【課題】特に発熱量の変化が大きい脱ハロゲン化処理反応に好適で槽内温度をより的確かつ迅速に制御できるようにする。
【解決手段】反応槽１がジャケット１０を有し、槽内に貯留したアルカリ金属分散体に対し有機ハロゲン化合物を含有した被処理油を滴下し反応させることで有機ハロゲン化合物を分解処理する脱ハロゲン化処理反応であり、ジャケット１０内に出入りされる熱媒又は冷熱媒により槽内の温度を所定温度に維持する温度制御方法において、ジャケット１０内に熱媒を通過させて槽内温度を予め設定した第１基準温度まで加熱する第１加熱工程と、第１基準温度に達した後、ジャケット内の熱媒を抜き出し、被処理油の一部を１次滴下する１次滴下工程と、１次滴下した後、槽内温度が予め設定した第２基準温度に達した段階から、ジャケット内に冷熱媒を通過させて第２基準温度をほぼ維持しながら被処理油の２次滴下を行う２次滴下工程とを経る。
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【課題】 複数の不混和性流体の界面を安定させることが可能であり、かつ簡便な構造を有するマイクロ流路を提供する。さらに、曲がり部を有する場合であっても界面の安定性を失わないマイクロ流路を提供する。
【解決手段】 複数の流路が合流する入口流路（１１）および複数の流路に分岐する出口流路（１２）を備えたマイクロ流路であって、流路内壁上において流路内部方向に突出しかつ流路軸方向に延びた少なくとも一対の案内板（７）を有する、前記マイクロ流路。 （もっと読む）

【課題】 加熱時の放熱を減少させると共に、冷却時の冷却効率を向上させることのできる加熱冷却装置を提供する。
【解決手段】 反応釜１のジャケット部２の外周に空間室３を設ける。空間室３に冷却流体供給管５と空気抜き弁２１とを接続する。空間室３の右側下方に真空連通管２０を取り付けてエゼクタ１０と連通する。
反応釜１を加熱する場合は、ジャケット部２へ加熱用の蒸気を供給すると共に、空間室３をエゼクタ１０と連通して所定の真空状態にすることによって、ジャケット部２からの放熱を防止する。冷却時は、空間室３に冷却流体を溜めてノズルからジャケット部２内へ冷却流体を噴射する。 （もっと読む）

【課題】 加熱時の大気中への放熱を減少させることのできる蒸気加熱装置を提供する。
【解決手段】 反応釜１のジャケット部２に蒸気供給管８を接続する。ジャケット部２の右側下方に排出管９を介して真空吸引手段の一部を構成するエゼクタ１０と連通する。ジャケット部２の外周に空間室３を設ける。空間室３の右側下方に真空連通管２０を取り付けてエゼクタ１０と連通する。
反応釜１を加熱する場合は、ジャケット部２へ加熱用の蒸気を供給すると共に、空間室３をエゼクタ１０と連通して所定の真空状態にすることによって、ジャケット部２からの放熱を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】 加熱時の大気中への放熱を減少させることのできる蒸気加熱装置を提供する。
【解決手段】 反応釜１のジャケット部２に蒸気供給管８を接続する。ジャケット部２の外周に空間室３を設ける。空間室３の右側上方に開閉弁２１と真空予備タンク１９を介在して真空ポンプ２０を連通する。ジャケット部２の右側下方に排出管９を接続して、組み合わせ真空ポンプ４のエゼクタ１０と連通する。
反応釜１を加熱する場合は、ジャケット部２へ加熱用の蒸気を供給すると共に、空間室３を開閉弁２１と真空予備タンク１９を介して真空ポンプ２０と連通して所定の真空状態にすることによって、ジャケット部２からの放熱を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】 蒸気エゼクタを用いることなく、一部の蒸気を熱交換器へ強制循環させることのできる熱交換装置を提供する。
【解決手段】 熱交換器１に蒸気供給管２と流体排出管３を接続する。蒸気供給管２に制御弁７を取り付ける。流体排出管３に気液分離器６を取り付けて、循環蒸気管１０により蒸気ブロワー５と接続する。気液分離器６の下方に、蒸気トラップ１５を介在して吸引装置４を接続する。
蒸気供給管２からジャケット部９へ供給された蒸気の一部が凝縮して復水となり、一部の蒸気と混合流体となって流体排出管３から気液分離器６へ流下する。気液分離器６で復水の分離された蒸気だけが循環蒸気管１０と蒸気ブロワー５からジャケット部９内へ強制的に循環される。 （もっと読む）

【課題】
過熱蒸気の熱量損失を低減し、処理効率の向上を図るとともに、過熱蒸気の高温状態を維持する。
【解決手段】
過熱蒸気処理装置は、処理炉１０と冷却装置兼ボイラー７０により構成される。処理炉１０は、スチーム発生部２０，過熱蒸気発生部２８，処理室５０が一体に構成されており、前記処理室５０の外側は、過熱蒸気を供給する過熱蒸気供給室５２により覆われている。更に、処理炉１０全体が、断熱室６４により覆われている。過熱蒸気発生部２８から過熱蒸気供給室５２へ送られた過熱蒸気は、処理室５０の壁面ほぼ全体に設けられた射出口を介して処理室５０へ噴出される。処理対象５６の処理に利用された後の高温の過熱蒸気は、断熱室６４へ送られ、前記処理室５０及び過熱蒸気供給室５２中の過熱蒸気の温度低下の抑制と、スチーム発生部２０及び過熱蒸気発生部２８の加熱に利用される。 （もっと読む）

（課題） 相溶状態と分離状態が温度で可逆変化する溶媒セットをもちいた汎用の化学プロセス装置にて、特願２００２−１９８２４２の開示装置の相溶・分離の時間的分離、空間的分離を解消した効率の良い反応容器（装置）を提供する。 （解決手段） 反応容器内部のひとつ（任意）の部分領域の温度を第一・第二溶媒溶液が相溶状態となる温度以上の温度に、他の部分領域の温度を、分離状態となる温度以下の温度にという反応容器内部に温度分布を形成する。あわせて相溶状態部分に光・電気などの反応促進エネルギーを供給する。
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【課題】 作業環境内への不活性ガスの漏洩を極力抑制し、安全性の高い紫外線照射装置を提供するる。
【解決手段】 空気より重い不活性ガスを入れるための容器３を備え、この容器３内に被照射物５を入れて紫外線照射を行う紫外線照射装置１である。
容器３には、底壁部７と、この底壁部７から立設された筒状の内側壁部９と、この内側壁部９を外側から囲む筒状の外側壁部１１が備えられている。内側壁部９は、その上端よりも所定位置下がった位置に開口１５が形成され、内側壁部９と外側壁部１１との間の外側空間３１には排気手段としての排気ブロア２９が接続されている。 （もっと読む）

サイクロンリアクター（１０）において、化合物を合成しかつ反応させる方法が、開示および記載される。触媒粒子、液体触媒、および／または液体反応物質を含有し得る液体キャリアが、提供され得る。この液体キャリアは、サイクロンリアクター（１０）内で渦巻き層（３８）に形成され得る。また、少なくとも１種の反応物質を含有する反応物質組成物が、渦巻き層（３８）の少なくとも一部分を通して射出され得、これにより、反応物質の少なくとも一部は、反応生成物に変換される。このサイクロンリアクター（１０）は、微妙な温度制御により、反応物質の触媒との接触を向上させ、それにより、反応の収率および選択性を上昇させる。 （もっと読む）