【課題】導電性の高い液体も含め、広範囲の液体中において安定にプラズマを発生することができる液中プラズマ発生装置および液中プラズマ発生方法を提供すること。
【解決手段】液体３に設けられるプラズマ発生用電極４と、プラズマ発生用電極４に対向して設けられる対向電極５と、プラズマ発生用電極４と対向電極５との間に高周波を印加する高周波回路７と、プラズマ発生用電極４と対向電極５との間に設けられた絶縁部材６を有する。 （もっと読む）

一端に放出口をもつ液体供給導管を有するアトマイザの提供、放出口の上流で液体供給導管のポートに開口するガス供給導管、及び、アトマイザに振動エネルギーを与えるための手段を含む、液体を噴霧化する方法。１つの実施形態において、液体供給導管及びガス供給導管は、互いに関して同軸になるように配置される。本方法は、更に、ガスをガス供給導管を通して流すのと同時に、液体を液体供給導管を通って放出口に流すことと、放出口から出てる液体を噴霧化するために振動エネルギーをアトマイザに与えることを含む。ポートでガスを導入することによって、液滴スプレーの寸法特性が改善される結果を得る。
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【課題】任意の場所で確実にかつ簡便にプラズマを発生させる装置を提供する。
【解決手段】絶縁体または誘電体により被覆されたワイヤ状の導電性部材からなる第１の電極３０とワイヤ状の導電性部材からなる第２の電極６０とを、板２０の上に略平行に配置する。第１の電極３０に電源４０によって交流電圧またはパルス電圧を印加する。すると、第１の電極３０の周りにプラズマが発生する。 （もっと読む）

【課題】水素透過性基材とプロトン伝導性膜を有する水素透過構造体において、水素透過性基材とプロトン伝導性膜間の剥離を防止し、安定した性能を有し、耐久性に優れた水素透過構造体を提供するとともに、この水素透過構造体を使用した、耐久性に優れる燃料電池を提供する。
【解決手段】プロトン伝導性膜、該プロトン伝導性膜に密着する第１中間層、該第１中間層に密着する第２中間層、及び該第２中間層に密着する水素透過性基材からなる水素透過構造体であって、第１中間層が、鉄及びクロムから選ばれる１種以上の金属又はそれらの合金よりなり、かつ第２中間層が、ニッケル、銅、コバルト及び亜鉛から選ばれる１種以上の金属、又はそれらの合金よりなることを特徴とする水素透過構造体、及びこの水素透過構造を用いる燃料電池。 （もっと読む）

【課題】高強度の紫外線を長時間にわたって正確にモニタリングすることが可能な紫外線モニタリングシステム及び紫外線照射装置を提供する。
【解決手段】この紫外線モニタリングシステム４は、電力を供給する電源装置１１と、電源装置１１から電力を得ることにより紫外線を照射する紫外線源１２と、受光した紫外線の強度に応じた量の電荷を生成する検知部としてのダイヤモンド層２２を有し、そのダイヤモンド層２２で生成された電荷から上記紫外線の強度に応じた電気信号を出力する紫外線センサ１３と、その電気信号に基づいて電源装置１１の電力供給を制御することにより、紫外線源１２の紫外線の出力を制御する制御部１４とを備えている。 （もっと読む）

【課題】プラズマを発生する反応空間に対して遠近方向に、また平面的にも広い範囲でプラズマ処理が可能な大気圧プラズマを小さな入力電力で発生することができる大気圧プラズマ発生方法及び装置を提供する。
【解決手段】反応空間１に第１の不活性ガス５を供給するとともに高周波電源４から高周波電界を印加することで、反応空間１からプラズマ化した第１の不活性ガスから成る一次プラズマ６を吹き出させ、この一次プラズマ６が衝突するように、第２の不活性ガスを主とし適量の反応性ガスを混合した混合ガス８が存在する混合ガス領域１０を形成し、プラズマ化した混合ガスから成る二次プラズマ１１を発生させるようにした。 （もっと読む）

【課題】実用的な処理プロセス速度や処理効果を得る事が可能な触媒化学処理装置および触媒化学処理方法の提供。
【解決手段】被処理基体に吸収される波長の光を放射する光源が、装置内または外に配設されてなる。触媒体に接地に対して正または負の電位を印加する事のできる電源が設けられている。加熱触媒体に反応ガスを接触させ、光源から放射される光を触媒体を経て基体表面に照射し、触媒体から発生するフリーラジカルを固体光化学的に励起されている状態の基体表面に供給し、表面処理する。触媒体に接地に対して正または負の電位を印加し、触媒体からの熱電子および光電子の放出を制御して基体表面を処理する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で効率よく、被処理物の外面のプラズマ処理を行なうことができる、放電処理装置および放電処理方法を提供する。
【解決手段】両端が開口した貫通空間が形成された筒状の電極２０を備える。被処理物１を、貫通空間の一端から進入させ、他端から退出させ、被処理物１が貫通空間を通過するときに、電極２０に電圧を印加して、電極２０と被処理物１との間で放電を発生させ、この放電によりプラズマ化したガスを被処理物１の外面２に接触させて、被処理物１の外面１をプラズマ処理する。被処理物１の内部にアース電極を設けることなく、プラズマ処理することができる。 （もっと読む）

制御された寸法を有する粒子の製造方法であって、以下の工程：(i)それぞれ床部と高さ(H_w)を有する壁とから成る1つ以上の個別セルを含むマイクロレリーフ反復パターンを含んでなるパターン化表面を有する層状基板を供給する工程；(ii)前記パターン化表面上及び前記セル内に有機又は無機材料を沈着させて、該沈着材料の厚さ(T)を与える工程（ここで、T≦H_w）；(iii)前記沈着有機又は無機材料を前記基板の表面から剥離する工程；及び(iv)前記有機又は無機材料から形成された粒子を収集する工程；を含んでなる方法並びに前記方法から得られる複数の粒子(P)を含んでなる組成物。ここで、前記組成物中の粒子の数(n)は少なくとも10であり、前記粒子(P)は、円形であるか又はx個の平面y辺多角形（ここで、xは1〜20であり、yは少なくとも3であり、xが1より大きい場合、前記平面y辺多角形はその1つ以上の辺に沿って融合している）で構成される平面幾何学を示すプレートレットであり、前記プレートレット(P)のその最も幅広の点の幅(W_P)は約250μm以下であり、前記プレートレット(P)の厚さは10nm〜50nmの範囲である。 （もっと読む）

【課題】 高純度で長尺のカーボンナノ構造体を安定して製造することが可能なカーボンナノ構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】 密閉容器と、前記密閉容器の内部空間を第一の空間と第二の空間に仕切る触媒金属基材と、前記触媒金属基材を固定する固定部材と、を備えた触媒反応容器を用い、前記触媒金属基材は、前記第一の空間に接する第一の表面と前記第二の空間に接する第二の表面を有するように配置されており、かつ前記第二の表面の少なくとも一部に、前記触媒金属基材表面から成長させた炭素塊を備えており、前記第一の空間に少なくとも炭素を含む原料ガスを供給し、前記第一の表面から前記触媒金属基材の内部を通って前記第二の表面に達した炭素を、前記炭素塊を基点としてカーボンナノ構造体に成長させる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、成膜時にプラズマ化されたガスの汚れ等でガス供給管の孔がつまることなく中空容器の表面に均一な膜を成膜するプラズマ成膜装置を提供することを目的とする。
【解決手段】マイクロ波エネルギーにより原料ガスをプラズマ化し、中空容器８の表面に薄膜を成膜するプラズマ成膜装置であり、原料ガスを注入するガス供給管５の先端のガス孔角度が中空容器８の底面部位に対して水平方向から３０〜６０°方向に設けられていること、および前記ガス供給管５が周方向に均等に孔を配置し、これが円筒軸に平行に均等の間隔を有しながら周方向に配置された場合、該ガス供給管５の先端の孔径が同径であることを特徴とするプラズマ成膜装置である。 （もっと読む）

【課題】５〜１５０Ｔｏｒｒの中圧力において被膜を形成する装置とその方法を提供する。
【解決手段】放電空間において発生したラジカルが基板表面に達するまでの間、周辺の雰囲気の影響を受けないように放電空間を包むようにパージガスで遮蔽を施す。磁場をバイアス電圧をプラズマに作用させることにより、該ラジカルが基板表面に到達し易くなり、到達したラジカルにより基板表面において被膜形成反応を促進させる。 （もっと読む）

【課題】気相法を用いて材料表面にナノ粒子を担持させることができ、しかも、粒子の成長をナノスケールで制御することが可能な微粒子担持材料の製造方法を提供すること。
【解決手段】反応管内に被処理材を設置し、前記反応管内を排気する排気工程と、前記反応管内に有機金属化合物の蒸気及び還元剤の蒸気を導入し、前記被処理材の表面に前記有機金属化合物に含まれる金属元素を含む微粒子を担持させる還元工程とを備えた微粒子担持材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】アンテナ内に均一な高周波を形成し、処理容器に均一なプラズマを生成できるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置１２１は、環状アンテナ７３に囲まれた封止板５５の中央部にガス供給管１２３が設けられたものである。このガス供給管は、その下部が漏斗状に拡径されており、下端部には多数のノズル１２５…が設けられている。このように、このプラズマ処理装置１２１にあっては、マイクロ波を処理容器５３に供給するアンテナ７３が円環状であるため、その中央開口部にガス供給管１２３を設けることができる。従って、反応性ガス等をウエハＷに対して均一に供給することができ、従ってガス供給の不均一による処理のむらを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】製造時間が短縮され、様々な大きさの基材への対応が容易であって、かつ基材が複雑な三次元構造体であっても基材をムラなく洗浄することが可能な、有機薄膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】基材表面に有機薄膜を形成する有機薄膜の製造方法であって、基材をオゾン水又は過酸化水素水で洗浄する工程（Ａ）を有することを特徴とする有機薄膜の製造方法。好ましくは、オゾン水中のオゾンの濃度が、５〜１００ｐｐｍ、過酸化水素水中の過酸化水素の濃度が１〜３０重量％であることを特徴とする有機薄膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 強酸等に対する耐腐食性に強く、摺動抵抗を減少させることができ、それ程温度を高くしなくても、不必要な部分に反応副生成物が付着することを抑制することができる真空排気系を提供する。
【解決手段】 真空処理室Ｔからの排気ガスを排出する排気路２と、排気ガス中の排気物を捕捉することが可能なトラップ装置１と、トラップ装置を通過した排気ガス中の有害物質を無害化する除害装置Ｅと、を有する真空排気系において、真空処理室とトラップ装置との間の排気路の内面及びトラップ装置内の排気ガスと接する面に、フッ素系樹脂層３０，３２，３４，３６，３８，４０がコーティングする。これにより、強酸等に対する耐腐食性に強く、摺動抵抗を減少させることができ、それ程温度を高くしなくても、不必要な部分に反応副生成物が付着することを抑制する。 （もっと読む）

【課題】クロロシランを水素化する方法および装置を提供する。
【解決手段】クロロシランと接触する表面を有する反応室と、流れが直接通過することにより加熱され、クロロシランと接触する表面を有する加熱素子とを有し、その際、反応室および加熱素子はグラファイトからなる反応器中でクロロシランを水素化する方法において、第一工程で、反応室の表面および加熱素子の表面上に現場でＳｉＣ被覆が形成されるように、Ｓｉ含有化合物ならびに水素を反応室の表面および加熱素子の表面と接触させ、かつ第二工程で、加熱素子を用いた反応室中でのクロロシラン／水素混合物の加熱によりクロロシランの水素化を行い、その際、第一工程を、第二工程における反応温度よりも高い反応温度で実施する。 （もっと読む）

本発明の実施形態は、気相堆積チャンバ内の製造プロセス中に基板汚染を減少させる処理プロセスを提供する。処理プロセスは、気相堆積プロセス、例えば、原子層堆積（ＡＬＤ）プロセスの前に、間に、後に行うことができる。ＡＬＤプロセスの一例において、中間処理ステップと所定数のＡＬＤサイクルを含有するプロセスサイクルは、堆積物質が所望の厚さを有するまで繰り返す。チャンバと基板は、処理プロセスの間、不活性ガス、酸化ガス、窒化ガス、還元ガス、又はそれらのプラズマにさらすことができる。ある例において、処理ガスは、オゾン、水、アンモニア、窒素、アルゴン、又は水素を含有するのがよい。一例において、バッチプロセスチャンバ内で酸化ハフニウム物質を堆積させる方法は、前処理ステップと、ＡＬＤプロセス中の中間ステップと、後処理ステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】大気圧近傍条件下で基材表面を撥液化処理する表面処理方法において、処理ガス中の化合物ガス比率を非常に多くしないと十分な撥液効果が得られず、安価な希釈ガスを用いたとしてもランニングコストの削減が難しい。
【解決手段】互いに対向する一対の電極間に電界を形成し、前記電界が形成される空間に流れる処理ガスをプラズマ化する工程と、該プラズマにより被処理基材表面を撥液化する表面処理工程とを含み、前記表面処理工程が第１および第２段階の表面処理から構成され、各段階の表面処理に用いられる処理ガスが互いに異なるガス種あるいはガス組成よりなることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、加工物、特に中空体加工物のプラズマ処理の方法に関する。この方法によれば、反応室内で処理区域が少なくとも部分的に排気され、処理区域内、特に加工物の中空体内にプロセスガスが導入され、放射される電磁エネルギーを用いて処理区域に導入されたプロセスガスでプラズマが点火される。本発明は、プラズマ処理中に、処理区域の両端間を通ってプロセスガスが流れることを特徴とする。 （もっと読む）