマを制御する。
【解決手段】 電極（２）にＡＣプラズマ付勢電圧を印加することによって、絶対パルス最大値を有する少なくとも１つのプラズマ・パルスが生成されて、プラズマ電流及び変位電流を生じる。プラズマは、パルス最大値の後に変位電流の相対的な減少を提供することによって制御される。好適な実施形態において、付勢電圧は、チョーク・コイル（３）及び飽和可能でないインダクタ（４）の直列回路を通して印加される。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理室へシャワー状にガスを供給するシャワープレートのガス供給孔内での放電を防止し、装置の安定稼動を実現する。
【解決手段】プラズマ処理室内に導入される電磁界のシャワープレート面内における電磁界分布に従い、所定の電界強度以下となる電界の弱い領域にシャワープレートのガス供給孔を配置する。 （もっと読む）

珪素含有ガス（７）を分離するための反応装置（１２）を製造する方法にして、次のステージ、すなわち：内壁（３）及び外壁（４）を有する基本的に管状の反応装置ブランク（２）、及び、少なくとも反応装置ブランク（２）の内壁（３）上へのパウダー状分離中間体を含有する分離層（１１）の設置、を備えて構成する。分離層（１１）がその上に装着された反応装置（１２）は、析出した珪素パウダーから内壁（３）の単純で、かつ、効果的な保護をする。分離層（１１）、及び、その上に析出した珪素パウダーは、内壁（３）を損傷することなく機械によって容易に除去され得る。
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【課題】 カーボンナノチューブの光学的特性をより有効に利用した三次元微粒子構造体とその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 微粒子分散液１１０を容器に入れて、雰囲気温度６５℃にて、基板２００を立てた状態で微粒子分散液１１０に付ける。この状態で、微粒子分散液１１０から分散媒が蒸発していき、基板２００表面の微粒子分散液１１０の濡れ膜が後退していくことにより、薄膜状の三次元微粒子構造体１００が成長する。成長後、３００℃にて熱処理を行い、シリカ粒子の三次元微粒子構造体３００を得る。 （もっと読む）

基板上に材料層を低温で堆積するための方法及び装置を記載する。材料層は、その下の材料の熱安定性の悪さから様々なディスプレイ応用例で必要とされる低温処理用のカプセル化層として使用することができる。カプセル化層は、多くのタイプやサイズの基板について表面粗さを低下させ、遮水性を改善し、熱応力を低下させ、高いステップカバレージを付与するために、１つ以上のバリア層材料と１つ以上の低誘電率材料を有する１つ以上の材料層（多層）を含む。従って、このようにして堆積されたカプセル化層は、ＯＬＥＤデバイス等の様々なディスプレイ装置に関して、優れたデバイス寿命を付与する。加えて、基板上に非晶質炭素材料を低温で堆積するための方法を提供する。非晶質炭素材料を用いて熱応力を低減し、堆積された薄膜が基板から剥落するのを防ぐことができる。

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【課題】 微粒子又は粉体の表面に薄膜又は超微粒子を均一性よく被覆できるＣＶＤ装置及びＣＶＤ成膜方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るＣＶＤ装置は、微粒子１を載置する容器２と、前記容器２を収容するチャンバー３と、前記容器２に載置された微粒子１を加熱するヒーター４と、前記チャンバー３内に原料ガスを導入するガス導入機構と、を具備し、サーマルＣＶＤ法を用いることにより、前記微粒子１の表面に該微粒子より粒径の小さい超微粒子又は薄膜を被覆することを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、任意の微小な領域のみを構造制御する全く新しい薄膜の製造方法を提供することを目的とする。製膜途中または製膜後の膜全体または膜内の任意の部分について、その膜温度を非晶部のガラス転移温度以上に設定した上で、鋭利な先端形状を有する部材を用いて力を加えることにより、膜の構造を制御するようにした。本製造方法を実現する装置として、原子間力顕微鏡を用いることもできる。
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【技術課題】 基板に損傷や表面汚染を与えることなく、エッチングや成膜が行え、チャンバや電極等の構造は同一であるにも拘らず、導入するガスやプラズマ励起周波数を変えることにより、エッチングや成膜にも応用可能であり、生産性に優れるとともに、低価格で高性能なプラズマプロセス用装置を提供すること。
【解決手段】 容器内105に対向するように設けられ夫々平板状に形成された第１及び第２電極102，104と、プラズマに対して安定な材料から成り第１電極102上を覆うように設けられる保護部材101と、第２電極104上に被処理物103を取り付けるための保持手段と、第１電極102に接続される第１の高周波電源111と、第２電極104に接続される第２の高周波電源110と、容器105内に所望のガスを導入するためのガス供給手段とを少くとも備え、第１の高周波電源の周波数が前記第２の高周波電源の周波数より高いことを特徴とする。 （もっと読む）